公开(公告)号：CN109786285B

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN201811338087.8

申请日：2018-11-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本和生 ,  户岛孝之 ,  寺田和雄 ,  小野优子

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括供给流路、排气流路、循环路径、排气切换阀和控制部。供给流路向处理室供给清洁气体。排气流路使从处理室排出的排出气体流到外部。循环路径使在排气流路流动的排出气体返回供给流路。排气切换阀设置于排气流路或循环路径，能够在排气流路与循环路径之间选择性地切换排出气体的流路。当处理室中使用的处理液的种类切换时，控制部控制排气切换阀，使得排出气体的流路从循环路径切换至排气流路。即使在增加晶片的处理中使用的处理液的种类增加的情况下，和为了减少晶片的处理中产生的雾或颗粒而增加排气容量的情况下，也能够抑制除害装置大型化。

公开(公告)号：CN107689337A

公开(公告)日：2018-02-13

申请号：CN201710657588.1

申请日：2017-08-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户岛孝之 ,  寺田正一 ,  中村淳司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/0206 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  B08B3/106 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/31122 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明涉及基板处理装置、基板处理方法及存储有实行基板处理方法的程序的存储介质。本发明的目的在于，提供能够有效地从基板将该基板上的附着物去除的基板处理装置及基板处理方法。利用处理液供给部向基板供给处理液，所述处理液含有附着物的去除剂和具有比去除剂的沸点低的沸点的溶剂；接着，利用基板加热部在处理液中的溶剂的沸点以上且低于去除剂的沸点的规定温度下对基板进行加热；接着，利用冲洗液供给部向基板供给冲洗液，由此从基板去除附着物。

公开(公告)号：CN101441991B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200810179579.7

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060070B

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN200710096191.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN1440055A

公开(公告)日：2003-09-03

申请号：CN03121763.X

申请日：2003-01-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 黑田修 ,  谷山博己 ,  户岛孝之

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/00 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68792

Abstract: 一种对基板(W)提供处理流体并处理的基板处理装置，具有保持基板(W)的保持部件(60)、支撑保持部件(60)的卡盘部件(61)、和接近基板(W)并覆盖其表面的上面部件(62)，通过由上述卡盘部件(61)支撑上面部件(62)，一体转动保持部件(60)和上面部件(62)。因此，可以抑制颗粒对基板的影响，并且可以实现节省空间和低成本。

公开(公告)号：CN109786285A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201811338087.8

申请日：2018-11-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本和生 ,  户岛孝之 ,  寺田和雄 ,  小野优子

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括供给流路、排气流路、循环路径、排气切换阀和控制部。供给流路向处理室供给清洁气体。排气流路使从处理室排出的排出气体流到外部。循环路径使在排气流路流动的排出气体返回供给流路。排气切换阀设置于排气流路或循环路径，能够在排气流路与循环路径之间选择性地切换排出气体的流路。当处理室中使用的处理液的种类切换时，控制部控制排气切换阀，使得排出气体的流路从循环路径切换至排气流路。即使在增加晶片的处理中使用的处理液的种类增加的情况下，和为了减少晶片的处理中产生的雾或颗粒而增加排气容量的情况下，也能够抑制除害装置大型化。

公开(公告)号：CN102479671B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201110344043.8

申请日：2011-11-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户岛孝之 ,  岩下光秋 ,  上川裕二 ,  中岛干雄

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/04 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置在使用高压流体进行被处理基板的处理时，能够防止高压流体经由被设于用于进行该处理的处理容器的配管向其他的设备的流入。在处理容器中，利用超临界状态或者亚临界状态的高压流体对被处理基板进行处理，该处理容器与在流体的流动方向上被分割成第1配管构件以及第2配管构件、并且供流体流通的配管连接。连接-分开机构使上述第1、第2配管构件中的至少一个在将第1配管构件和第2配管构件彼此连接起来的位置与将第1配管构件和第2配管构件分开的位置之间移动，开闭阀分别设于第1、第2配管构件、并且在使上述配管构件分开时被关闭。

公开(公告)号：CN101060069B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200710096184.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 液体处理装置包括：基板保持部，水平地保持基板，能够与基板一起旋转；旋转杯，围绕保持在基板保持部上的基板，能够与基板一起旋转；旋转机构，使旋转杯及基板保持部一体地旋转；液体供给机构，对基板供给处理液；排气排液部，进行旋转杯的排气及排液。排气排液部具有主要将从基板甩出的处理液取入而排液的呈环状的排液杯、和围绕排液杯外侧地设置并将来自旋转杯及其周围的主要是气体成分取入而排气的排气杯，分别独立地进行从排液杯的排液和从排气杯的排气。

公开(公告)号：CN101441991A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200810179579.7

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060070A

公开(公告)日：2007-10-24

申请号：CN200710096191.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。