公开(公告)号：CN101114579A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710138102.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和久 ,  金子聪 ,  饱本正己 ,  户岛孝之 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 一种液体处理系统，包括：液体处理部(21b)，水平设置有向基板(W)供给处理液来进行液体处理的多个液体处理单元(22)；处理液存留部(21h)，对向液体处理部的多个液体处理单元供给的处理液进行存留；配管单元(21f)，具有从处理液存留部向多个液体处理单元引导处理液的供给配管；和容纳液体处理部、处理液存留部及配管单元的共用的框体(21)。处理液存留部、配管单元、及液体处理部从下方开始按该顺序被设置，配管单元的供给配管具有沿着多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平配管部(70a)，处理液从水平配管部分别被导入液体处理单元。

公开(公告)号：CN101989537A

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN201010239045.6

申请日：2010-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和久

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/08

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供液体处理装置和液体处理方法。该液体处理装置能够减少液体的使用量，并且，能够抑制被处理体之间的处理程度的偏差。液体处理装置(10)具有主配管(20)、与主配管(20)连接的液体供给机构(40)、设置在主配管上的主开闭阀(22)、自主配管分支而成的多个分支管(25)、与各分支管连接的多个处理单元(50)。液体供给机构具有设置在主配管上的混合器(43)、用于供给第1液体的第1液体供给管(41b)、用于供给第2液体的第2液体源(42a)，该液体供给机构从一侧向主配管供给在混合器内由第1液体和第2液体混合而成的混合液。在处理单元内处理被处理体时，主开闭阀相对于液体供给机构从另一侧封闭主配管。

公开(公告)号：CN101441991B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200810179579.7

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060070B

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN200710096191.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060069B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200710096184.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 液体处理装置包括：基板保持部，水平地保持基板，能够与基板一起旋转；旋转杯，围绕保持在基板保持部上的基板，能够与基板一起旋转；旋转机构，使旋转杯及基板保持部一体地旋转；液体供给机构，对基板供给处理液；排气排液部，进行旋转杯的排气及排液。排气排液部具有主要将从基板甩出的处理液取入而排液的呈环状的排液杯、和围绕排液杯外侧地设置并将来自旋转杯及其周围的主要是气体成分取入而排气的排气杯，分别独立地进行从排液杯的排液和从排气杯的排气。

公开(公告)号：CN101441991A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200810179579.7

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060070A

公开(公告)日：2007-10-24

申请号：CN200710096191.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060069A

公开(公告)日：2007-10-24

申请号：CN200710096184.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 液体处理装置包括：基板保持部，水平地保持基板，能够与基板一起旋转；旋转杯，围绕保持在基板保持部上的基板，能够与基板一起旋转；旋转机构，使旋转杯及基板保持部一体地旋转；液体供给机构，对基板供给处理液；排气排液部，进行旋转杯的排气及排液。排气排液部具有主要将从基板甩出的处理液取入而排液的呈环状的排液杯、和围绕排液杯外侧地设置并将来自旋转杯及其周围的主要是气体成分取入而排气的排气杯，分别独立地进行从排液杯的排液和从排气杯的排气。

公开(公告)号：CN101989537B

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201010239045.6

申请日：2010-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和久

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/08

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供液体处理装置和液体处理方法。该液体处理装置能够减少液体的使用量，并且，能够抑制被处理体之间的处理程度的偏差。液体处理装置(10)具有主配管(20)、与主配管(20)连接的液体供给机构(40)、设置在主配管上的主开闭阀(22)、自主配管分支而成的多个分支管(25)、与各分支管连接的多个处理单元(50)。液体供给机构具有设置在主配管上的混合器(43)、用于供给第1液体的第1液体供给管(41b)、用于供给第2液体的第2液体源(42a)，该液体供给机构从一侧向主配管供给在混合器内由第1液体和第2液体混合而成的混合液。在处理单元内处理被处理体时，主开闭阀相对于液体供给机构从另一侧封闭主配管。

公开(公告)号：CN101114579B

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN200710138102.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和久 ,  金子聪 ,  饱本正己 ,  户岛孝之 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/67 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 一种液体处理系统，包括：液体处理部(21b)，水平设置有向基板(W)供给处理液来进行液体处理的多个液体处理单元(22)；处理液存留部(21h)，对向液体处理部的多个液体处理单元供给的处理液进行存留；配管单元(21f)，具有从处理液存留部向多个液体处理单元引导处理液的供给配管；和容纳液体处理部、处理液存留部及配管单元的共用的框体(21)。处理液存留部、配管单元、及液体处理部从下方开始按该顺序被设置，配管单元的供给配管具有沿着多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平配管部(70a)，处理液从水平配管部分别被导入液体处理单元。