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公开(公告)号：CN109786285A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201811338087.8
申请日：2018-11-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括供给流路、排气流路、循环路径、排气切换阀和控制部。供给流路向处理室供给清洁气体。排气流路使从处理室排出的排出气体流到外部。循环路径使在排气流路流动的排出气体返回供给流路。排气切换阀设置于排气流路或循环路径，能够在排气流路与循环路径之间选择性地切换排出气体的流路。当处理室中使用的处理液的种类切换时，控制部控制排气切换阀，使得排出气体的流路从循环路径切换至排气流路。即使在增加晶片的处理中使用的处理液的种类增加的情况下，和为了减少晶片的处理中产生的雾或颗粒而增加排气容量的情况下，也能够抑制除害装置大型化。
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公开(公告)号：CN1841655A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610067114.3
申请日：2006-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , F24F7/10
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，防止比如附着在处理完成的基板上的腐蚀性气体等处理气体的气体成分和搬送室等的排气一起，原样地向外部排出，可减轻工厂的排器设备等的负担。该基板处理装置具备用于对晶片实施特定处理的处理单元和向该处理单元搬进搬出晶片的搬送室(200)，搬送室(200)具有：向搬送室(200)内导入外气的供气部(230)、与供气部(230)相对地设置，排出搬送室(200)内气体的排气部(250)、设置在排气部(250)上，由至少除去排气中所含有的有害成分的有害成分除去过滤器(256)构成的排气过滤机构(254)。
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公开(公告)号：CN109786285B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201811338087.8
申请日：2018-11-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括供给流路、排气流路、循环路径、排气切换阀和控制部。供给流路向处理室供给清洁气体。排气流路使从处理室排出的排出气体流到外部。循环路径使在排气流路流动的排出气体返回供给流路。排气切换阀设置于排气流路或循环路径，能够在排气流路与循环路径之间选择性地切换排出气体的流路。当处理室中使用的处理液的种类切换时，控制部控制排气切换阀，使得排出气体的流路从循环路径切换至排气流路。即使在增加晶片的处理中使用的处理液的种类增加的情况下，和为了减少晶片的处理中产生的雾或颗粒而增加排气容量的情况下，也能够抑制除害装置大型化。
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公开(公告)号：CN100433248C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200610067114.3
申请日：2006-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , F24F7/10
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，防止比如附着在处理完成的基板上的腐蚀性气体等处理气体的气体成分和搬送室等的排气一起，原样地向外部排出，可减轻工厂的排器设备等的负担。该基板处理装置具备用于对晶片实施特定处理的处理单元和向该处理单元搬进搬出晶片的搬送室(200)，搬送室(200)具有：向搬送室(200)内导入外气的供气部(230)、与供气部(230)相对地设置，排出搬送室(200)内气体的排气部(250)、设置在排气部(250)上，由至少除去排气中所含有的有害成分的有害成分除去过滤器(256)构成的排气过滤机构(254)。
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