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公开(公告)号:CN116418255A
公开(公告)日:2023-07-11
申请号:CN202111659471.X
申请日:2021-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明实施例公开了一种光刻机系统及其驱动控制方法,光刻机系统包括永磁直线电机运动平台、多个永磁直线电机以及多个位置传感器;驱动控制方法包括:在所述运动平台工作时,检测得到所述永磁直线电机的电磁参数,所述永磁直线电机的电磁参数至少包括电机位置信号和电机速度信号;若所述永磁直线电机的电磁参数不满足预设电机运行规则,确定所述永磁直线电机位置工作状态异常,并将所述永磁直线电机的工作模式切换为备用控制模式。本发明实施例,解决了位置传感器失效时导致永磁直线电机异常飞车问题,提高了系统稳定性。
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公开(公告)号:CN110095224A
公开(公告)日:2019-08-06
申请号:CN201810097358.9
申请日:2018-01-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G01L9/08
Abstract: 本发明属于运动状态测量技术领域,具体公开了一种测力组件,包括:上连接块和连接于上连接块下端的两个测力单元;每个测力单元均包括弹性伸缩元件、下连接块及压力传感器,弹性伸缩元件的上端与上连接块的下端铰接,下端与下连接块的上端铰接,下连接块的下端与压力传感器的上端连接;两个弹性伸缩元件的轴线处于同一平面且呈预设角度。本发明还公开了一种六自由度测力机构,包含静平台、与静平台平行的动平台及连接于静平台和动平台间的三个所述测力组件。本发明公开的测力组件和六自由度测力机构,可以简化测力系统的复杂性和提高六自由度测力机构使用灵活性。
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公开(公告)号:CN109725495A
公开(公告)日:2019-05-07
申请号:CN201711046800.7
申请日:2017-10-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种防撞装置及曝光机台,所述防撞装置包括力传递机构和缓冲机构,所述力传递机构包括一环形结构,所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体;所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置,多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。所述曝光机台包括曝光台以及所述防撞装置。本发明提供的防撞装置能够承受所述物体由于惯性而产生的碰撞,避免了所述物体与其他部件发生直接碰撞,保护了所述物体和所述其他部件;同时,此种结构的防撞装置占用空间小以及可承受来自所述物体任意方向上的碰撞。
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公开(公告)号:CN104949610B
公开(公告)日:2018-08-24
申请号:CN201410109212.3
申请日:2014-03-24
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G01B7/30
Abstract: 本发明公开一种磁浮线缆台电机磁对准系统,包括:磁浮线缆台电机,所述磁浮线缆台电机包括动子线圈组件和定子磁钢阵列组件;所述动子线圈组件的绕线柱上设置第一线性霍尔传感元件,用于测量磁场的Z向磁密值,根据所述磁密值计算磁对准角度所述磁对准角度的计算公式为:所述第一线性霍尔传感元件为两个,且沿Y向相距Sd,且满足:Sd=(2n+0.5)τ;其中n为大于等于0的整数,τ为所述定子磁钢阵列组件的磁极距,y为所述电机所在的位置,H1、H2分别为线性霍尔传感元件测得的两个Z向磁密值。
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公开(公告)号:CN103901734B
公开(公告)日:2018-05-25
申请号:CN201210587444.0
申请日:2012-12-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/709 , G03F7/70991 , H01L21/68764
Abstract: 本发明涉及一种工件台线缆装置,包括工件台、硅片台、线缆设备、线缆连接台以及X向运动设备和Y向运动设备,所述硅片台与线缆连接台分别安装于所述工件台的上侧和下侧,所述线缆设备的两端分别连接至所述硅片台和线缆连接台,所述X向运动设备连接至所述线缆连接台并沿X向运动,所述Y向运动设备连接至所述线缆连接台并沿Y向运动。本发明利用沿X向运动的X向运动设备和沿Y向运动的Y向运动设备带动所述线缆连接台跟随所述硅片台在X、Y向同步运动,使得线缆设备跟随所述硅片台运动,以减少线缆设备对所述硅片台运动产生的扰动,并减少线缆设备在硅片台运动中的弯折次数,增加线缆设备的使用寿命,同时,本发明结构简单。
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公开(公告)号:CN213904062U
公开(公告)日:2021-08-06
申请号:CN202023243260.1
申请日:2020-12-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种吸附装置及光刻机。所述吸附装置中承载台包括至少一个吸盘吸附通道以及至少一个待吸附物吸附通道;吸盘包括第一表面和第二表面,第一表面与承载面相对设置,第二表面位于第一表面远离承载面的一侧;第一表面和第二表面上均设置有多个第一凸点以及第一密封框,第一密封框沿对应表面的边缘设置,同一表面上的多个第一凸点位于第一密封框内;第一表面、承载面以及第一表面上的第一密封框构成吸盘吸附腔,吸盘吸附通道与吸盘吸附腔连通;吸盘还包括至少一个抽真空通道,抽真空通道连通对应待吸附物吸附通道与第二表面。本实用新型实施例提供的技术方案,提高了吸附装置对待吸附物体的吸附精度。
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