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公开(公告)号:CN213904062U
公开(公告)日:2021-08-06
申请号:CN202023243260.1
申请日:2020-12-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种吸附装置及光刻机。所述吸附装置中承载台包括至少一个吸盘吸附通道以及至少一个待吸附物吸附通道;吸盘包括第一表面和第二表面,第一表面与承载面相对设置,第二表面位于第一表面远离承载面的一侧;第一表面和第二表面上均设置有多个第一凸点以及第一密封框,第一密封框沿对应表面的边缘设置,同一表面上的多个第一凸点位于第一密封框内;第一表面、承载面以及第一表面上的第一密封框构成吸盘吸附腔,吸盘吸附通道与吸盘吸附腔连通;吸盘还包括至少一个抽真空通道,抽真空通道连通对应待吸附物吸附通道与第二表面。本实用新型实施例提供的技术方案,提高了吸附装置对待吸附物体的吸附精度。