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公开(公告)号：CN104753306B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201310752308.7
申请日：2013-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H02K41/02
CPC classification number: H02K41/02 , H02K2201/18
Abstract: 本发明公开了一种磁钢阵列和磁浮平面电机，该磁钢阵列包括：一维海尔贝克磁钢阵列和二维海尔贝克磁钢阵列，所述一维海尔贝克磁钢阵列和二维海尔贝克磁钢阵列共同构成方形的磁钢阵列，所述二维海尔贝克磁钢阵列分设于该方形磁钢阵列一条对角线的两端位置处。本发明的磁钢阵列采用了二维海尔贝克磁钢阵列与一维海尔贝克磁钢阵列相结合的方式，与同样尺寸的纯一维磁钢阵列相比，增大了磁浮平面电机的推力常数。
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公开(公告)号：CN104795920B
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201410025032.7
申请日：2014-01-20
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种六自由度微动装置，包括：上、下背板、设置在所述上、下背板之间且间隔设置的水平向音圈电机和垂向音圈电机，所述水平向音圈电机和垂向音圈电机均采用PCB线圈，使得微动装置的多个音圈电机结构尺寸更加接近设计值，从而减小了因结构尺寸与设计值存在偏差而导致的推力波动与推力干扰。由于PCB线圈的工艺限制，使微动装置中电机在同等条件下相对于漆包绕制的传统电机推力常数小，减少额为30%左右。
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公开(公告)号：CN104901586B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201410073754.X
申请日：2014-03-03
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种磁钢单元，包括方形第一磁钢和围绕第一磁钢的四个方形第二磁钢，所述第一磁钢是N磁铁或S磁铁，所述第二磁钢极性与第一磁钢相反，所述第一磁钢和/或第二磁钢的四边通过设置有倒角的长方体形状的第三磁钢无缝隙连接，所述第三磁钢的磁化方向是指向N磁铁或者远离S磁铁。还公开了一种磁钢阵列、磁浮平面电机、三种线圈阵列、一种光刻装置。本发明所提供的磁钢单元、磁钢阵列提高了定子磁钢占积率，提高磁浮平面电机磁密，电机推力常数增大2%；本发明所提供的线圈阵列使磁浮平面电机动子结构更加紧凑、坚固，提高电机模态稳定性及高控制精度。
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公开(公告)号：CN108663907A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201710210545.9
申请日：2017-03-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，基地台系统中的工件台系统包括一基底曝光工位，位于光刻机的曝光区域；一转接台，位于所述基底曝光工位的一侧；至少两个微动台，用于承载基底；一粗动台，用于带动所述微动台在所述基底曝光工位上移动；当一个微动台位于所述转接台上进行基底交接时，所述粗动台带动另一个微动台移动至所述基底曝光工位上，使得位于该微动台上的基底曝光。则本发明提供的工件台系统中仅需在基底曝光工位一侧设置用于放置转接台以及一个微动台的空间，因此相对于现有技术，本发明提供的工件台系统并未占用较大的空间，节省了占地成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105322831B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201410331702.8
申请日：2014-07-11
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H02N15/00
Abstract: 本发明涉及一种六自由度线缆拖动装置，包括X向电机、Y向电机及连接机构，连接机构的一端延伸至平面电机定子的底部，另一端延伸至平面电机定子的上方；X向电机包括X向电机定子线圈、X向电机动子磁铁及X向电机动子导轨，X向电机定子线圈与X向电机动子导轨均沿X方向固定于连接机构上，X向电机动子磁铁限位于X向电机动子导轨内，与线缆固接；Y向电机包括Y向电机动子线圈和Y向电机定子磁钢，Y向电机定子磁钢固定于平面电机定子的底部，Y向电机动子线圈与连接机构固接，并在Y向电机定子磁钢上运动，线缆与Y向电机动子线圈连接端固接。利用X向电机拖动线缆沿X向同步跟随；Y向电机通过连接机构拖动线缆沿Y向同步跟随。
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公开(公告)号：CN104949610B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201410109212.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G01B7/30
Abstract: 本发明公开一种磁浮线缆台电机磁对准系统，包括：磁浮线缆台电机，所述磁浮线缆台电机包括动子线圈组件和定子磁钢阵列组件；所述动子线圈组件的绕线柱上设置第一线性霍尔传感元件，用于测量磁场的Z向磁密值，根据所述磁密值计算磁对准角度所述磁对准角度的计算公式为：所述第一线性霍尔传感元件为两个，且沿Y向相距Sd，且满足：Sd＝(2n+0.5)τ；其中n为大于等于0的整数，τ为所述定子磁钢阵列组件的磁极距，y为所述电机所在的位置，H1、H2分别为线性霍尔传感元件测得的两个Z向磁密值。
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公开(公告)号：CN104753307B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201310752310.4
申请日：2013-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H02K41/03
Abstract: 本发明公开了一种磁浮平面电机，包括：磁钢阵列和设置在所述磁钢阵列上的线圈阵列，所述磁钢阵列包括方形第一磁钢和围绕第一磁钢设置的方形第二磁钢，所述第二磁钢极性与第一磁钢相反，所述第一磁钢和/或第二磁钢的四边通过设置有倒角的长方体形状的第三磁钢无缝隙连接。本发明采用若干线圈形成发力体，使得电机动子结构更为紧凑、坚固。磁钢阵列的结构改变，不仅提高了磁钢占积率，改善了电机磁密分布；而且在同等条件下，使得电机的推力常数增大至少2%。
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公开(公告)号：CN108663907B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201710210545.9
申请日：2017-03-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，基地台系统中的工件台系统包括一基底曝光工位，位于光刻机的曝光区域；一转接台，位于所述基底曝光工位的一侧；至少两个微动台，用于承载基底；一粗动台，用于带动所述微动台在所述基底曝光工位上移动；当一个微动台位于所述转接台上进行基底交接时，所述粗动台带动另一个微动台移动至所述基底曝光工位上，使得位于该微动台上的基底曝光。则本发明提供的工件台系统中仅需在基底曝光工位一侧设置用于放置转接台以及一个微动台的空间，因此相对于现有技术，本发明提供的工件台系统并未占用较大的空间，节省了占地成本。
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