公开(公告)号：CN109427903A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810844288.9

申请日：2018-07-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 闵庚石 ,  金东权 ,  金哲 ,  吴怜默 ,  李正允 ,  郑铉澔

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/423

CPC classification number: H01L21/76232 ,  H01L21/823481 ,  H01L21/823821 ,  H01L21/823878 ,  H01L21/845 ,  H01L27/0886 ,  H01L27/1211 ,  H01L29/41791 ,  H01L29/785 ,  H01L29/4232 ,  H01L29/78

Abstract: 本公开的半导体器件包括：衬底，具有有源图案，所述有源图案在第一方向上延伸；第一栅极结构及第二栅极结构，在与所述第一方向相交的第二方向上延伸以横越所述有源图案，所述第一栅极结构与所述第二栅极结构在彼此在所述第二方向上面对的同时彼此隔离开；栅极隔离图案，设置在所述第一栅极结构与所述第二栅极结构之间，所述栅极隔离图案具有空隙；以及填充绝缘部分，在所述栅极隔离图案内定位在比所述第一栅极结构的上表面及所述第二栅极结构的上表面低的位置，所述填充绝缘部分连接到至少所述空隙的上端。本公开的半导体器件具有改善的集成度。

公开(公告)号：CN108695378A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810289668.0

申请日：2018-04-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 权台纯 ,  李正允 ,  池雅凛 ,  闵庚石 ,  成金重

IPC: H01L29/06 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L29/78618 ,  B82Y10/00 ,  H01L21/02603 ,  H01L21/764 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0673 ,  H01L29/165 ,  H01L29/41725 ,  H01L29/42392 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/775 ,  H01L29/7845 ,  H01L29/7848 ,  H01L29/78696 ,  H01L29/78

Abstract: 公开一种半导体装置。半导体装置包含衬底、沟道半导体图案、栅极电极、源区/漏区以及气隙。沟道半导体图案竖直地堆叠在衬底上且彼此间隔开。栅极电极跨过沟道半导体图案。源区/漏区位于栅极电极的相对侧边，源区/漏区连接到沟道半导体图案。气隙位于衬底与源区/漏区的底部表面之间，以使得源区/漏区的底部表面不接触衬底。

公开(公告)号：CN108461494A

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201810087764.7

申请日：2018-01-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑铉澔 ,  李正允 ,  权台纯 ,  闵庚石 ,  成金重 ,  林青美 ,  池雅凜 ,  洪承秀

IPC: H01L27/092 ,  H01L21/8238 ,  H01L29/423

CPC classification number: H01L29/4236 ,  H01L27/0924 ,  H01L27/10 ,  H01L29/0653 ,  H01L27/092 ,  H01L21/823828 ,  H01L21/823878

Abstract: 半导体器件可以包括衬底上的第一有源图案，第一有源图案包括从衬底突出的多个第一有源区。第二有源图案可以在衬底上，包括从衬底突出的多个第二有源区。第一栅电极可以包括以第一高度在第一有源图案上延伸的上部，并且包括以比第一栅电极的第一高度低的第二高度在第一有源图案上延伸的凹入部分。第二栅电极可以包括以第一高度在第二有源图案上延伸的上部，并且包括以比第二栅电极的第一高度低的第二高度在第二有源图案上延伸的凹入部分。绝缘图案可以位于第一栅电极的凹入部分和第二栅电极的凹入部分之间，并且与第一栅电极的凹入部分和第二栅电极的凹入部分直接相邻，绝缘图案使第一栅电极和第二栅电极彼此电隔离。

公开(公告)号：CN108231765A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201711394204.8

申请日：2017-12-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 成金重 ,  李正允 ,  洪承秀 ,  闵庚石 ,  朴胜周 ,  吴怜默 ,  林青美

IPC: H01L27/088

Abstract: 本发明构思涉及一种半导体器件。有源图案从衬底突出。有源图案包括第一有源图案、与第一有源图案间隔开第一距离的第二有源图案、以及与第二有源图案间隔开大于第一距离的第二距离的第三有源图案。栅极间隔物设置在跨越有源图案的栅电极的侧壁上。源极/漏极区域包括设置在有源图案中的一个的区域上的第一源极/漏极区域至第三源极/漏极区域。有源图案中的一个的所述区域邻近于栅电极的一侧设置。第一保护绝缘图案和第二保护绝缘图案分别设置在第一源极/漏极区域和第二源极/漏极区域下面的第一有源图案与第二有源图案之间以及在第二源极/漏极区域和第三源极/漏极区域下面的第二有源图案与第三有源图案之间的衬底上。

公开(公告)号：CN107785430A

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201710641779.9

申请日：2017-07-31

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴胜周 ,  李正允 ,  闵庚石 ,  成金重 ,  林青美 ,  洪承秀

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/423 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L27/0886 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823468 ,  H01L29/42356 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/7855 ,  H01L29/4232 ,  H01L29/66484 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/7853

Abstract: 本发明提供一种半导体装置，包括：第一有源鳍片阵列及第二有源鳍片阵列，在衬底上设置成在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上相互间隔开；一对第一栅极间隔壁，在第一及第二有源鳍片阵列上设置成在第二方向上延伸，且一对第一栅极间隔壁中的每一个包括具有第一宽度的第一区、具有第二宽度的第二区、及位于第一区与第二区之间且具有第三宽度的第三区；其中一对第一栅极间隔壁的第一区位于第一有源鳍片阵列上，一对第一栅极间隔壁的第二区位于第二有源鳍片阵列上，一对第一栅极间隔壁的第三区位于第一有源鳍片阵列与第二有源鳍片阵列之间；第一宽度及第二宽度中的每一个大于第三宽度。所述半导体装置可改善生产良率。