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公开(公告)号：CN103217730A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310134626.7
申请日：2013-04-18
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明涉及一种用于光学滤波的渐变光学厚度负滤光片膜系。该膜系应用光学厚度呈函数渐变的主膜系及匹配膜系构建了窄带高反射、两侧宽带高透射的高性能负滤光片。本发明提出的膜系结构采用两种折射率材料，各膜层光学厚度适合常规薄膜监控方式，相比原有渐变折射率及等效层负滤光片具有更高的可制备性。由本发明构建的窄带负滤光片具有材料选择范围广、能实现频带宽、制作成本低、易于推广等优点，在光电探测器、激光防护、光谱学等领域具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN103042008A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210569708.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。
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公开(公告)号：CN102873048A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210417513.3
申请日：2012-10-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜表面的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签轻拭激光薄膜表面，将擦拭后的激光薄膜置于第一清洗槽中，第一清洗槽中加入碱性溶液对该样品进行清洗，溶液温度为室温；所述碱性溶液体积比为NH4OH：H2O2：H2O=1:10:50；将所得溶液分别在120kHz～180kHz、200kHz～300kHz频率下先后超声2～4分钟；所得样品放置于第二清洗槽中，用去离子水漂洗，去离子水温度为室温；将样品放置第三清洗槽3中，第三清洗槽中加入去离子水，分别在120kHz～180kHz、200kHz～300kHz频率下先后超声3～6分钟；取出样品，重复清洗，干燥，即得所需产品。本发明的优点是在达到较高清洗效率、有效去除表面有机污染物和污染颗粒的同时，对激光薄膜不会造成物理损伤，避免了薄膜在高功率激光系统使用中因为薄膜表面吸附的颗粒而引起的薄膜烧蚀损坏，保证激光薄膜在高功率激光系统使用中具有高的损伤阈值。
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公开(公告)号：CN102747328A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN119941541A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202510415259.0
申请日：2025-04-03
Applicant: 同济大学
IPC: G06T5/60 , G06N3/0455 , G06N3/0464 , G06N3/082 , G06N5/04
Abstract: 本发明公开了一种基于端到端敏感度分析的单片计算成像边缘重建方法，涉及计算成像技术领域。该方法包括：对预训练深度学习模型在边缘进行性能评估，并替换或去除硬件支持不佳或耗时过大的算子；分析深度学习模型的剪枝敏感度和量化敏感度；基于得到的剪枝敏感度和量化敏感度分析结果，对深度学习模型进行剪枝和量化；测试经过敏感度剪枝和量化的模型图像重建的性能和速度能否满足实际应用需求；重复上述步骤，直到图像重建的性能和速度满足预设的设计要求。本发明提出的一种基于端到端敏感度分析的单片计算成像边缘重建方法，在保持模型性能的同时，能有效平衡重建质量与计算效率，大幅提升在边缘平台上的推理速度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118938605B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202410993763.4
申请日：2024-07-24
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。
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公开(公告)号：CN115747745B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202211491382.3
申请日：2022-11-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种斜入射高性能窄带滤光薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤1：分别制备倾斜沉积的高、低折射率材料的单层膜；步骤2分别测试高、低折射率材料的单层膜的透射率和反射率曲线，根据透射率和反射率分别拟合获取高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数；步骤3：根据高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数，设计并确定在工作角度下，五腔窄带滤光薄膜的膜系结构；步骤4：根据五腔窄带滤光薄膜的膜系结构，制备斜入射高性能窄带滤光薄膜，并测试斜入射高性能窄带滤光薄膜的透射光谱。与现有技术相比，本发明能够解决现有技术中入射角度大于25°时窄带滤光薄膜的光学特性会发生显著变化的问题，且薄膜透过率高。
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公开(公告)号：CN118938421B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202410983252.4
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种高能激光内通道的气体热效应控制装置，涉及激光技术领域，设置于内通道上，激光内通道包括依次垂直连接的进光段、转折段、输出段，包括波前探测装置和气体散热装置，波前探测装置包括设置于进光段一端的波前探测器和设置于输出段一端的信号光发射器，气体散热装置包括均匀气流单元、控温流道、气流通道和监测装置，若干气流通道均匀分布于内通道的侧壁上，控温流道设置于内通道的侧壁内，控温流道与气流通道间隔分布，均匀气流单元覆盖在气流通道上。本发明采用上述结构的一种用于高能激光内通道的气体热效应控制装置，能够实时探测内通道气体热效应导致的气体热畸变，均匀稳定控制内通道气体的温度，保证光束传输不变性。
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公开(公告)号：CN118730494B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410983251.X
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，涉及高功率激光系统领域，包括振动宽温原位平台和集成化多功能检测平台，振动宽温原位平台包括振动平台和安装在振动平台上的宽温平台，待测高功率激光系统固定在宽温平台内，集成化多功能检测平台包括调整架和设置于调整架上的集成平台，集成平台的上方设置有光束进入装置、光束探测器、功率能量检测装置、光轴位置检测装置、可见激光调节装置。本发明采用上述结构的一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，通过振动、温度可调节的模拟真实环境场景的原位安装平台，实现高功率激光系统多性能参数的原位的检测。
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公开(公告)号：CN119245502A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411278097.2
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
IPC: G01B9/02055 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，属于空气折射率测量技术领域。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，采用光栅作为位移测量基准，避免了空气因素对测量数据的干扰，在相同测量环境下比用激光波长作为基准的激光干涉仪更稳定，测得的数据可比性更高，测量重复稳定性更大。避免了传统依赖于大量环境传感器(如温度、湿度、气压传感器)的校准方法，简化校准过程，提高校准效率，校准过程与测量过程并行进行，无需中断测量执行独立的校准操作。在动态变化的测量环境中，能够即时调整校准参数以响应环境的波动，确保测量数据的精确性和可靠性。
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