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公开(公告)号：CN119124001B
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202411278096.8
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的外差式精密位移测量系统，属于精密位移测量技术领域。包括单频激光模块、移频模块、外差位移测量模块、自溯源光栅和信号处理模块。单频激光模块产生单频激光，经过移频模块，得到两个频率不同且偏振态互相正交的线偏振光，构成外差光源。外差激光经外差位移测量模块，入射至自溯源光栅上，衍射光沿原光路返回至外差位移测量模块，得到具有位移信息的测量信号与参考信号，最后通过信号处理模块解算出两路信号的相位差并做位移换算。实现一种具有高稳定性与分辨力，且位移量值独立溯源的超精密位移测量系统，兼具外差光栅干涉仪的抗环境干扰能力，有着测量高分辨力，测量结果独立且可靠溯源的优势。
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公开(公告)号：CN119126248B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411284562.3
申请日：2024-09-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，属于检测仪表领域，包括MEMS谐振子、自溯源光栅干涉仪和数据处理模块，所述MEMS谐振子包括折叠梁、固定框架和质量块，所述折叠梁两端与所述固定框架内侧壁连接，所述质量块通过所述折叠梁支撑悬浮于所述固定框架中心，所述自溯源光栅干涉仪包括自溯源光栅和干涉测量读数头，所述自溯源光栅设置在所述质量块上。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，具有极高测量度，并且位移测量可实时溯源，相比于传统MOMES相对重力仪能够提高其位移测量的准确度，减小重力加速度测量的非线性效应。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119245502A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411278097.2
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
IPC: G01B9/02055 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，属于空气折射率测量技术领域。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，采用光栅作为位移测量基准，避免了空气因素对测量数据的干扰，在相同测量环境下比用激光波长作为基准的激光干涉仪更稳定，测得的数据可比性更高，测量重复稳定性更大。避免了传统依赖于大量环境传感器(如温度、湿度、气压传感器)的校准方法，简化校准过程，提高校准效率，校准过程与测量过程并行进行，无需中断测量执行独立的校准操作。在动态变化的测量环境中，能够即时调整校准参数以响应环境的波动，确保测量数据的精确性和可靠性。
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公开(公告)号：CN119125604A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411284558.7
申请日：2024-09-13
Applicant: 同济大学
IPC: G01P15/03 , G01P15/097 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的超高线性度MOMES加速度计，属于检测仪表领域，包括MEMS谐振子、自溯源光栅干涉仪和数据处理模块，所述MEMS谐振子包括折叠梁、固定外框和质量块，所述折叠梁外侧壁与所述固定外框内侧壁连接，所述质量块设置在所述折叠梁底部，所述自溯源光栅干涉仪包括自溯源光栅和干涉测量读数头，所述自溯源光栅设置在所述质量块上。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅的超高线性度MOMES加速度计，具有极高测量线性度，并且位移测量可实时溯源，相比于传统MOMES加速度计能够提高其位移测量的准确度，减小加速度测量的非线性效应。
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公开(公告)号：CN119126248A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411284562.3
申请日：2024-09-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，属于检测仪表领域，包括MEMS谐振子、自溯源光栅干涉仪和数据处理模块，所述MEMS谐振子包括折叠梁、固定框架和质量块，所述折叠梁两端与所述固定框架内侧壁连接，所述质量块通过所述折叠梁支撑悬浮于所述固定框架中心，所述自溯源光栅干涉仪包括自溯源光栅和干涉测量读数头，所述自溯源光栅设置在所述质量块上。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，具有极高测量度，并且位移测量可实时溯源，相比于传统MOMES相对重力仪能够提高其位移测量的准确度，减小重力加速度测量的非线性效应。
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公开(公告)号：CN119124001A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411278096.8
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的外差式精密位移测量系统，属于精密位移测量技术领域。包括单频激光模块、移频模块、外差位移测量模块、自溯源光栅和信号处理模块。单频激光模块产生单频激光，经过移频模块，得到两个频率不同且偏振态互相正交的线偏振光，构成外差光源。外差激光经外差位移测量模块，入射至自溯源光栅上，衍射光沿原光路返回至外差位移测量模块，得到具有位移信息的测量信号与参考信号，最后通过信号处理模块解算出两路信号的相位差并做位移换算。实现一种具有高稳定性与分辨力，且位移量值独立溯源的超精密位移测量系统，兼具外差光栅干涉仪的抗环境干扰能力，有着测量高分辨力，测量结果独立且可靠溯源的优势。
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公开(公告)号：CN118938606A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410993764.9
申请日：2024-07-24
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的电子束直写加工偏差校准修正方法，包括以下步骤:利用原子光刻技术制备标准光栅；获取涂有电子束光刻胶的衬底；生成特定周期的光栅GDS文件，并导入电子束光刻机的电脑，利用电子束光刻技术制备待测光栅；通过信号比对装置对标准光栅和待测光栅的周期信号进行计算和比对测量，得到电子束光刻制备的待测光栅的误差值；通过周期误差值反馈，在版图绘制中修改曝光版图的周期，并利用电子束光刻重新制备新光栅。本发明通过自溯源光栅修正电子束光刻制备光栅的周期误差，具有测量学上周期的自溯源性，可以为电子束光刻技术提供直接的精准标尺，解决了制备过程和传统测量方法带来的误差，减小了电子束光刻技术的误差。
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