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公开(公告)号：CN106099629B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610629924.7
申请日：2016-08-04
Applicant: 同济大学
IPC: H01S3/06
Abstract: 本发明涉及一种超宽角度范围抑制板条激光器自发放大辐射的方法，具体为：在激光增益介质和金属热沉之间使用一个金属/介质宽带吸收膜来抑制自发放大辐射。金属/介质宽带吸收膜包括两部分，靠近激光增益介质部分是一层微米级厚度SiO2倏逝波薄膜，以保证信号激光全反射传输，在SiO2倏逝波薄膜之上镀制一种宽角度减反射高吸收金属/介质薄膜，使其能够在0°~全反射角°的超宽角度范围内，吸收穿透SiO2倏逝波薄膜的杂散激光，来抑制自发放大辐射。本发明可以根据实际的需求设计波长，在激光器领域有广阔的应用前景，可以从原理上解决限制激光器功率增大的因素，具有较高的可制备性，便于推广，为高功率固体激光器中ASE抑制问题提供一个全新的解决方案。
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公开(公告)号：CN107893216A
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201710944000.0
申请日：2017-09-30
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种修正石英监控法制备宽带增透膜沉积误差的方法，该方法包括以下步骤：1)设计监控厚度，制备一四层膜系，该四层膜系包括由高折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜和由低折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜；2)通过对制备的四层膜系的逆向反演及线性拟合，获得高折射率材料和低折射率材料的薄膜厚度偏差；3)以相同材料的所述薄膜厚度偏差对待制备的宽带增透膜的镀膜参数进行修正。与现有技术相比，本发明可以有效地修正沉积误差并提高光谱性能、操作简单且普适性强，使得宽带增透膜可以在实际中广泛生产。
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公开(公告)号：CN104158076A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201410356514.0
申请日：2014-07-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高Tm激光器腔镜用薄膜损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对2μm波段Tm激光器腔镜用薄膜的瓶颈——薄膜的水吸收。2μm波段的激光处于水和水蒸气的强吸收区，且包含1.94μm、2.09μm和2.94μm等水吸收峰，已有的研究表明造成2μm波段激光薄膜损伤阈值低的主要因素就是薄膜内的水吸收。本发明通过采用离子源辅助沉积技术，离子源电压范围为600V~900V，同时采用金属Hf和石英环SiO2两种镀膜源材料，沉积速率分别为0.15nm/s和1nm/s，可以减少薄膜中吸收水的含量，甚至使薄膜中没有水，从而提供了一种提高Tm激光器腔镜用薄膜损伤阈值的制备方法。该方法可以极大幅度提高Tm激光器腔镜用薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、效率高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN104032266A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410050291.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Inventor： 程鑫彬 , 阿卜杜萨拉木·图尼亚孜 , 焦宏飞 , 鲍刚华 , 王占山
Abstract: 本发明涉及一种提高光学薄膜损伤阈值的设计方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射膜中影响损伤阈值的最主要的缺陷-节瘤缺陷。节瘤缺陷的阈值决定整个薄膜的阈值。目前提高高反膜激光损伤阈值的技术手段主要通过消除节瘤，即尽可能的降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但是在目前的技术条件下，消除节瘤需要的工艺难度大，需要的成本高，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接提高节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，电场在节瘤损伤特性中起很重要的角色，而节瘤中的电场与节瘤的几何特性和光谱特性信息相关。通过改变膜系设计来降低节瘤中的电场强度，从而提高节瘤的损伤阈值。此方法具有针对性强，效率高，简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103235355A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310108420.7
申请日：2013-04-01
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种抑制半波孔的倍频分束薄膜，主要针对倍频分束镜中影响半波孔的两个关键因素——薄膜厚度误差和材料非均质性，通过在高低折射率材料之间增加导纳匹配层，抑制薄膜厚度误差和材料非均质性对半波孔的影响；导纳匹配层可以用矢量法很容易的得到。常规薄膜设计软件无法设计和分析非均质性薄膜，加上厚度误差无法避免，因此当前设计倍频分束薄膜的主流方法是回避半波孔。该发明将非均质性薄膜的厚度优化计算转换成均匀薄膜的厚度优化计算，利用常规薄膜设计软件即可完成设计；该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106066498B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201610595894.2
申请日：2016-07-27
Applicant: 同济大学 , 光驰科技(上海)有限公司
Abstract: 本发明涉及一种修正薄膜元器件高低折射率材料相对厚度配比的膜系，该膜系的基本结构为Sub|HL1.5HLHL1.5HL|Air，Sub是薄膜元件基板，Air是出射介质空气，H和L分别是1/4中心波长光学厚度的高低折射率材料。采用膜系结构的薄膜元件透射光谱特征峰较多，中心波长反射带右侧两个等高特征峰用来修正高低材料的相对膜厚配比。本发明结构简单、可参考光谱特征峰多、峰高对膜层材料配比敏感，光谱可用常规的光学监控或晶振监控实现，具有较高的可制备性，便于推广。本发明在薄膜光学领域有广阔的实用前景，可用于镀膜机内膜层厚度均匀性及大尺寸光学元件整体厚度均匀性的修正，并且可用来校正高低折射率膜层材料相对厚度的配比，提高高精度光谱需求薄膜元件的制备精度和量产程度。
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公开(公告)号：CN106099629A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610629924.7
申请日：2016-08-04
Applicant: 同济大学
IPC: H01S3/06
CPC classification number: H01S3/0625
Abstract: 本发明涉及一种超宽角度范围抑制板条激光器自发放大辐射的方法，具体为：在激光增益介质和金属热沉之间使用一个金属/介质宽带吸收膜来抑制自发放大辐射。金属/介质宽带吸收膜包括两部分，靠近激光增益介质部分是一层微米级厚度SiO2倏逝波薄膜，以保证信号激光全反射传输，在SiO2倏逝波薄膜之上镀制一种宽角度减反射高吸收金属/介质薄膜，使其能够在0°~全反射角°的超宽角度范围内，吸收穿透SiO2倏逝波薄膜的杂散激光，来抑制自发放大辐射。本发明可以根据实际的需求设计波长，在激光器领域有广阔的应用前景，可以从原理上解决限制激光器功率增大的因素，具有较高的可制备性，便于推广，为高功率固体激光器中ASE抑制问题提供一个全新的解决方案。
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公开(公告)号：CN103235355B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201310108420.7
申请日：2013-04-01
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种抑制半波孔的倍频分束薄膜，主要针对倍频分束镜中影响半波孔的两个关键因素——薄膜厚度误差和材料非均质性，通过在高低折射率材料之间增加导纳匹配层，抑制薄膜厚度误差和材料非均质性对半波孔的影响；导纳匹配层可以用矢量法很容易的得到。常规薄膜设计软件无法设计和分析非均质性薄膜，加上厚度误差无法避免，因此当前设计倍频分束薄膜的主流方法是回避半波孔。该发明将非均质性薄膜的厚度优化计算转换成均匀薄膜的厚度优化计算，利用常规薄膜设计软件即可完成设计；该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103175886A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310090224.1
申请日：2013-03-20
Applicant: 同济大学
IPC: G01N27/60
Abstract: 本发明涉及一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法，属于高功率激光元器件技术领域。该方法通过调控电场在基板亚表面中的分布，可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面中的深度分布信息。该方法的步骤包括基于高反射膜的基板亚表面电场设计、基板的清洗、高反射薄膜制备、高反射薄膜的光谱测量及拟合、损伤阈值测试。实验证明，采用本发明可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面数十纳米至数百纳米深度范围内分布的相对信息。该方法具有设计思路简单，可操作性强，检测结果直观可靠等优点，对于改进光学基板冷加工技术，控制基板亚表面层中残余的吸收性颗粒，提高光学基板的损伤阈值具有重要的指导意义。
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公开(公告)号：CN103014616A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210507272.1
申请日：2012-12-03
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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