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公开(公告)号：CN103215540A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310102551.4
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种提高偏振膜激光损伤阈值的制备方法，主要针对偏振激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心、薄膜中的吸收及缺陷，分别在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，同时在薄膜镀制过程中，当每层膜镀制结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理。此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生，刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度；另外，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度。此方法具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN1455286A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN03116928.7
申请日：2003-05-15
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明提供了一种采用一维掺杂异质结结构从可见到红外波段具有超宽截止带窄带滤光片。不同于传统的窄带滤光片，它可以同时得到高的峰值透过率和峰值两端宽的截止带。该发明介绍了该滤光片的设计思路和具体的结构设计，以及在此设计思想下所计算出的窄带滤光片的光学性能等。本发明设计的滤光片可应用于光学分析仪器、光学探测仪器等各种光学仪器中。
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公开(公告)号：CN107055047A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710151854.3
申请日：2017-03-15
Applicant: 同济大学
IPC: B65G47/24
CPC classification number: B65G47/24
Abstract: 本发明涉及了一种导槽式理盖装置，可以将无序的瓶盖同时整理成正反两种有序的瓶盖，避免重复整理，提高整理效率。包括瓶盖排列装置和正反瓶盖分离装置，瓶盖排列装置与机架连接，正反瓶盖分离装置与瓶盖排列装置连接。瓶盖排列装置起到将无序的瓶盖按直线进行排列的作用，正反瓶盖分离装置起到将正反瓶盖分离的作用。
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公开(公告)号：CN103014616A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210507272.1
申请日：2012-12-03
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111915458A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010666698.6
申请日：2020-07-13
Applicant: 同济大学
IPC: G06Q50/20 , G06F16/9535 , G06F16/28 , G06F16/2458
Abstract: 一种面向探究式与个性化学习的线上实验教学系统。本发明系统包括平台、学生客户端、教师客户端；所述平台包括数据库、关联规则挖掘算法模块、个性化服务模块、数据分析模块、可视化模块；平台功能：所述平台包括线上实验教学基础设施和个性化学习指导两大功能；所述线上实验教学基础设施主要是服务于线下线上实验相结合的教学模式，使用在线评测技术，为教师提供班级管理、作业布置、作业在线批改、成绩统计等功能，代替教师完成重复机械的工作部分，帮助教师更好地开展线上实验教学；所述个性化学习指导，是指通过数据挖掘相关方法，根据学生个人的学习情况为学生提供定制化学习指南，帮助学生更好地开展线上自主探究式学习。
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公开(公告)号：CN102747328B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN102747328A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103014616B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201210507272.1
申请日：2012-12-03
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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