公开(公告)号：CN118938605B

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202410993763.4

申请日：2024-07-24

Applicant: 同济大学

Inventor： 程鑫彬 ,  薛栋柏 ,  邓晓 ,  李同保 ,  王竣

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。

公开(公告)号：CN118938605A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202410993763.4

申请日：2024-07-24

Applicant: 同济大学

Inventor： 程鑫彬 ,  薛栋柏 ,  邓晓 ,  李同保 ,  王竣

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。