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公开(公告)号：CN101289024B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200810091206.4
申请日：2008-04-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B41J2/45
CPC classification number: G03B27/42
Abstract: 本发明目的在于提供一种曝光装置，特别是提供一种CTP装置，其即使因离散配置的一部分激光二极管的损坏等原因而发生不发光的状态，也能够继续使用该CTP装置。在一部分通道处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成被曝光区域：生成各通道曝光数据，以便还在设置在基准区间前后的插补区间中移动曝光头，同时使用处于发光状态的特定的通道进行曝光，上述基准区间是在正常时移动曝光头的区间，上述特定的通道是根据不发光状态的存在位置而确定的；通过移动单元在基准区间及插补区间内移动曝光头的同时，曝光控制单元根据各通道曝光数据从上述特定的通道射出曝光用光。
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公开(公告)号：CN1814357B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200510128972.X
申请日：2005-12-02
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B1/02 , G02F1/1333 , H01L21/48 , H05K3/00 , H05K3/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。
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公开(公告)号：CN101378001B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810124894.X
申请日：2008-06-25
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液(雾滴)侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板(S)实施药液处理的湿式处理部(2)和对基板(S)实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部(1)。各处理部(1、2)的处理室(10、20)经由开口部(11a)而连通，该开口部(11a)可通过设置在前处理部(1)一侧的闸门装置(14)和设置在湿式处理部(2)一侧的闸门装置(24)进行开闭。此外，在前处理部(1)的处理室(10)内配备有在开口部(11a)处于打开状态时对开口部(11a)向湿式处理部(2)一侧喷出空气的空气喷嘴(19a、19b)。
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公开(公告)号：CN101075553B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200710104103.2
申请日：2007-05-16
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/3105 , H01L21/67 , G03F7/30 , B08B3/02
CPC classification number: B08B3/024 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在从喷出喷嘴向基板的表面喷出清洗液并使喷出喷嘴扫描而使基板旋转干燥时，能够抑制在基板周边部的液体飞溅，并能够防止由液体飞溅产生的液滴再次附着在基板上。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，而通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，并且，从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板的表面喷出清洗液的同时，使纯水喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置扫描到与基板周边相对的位置，此时，在喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置移动到与基板周边相对的位置的过程中，使基板的转速降低。
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公开(公告)号：CN101289025B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200810093344.6
申请日：2008-04-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B41J2/45
CPC classification number: H01S5/0683 , H01S5/0617
Abstract: 本发明提供一种即使不设置校准传感器，也能够将激光的光量调整到规定值的曝光装置。上述曝光装置具有激光控制部，该激光控制部由能够独立交换的电路板构成，并接收来自全面控制整个装置的动作的主控制部的控制，控制从发出激光的激光发光部发出的激光，其中，用于调整因电路板的电路误差而引起的控制因素的偏差的误差调整信息存储在激光控制部所具有的存储器中，该误差调整信息是指，针对电路板在搭载到曝光装置之前预先取得的信息。激光控制部在从主控制部接到到使以规定的光量发出激光的控制指示时，基于存储在存储器中的误差调整信息，决定激光的发光条件，并按照发光条件使激光发光部发出激光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101043018B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200710091808.5
申请日：2007-03-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/00 , H01L21/027
CPC classification number: B25B11/005 , H01L21/67103 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/68742 , H01L21/6875
Abstract: 一种热处理装置，在热处理板的上表面上设置有支撑片。在支撑片的上表面上形成有抵接支撑基板的凸部以及与基板的周缘部相抵接的凸缘部。因为该支撑片通过蚀刻处理而形成，所以凸部的周围成为凹部，不会如激光加工那样使凸部的周围成为开口。利用具有这些热处理板和支撑片的基板支撑结构，而能够适当地支撑基板。
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公开(公告)号：CN1754694B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510107676.1
申请日：2005-09-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 小川秀明
Abstract: 本发明提供一种印刷版的制版方法以及印刷版的制版装置，通过精密雕刻工序和粗雕刻工序这两个工序执行雕刻，该精密雕刻工序是使用具有小的束径的精密雕刻光束，以精密雕刻像素间距照射柔性感光材料，进行雕刻直到精密雕刻光束所能达到的最大深度，该粗雕刻工序是使用具有大的束径的粗雕刻光束，以比精密雕刻像素间距大的粗雕刻像素间距照射柔性感光材料，进行雕刻直到浮凸深度。
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公开(公告)号：CN100594432C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200710154755.7
申请日：2007-09-13
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种图案描画装置及图案描画方法。对导入来自DMD的微反射镜组的光的感光材料上的照射区域组进行主扫描，对感光材料上的条纹区域照射光，重复主扫描并对在副扫描方向上局部重叠的多个条纹区域依次照射光，从而在感光材料上描画图案。此时，先行照射区域组和后续照射区域组重叠通过感光材料上的重叠区域时，使微反射镜组中对应于重叠区域的一部分微反射镜无效，使得先行照射区域组和后续照射区域组通过重叠区域的各位置的累计时间比先行照射区域组或后续照射区域组通过非重叠区域的各位置的时间短，从而使重叠区域的感光和非重叠区域的感光程度相同。
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公开(公告)号：CN100592469C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200810001968.0
申请日：2008-01-04
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 尾崎一人
IPC: H01L21/00 , G02F1/1368 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够减少压送处理液用泵的故障以及设置在循环路径上的过滤器的筛眼堵塞，并能够防止薄膜再次附着在基板上。将从喷淋喷嘴(11、12)供给到基板(W)上并对处理膜进行溶解从而含有薄膜的处理液回收之后，将此处理液输送到离心分离机(41)。在离心分离机(41)，将薄膜分离并排出到处理液外。将分离出薄膜后的处理液从喷淋喷嘴(11、12)再次供给到基板上。
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公开(公告)号：CN100587607C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200710108846.7
申请日：2007-06-05
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 桥诘彰夫
IPC: G03F7/42 , H01L21/00 , H01L21/3105
CPC classification number: B08B3/08 , G03F7/422 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法用于从基板表面剥离并除去不再使用的抗蚀剂。在该基板处理方法中，向在基板保持装置上保持的基板的表面中央部供给抗蚀剂剥离液。另外，向在基板保持装置上保持的基板的表面周边部供给有机溶剂液体。
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