公开(公告)号：CN107667317B

公开(公告)日：2021-08-27

申请号：CN201680030861.1

申请日：2016-05-27

Applicant: 兰达实验室(2012)有限公司

Inventor： 迈克尔.纳格勒 ,  尼尔.鲁宾.本.海姆 ,  奥弗·阿克南 ,  本锡安·兰达

IPC: G03G15/04 ,  B41J2/455 ,  B41J2/447 ,  B41J2/45 ,  G03G15/043

Abstract: 公开了一种成像装置，用于将多个单独可控的激光束在基准X方向上投射到相对该成像装置可移动的表面上。所述成像装置包含多个半导体芯片，每个半导体芯片包括以M行和N列的二维阵列配置的多个单独可控的激光束发射元件。在每一行上的多个所述元件具有均匀间距Ar，并且每一列上的多个所述元件具有均匀的间距ac。所述芯片以这样的方式安装在支架上，即在基准Y方向上彼此相邻的每对芯片横向于X方向，并且在X方向上彼此偏移，以及，当被持续激活时，所述每对的两个芯片所发射的激光束在成像表面上勾画一组在X方向延伸并且在Y方向上基本均匀间隔的平行线。所述芯片设置在所述支架上的至少一对行中，并且该对行内的芯片的对齐使得，在X和Y方向上的三个相邻芯片的任意一组中相对应的元件置于全等等边三角形的各顶点上，并且所述成像装置进一步包括多个透镜系统，所述透镜系统分别用于将各自芯片的所有激光元件的激光束聚焦到成像表面上而不变更激光束之间的间距。每个透镜系统可以包括一个渐变折射率(GRIN)柱或多个彼此串联的多个GRIN柱。

公开(公告)号：CN108351498B

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201680064437.9

申请日：2016-10-28

Applicant: EOS有限公司电镀光纤系统

Inventor： H·佩雷特 ,  S·格罗嫩伯恩

IPC: G02B13/22 ,  B41J2/45

Abstract: 本发明涉及一种曝光光学器件(20)，作为用于设备(1)的装备和/或改型光学器件，该设备用于借助于电磁辐射(22)的作用在与待制造的物体的在相应的层中的横截面相对应的位置上通过选择性逐层固化建造材料(15)制造三维物体(2)。所述设备包括能够发射电磁辐射(22)的辐射源(21)，所述电磁辐射适合于在入射到所述建造材料(15)的施加在所述设备(1)的工作面(7)中的层的与待制造的物体(2)的横截面相对应的位置上时引起建造材料(15)在这些位置上的固化。曝光光学器件(20)至少包括一个具有第一焦距f1的物方的第一透镜系统(23)和一个具有第二焦距f2的像方的第二透镜系统(24)，这些透镜系统能够布置在由辐射源(21)发射的辐射(22)的光束路径中。第一透镜系统(23)的焦平面和第二透镜系统(24)的焦平面在这两个透镜系统之间的一个平面中重合。第一透镜系统(23)的焦距f1等于或大于第二透镜系统(24)的焦距f2。曝光光学器件(20)被设计成并且能布置成使得电磁辐射(22)基本垂直入射到工作面(7)上。

公开(公告)号：CN107667316B

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201680030804.3

申请日：2016-05-27

Applicant: 兰达实验室(2012)有限公司

Inventor： 尼尔·鲁宾·本·海姆 ,  迈克尔·纳格勒 ,  本锡安·兰达 ,  塔马·卡什蒂 ,  奥弗·阿克南 ,  罗恩·约格夫 ,  伊塔·特泽

IPC: G03G15/04 ,  G03G15/043 ,  G03G15/34 ,  B41J2/447 ,  B41J2/45 ,  B41J2/455 ,  G03F7/20

Abstract: 一种成像装置，描述为用于将多个单独可控的激光束在基准X方向上投射到相对该成像装置可移动的表面上。所述成像装置包含多个半导体芯片，每个半导体芯片包括以M行和N列的二维主阵列配置的多个激光束发射元件。在每一行上的多个所述元件具有均匀间距Ar，并且每一列上的多个所述元件具有均匀的间距ac。所述芯片以这样的方式安装在支架上，即在基准Y方向上彼此相邻的每对芯片横向于X方向，并且在X方向上彼此偏移，以及，当被持续激活时，所述每对的两个芯片所发射的激光束在成像表面上勾画一组在X方向延伸并且在Y方向上基本均匀间隔的平行线。除了主阵列M行和N列的元件外，每个芯片在主阵列的各侧分别包括至少一个附加列，每个附加列包含至少一个可选择性操作的激光发射元件，该激光发射元件能够在Y方向上弥补所述支架上的相邻芯片相对定位的任何错位。

公开(公告)号：CN110892338A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201880046815.X

申请日：2018-06-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 石馆毅洋 ,  岩井齐 ,  田村雄哉 ,  百家俊树

IPC: G03G21/16 ,  B41J2/45 ,  G03G15/01 ,  G03G15/04

Abstract: 在图像形成装置中，通过罩(558)从闭锁位置朝开放位置转动，加压部(561)对第4被按压部(568)(被按压部)进行按压，借助该按压使滑动部(525)从感光鼓(103)的旋转轴线方向上的一端侧朝另一端侧滑移，光打印头(105)从曝光位置朝退避位置移动。

公开(公告)号：CN110214289A

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201780083814.8

申请日：2017-10-12

Applicant: 六度空间有限责任公司

Inventor： K·S·利伯曼 ,  D·格林斯潘

IPC: G02B7/36 ,  B29C33/42 ,  B29C59/02 ,  B41J2/435 ,  B41J2/44 ,  B41J2/45 ,  B41J2/455

Abstract: 感测模块包括高速线性图像传感器和面向该传感器的光学单元。该单元包括具有弯曲表面的光学元件以及在光学元件的外表面上的覆盖物。该覆盖物中形成有狭缝。光学单元将宽视野成像到线性传感器的单个像素上，其中在沿着狭缝的任何位置处正交于狭缝照射的光被成像在线性传感器的中心像素上，而在沿着狭缝的任何位置处以相对狭缝的非正交角度照射的光被成像在线性传感器的非中心像素上。

公开(公告)号：CN105829113A

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201480068452.1

申请日：2014-12-16

Applicant: EOS有限公司电镀光纤系统

Inventor： T·马特斯 ,  S·帕特尔诺斯特 ,  G·坎茨勒 ,  J·菲利皮 ,  S·格洛恩博恩 ,  G·荷斯勒 ,  H·莫恩齐 ,  R·科拉茨

IPC: B41J2/45 ,  B29C67/00

CPC classification number: B41J2/455 ,  B22F3/1055 ,  B22F2003/1057 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/342 ,  B29C64/153 ,  B29C64/20 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/02 ,  B41J2/451 ,  G03G15/225 ,  H01S5/0071 ,  H01S5/423

Abstract: 本发明描述了激光打印系统(100)，其用于照明工作面(180)中相对于激光打印系统(100)的激光器模块移动的对象，激光器模块包括半导体激光器的至少两个激光器阵列和至少一个光学元件，其中光学元件适于成像由激光器阵列发射的激光，使得一个激光器阵列的半导体激光器的激光被成像到激光打印系统的工作面中的一个像素，并且其中激光打印系统是用于叠加式制造的3D打印系统并且其中设置了被布置在垂直于工作面(180)中对象的移动方向(250)的列(c1，c2)中的两个、三个、四个或更多个激光器模块(201，202)，并且其中列相对于彼此交错，使得激光器模块的第一列(c1)的第一激光器模块(201)适于照明对象的第一区域(y1)并且激光器模块的第二列(c2)的第二激光器模块(202)适于照明对象的第二区域(y2)，其中第一区域(y1)与第二区域(y2)相邻，使得能够连续照明对象。

公开(公告)号：CN104952898A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201510146526.5

申请日：2015-03-31

Applicant: 日本冲信息株式会社

Inventor： 兼藤大志 ,  铃木贵人

IPC: H01L27/15 ,  B41J2/44 ,  B41J2/45

CPC classification number: H01L33/24 ,  B41J2/45 ,  G03G15/04054 ,  H01L25/0753 ,  H01L25/167 ,  H01L27/156 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明涉及发光元件阵列、半导体器件及其制造方法。一种发光元件阵列包括其中布置多个发光部分的半导体薄膜层。多个发光部分被驱动成以所述多个发光部分的布置方向定义主扫描方向的方式而发光。多个发光部分以相邻的发光部分在与主扫描方向垂直的次扫描方向上彼此偏移一定量的方式来布置。半导体薄膜层在次扫描方向上的端部具有沿着布置多个发光部分所采用的图案的形状。

公开(公告)号：CN101495320B

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN200780026512.3

申请日：2007-05-30

Applicant: 迪格普因特有限公司

Inventor： 特雷弗·埃尔沃西 ,  邓肯·比尔森 ,  尼古拉森·霍曼

IPC: B41J2/45 ,  B41J11/00 ,  G06K15/12

CPC classification number: B41J2/45 ,  B41J2/455 ,  B41J2/525 ,  G03B27/54

Abstract: 本发明的一个方面提供一种用于光学打印机的照明装置，该照明装置包括：第一光源阵列(20)，其包括都能够发射可见电磁光谱中的红光谱段内的光的多个光源元件(14)；第二光源阵列(21)，其包括都能够发射可见电磁光谱中的蓝光谱段内的光的多个光源元件(14)；以及第三光源阵列(22)，其包括都能够发射可见电磁光谱中的绿光谱段内的光的多个光源元件(14)；其中所述第一、第二和第三光源阵列(20、21、22)在基板(15)上沿着各自的大致平行的假想线(34)总体上直线排列；并且各所述阵列(20、21、22)的所述多个光源元件(14)排列为使得所述多个光源元件(14)的各个相邻的光源元件沿着相关假想线(34)彼此偏离。本发明的其它方面涉及打印头、打印头组件、光学打印机、以及用于校准光学打印机的方法和设备。

公开(公告)号：CN102207706B

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201110080028.7

申请日：2011-03-25

Applicant: 兄弟工业株式会社

Inventor： 山田章广

IPC: G06F3/12 ,  G03G15/01 ,  G03G15/00 ,  G03G21/00 ,  B41J2/45

CPC classification number: G03G15/0194 ,  G03G2215/00029 ,  G03G2215/0141 ,  G03G2215/0161

Abstract: 本发明涉及一种打印装置，包括：打印单元，被配置为基于已展开数据来打印图像；测量单元，被配置为当满足校正执行条件时，测量通过打印单元所打印的图像的位置和浓度中的至少一个的偏差量；展开单元，被配置为基于通过测量单元的测量，展开打印数据，从而产生已展开数据；以及控制单元，其中当在展开对应于正被展开的当前页的当前打印数据期间满足校正执行条件时，控制单元被配置为：控制展开单元以中止当前打印数据的展开，控制测量单元以测量偏差量，并且控制展开单元以基于测量，重新开始展开当前打印数据的未展开部分。

公开(公告)号：CN101844456B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN200910173154.X

申请日：2009-09-11

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 斋木厚名

IPC: B41J2/45 ,  G03G15/01

CPC classification number: G03G15/326 ,  B41J2/45 ,  G03G15/04054 ,  G03G21/1652 ,  G03G21/1666 ,  G03G2215/0409 ,  G03G2221/1636 ,  G03G2221/166

Abstract: 本发明提供了一种LED打印头接地结构以及设有该结构的图像形成设备。本发明的一个方面是一种LED打印头接地结构，其包括：发出曝光光的LED打印头；靠近所述LED打印头的一端和另一端的导电部件；导电部，该导电部使所述LED打印头的所述一端和所述导电部件的一端电导通；以及接地部，该接地部使所述LED打印头的所述另一端和所述导电部件的另一端接地。