曝光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101289024B

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200810091206.4

    申请日:2008-04-21

    CPC classification number: G03B27/42

    Abstract: 本发明目的在于提供一种曝光装置,特别是提供一种CTP装置,其即使因离散配置的一部分激光二极管的损坏等原因而发生不发光的状态,也能够继续使用该CTP装置。在一部分通道处于不发光状态的情况下,通过如下方式形成被曝光区域:生成各通道曝光数据,以便还在设置在基准区间前后的插补区间中移动曝光头,同时使用处于发光状态的特定的通道进行曝光,上述基准区间是在正常时移动曝光头的区间,上述特定的通道是根据不发光状态的存在位置而确定的;通过移动单元在基准区间及插补区间内移动曝光头的同时,曝光控制单元根据各通道曝光数据从上述特定的通道射出曝光用光。

    曝光装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101289024A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810091206.4

    申请日:2008-04-21

    CPC classification number: G03B27/42

    Abstract: 本发明目的在于提供一种曝光装置,特别是提供一种CTP装置,其即使因离散配置的一部分激光二极管的损坏等原因而发生不发光的状态,也能够继续使用该CTP装置。在一部分通道处于不发光状态的情况下,通过如下方式形成被曝光区域:生成各通道曝光数据,以便还在设置在基准区间前后的插补区间中移动曝光头,同时使用处于发光状态的特定的通道进行曝光,上述基准区间是在正常时移动曝光头的区间,上述特定的通道是根据不发光状态的存在位置而确定的;通过移动单元在基准区间及插补区间内移动曝光头的同时,曝光控制单元根据各通道曝光数据从上述特定的通道射出曝光用光。

Patent Agency Ranking