公开(公告)号：CN1435732A

公开(公告)日：2003-08-13

申请号：CN03104302.X

申请日：2003-01-31

Applicant: 日本网目版制造株式会社

Inventor： 后藤茂宏 ,  吉冈胜司 ,  松永实信

IPC: G03F7/16 ,  B05B1/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B7/1666 ,  B05B12/1472 ,  B05C5/001 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明公开了一种化学处理装置，该装置用于通过向基板的主表面运送处理溶液而对其进行预定处理。该装置包括一个用于向基板的主表面运送处理溶液的处理溶液运送喷嘴。该喷嘴具有一个与其尖端相邻用于贮存处理溶液的处理溶液容器。一温度控制装置保持住温度溶液容器，从而通过与处理溶液的热交换来控制处理溶液容器中的处理溶液的温度。

公开(公告)号：CN1387236A

公开(公告)日：2002-12-25

申请号：CN02120051.3

申请日：2002-05-17

Applicant: 日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 沟端一国雄 ,  村冈祐介 ,  斉藤公続 ,  北门龙治 ,  井上阳一 ,  坂下由彦 ,  渡邉克充 ,  山形昌弘

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/461 ,  B08B3/00

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B7/0021 ,  Y10S134/902

Abstract: 当基板清洗腔5的盖子打开,在腔中放置基板时,阀门V1,V2,V3,V4,和V6都关闭,只有阀门V5打开。于是,向基板清洗腔5提供气体CO2以防止环境空气成分进入腔及进行腔的净化。随着基板清洗腔5的盖子关闭,阀门V6继续关闭以形成基板清洗腔的5的排出管线。于是,在基板清洗腔5和导管中的气体残余受到CO2气体的排斥而进入环境空气中,从而进行了腔的净化而防止了任何不需要的环境空气成分的滞留。随后,使用超临界CO2清洗基板。当清洁循环线时,向循环线提供超临界CO2。超临界CO2流向基板清洗腔5。在流过包括循环管道11的所有循环线之后,超临界CO2通过旁路管道12流向减压器7。滞留在循环线中的任何化学试剂或有机物质与超临界CO2流体一起连续地流入到减压器8。

公开(公告)号：CN87107020A

公开(公告)日：1988-04-20

申请号：CN87107020

申请日：1987-10-13

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田修

IPC: B41M1/14 ,  B41F7/06 ,  B41F3/22 ,  B41F3/42

CPC classification number: B41F7/08

Abstract: 在一种多色胶印法中，各胶毯同与胶毯颜色相应的印版接触，将同样颜色的印墨转移到各胶毯上，然后各胶毯和前面的各印版接触，在这以前，胶毯已作印刷，将前面印版上的印墨转移到该胶毯上面，然后将各胶毯按预定顺序，压在纸张上，将各色印墨依次转移到纸张上。

公开(公告)号：CN101154564B

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN200710154356.0

申请日：2007-09-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  B08B3/04 ,  F26B21/14

CPC classification number: B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B5/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，防止由在基板表面形成的复杂构造(沟道和空穴)引起的干燥不良。在处理槽(31)中用纯水对基板(9)进行的清洗处理结束后，通过从酒精供给部(37)向处理槽(31)供给酒精，用酒精置换处理槽(31)内的处理液(91)。在容器(40)内的处理槽(41)中对基板(9)进行利用氟系溶剂液体的清洗，然后，从处理槽(41)中提升基板(9)，在容器(40)内用氟系溶剂的气体进行干燥处理。

公开(公告)号：CN1970168B

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：CN200610141450.8

申请日：2006-09-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 铃木聪

IPC: B05C5/02 ,  B05C9/06 ,  B05C13/02 ,  B05B13/02 ,  B05B15/04 ,  H01L21/027

Abstract: 一种涂敷装置，具有：涂敷头，其向基板(9)连续喷出有机EL液；头移动机构及基板移动机构，其让涂敷头相对于基板(9)在主扫描方向及副扫描方向上进行相对移动；控制部，其控制上述这些机构。在涂敷装置中，由控制部控制各机构，在基板(9)上的涂敷区域(91)涂敷有机EL液的同时，在副扫描方向上与涂敷头相对移动的基板(9)上的终端侧，在涂敷区域(91)外侧的非涂敷区域(92)涂敷有机EL，液。由此，可以在基板(9)的涂敷区域(91)中的有机EL液的涂敷的终端侧，对环境中的有机EL液的溶媒成分的浓度变高，有机EL液的干燥时间短于被涂敷在其他区域的有机EL液的干燥时间的情况进行抑制。

公开(公告)号：CN101246813B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200810005676.4

申请日：2008-02-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B08B3/00 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。在处理区设置有多个背面清洗单元及主机械手。主机械手设置在配设在处理区一侧的侧面的背面清洗单元与配设在处理区另一侧的侧面的背面清洗单元之间。在分度器区与处理区之间，上下邻接的方式设置有使基板翻转的翻转单元、及在分度器机械手与主机械手交接基板的基板装载部。主机械手在多个背面清洗单元、基板装载部及翻转单元之间搬运基板。

公开(公告)号：CN101114572B

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：CN200710136734.2

申请日：2007-07-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 大泽笃史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  B08B3/00 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67086

Abstract: 本发明提供一种能够提高药液处理的均一性的同时提高处理液的置换效率的基板处理装置。在基板处理装置(10a)中，设置有经由较小的开口部喷出处理液而向处理槽(11)内供给处理液的高速供给系统(3)、和经由较大的开口部喷出处理液而向处理槽(11)内供给处理液的低速供给系统(4)。在进行蚀刻处理时，由于从高速供给系统(3)供给处理液，所以处理槽(11)内的处理液中的药液成分的浓度差减少，能够提高蚀刻处理的均一性。另一方面，在未进行蚀刻处理时，由于从低速供给系统(4)供给处理液，所以能够提高处理槽(11)内的处理液的置换效率。

公开(公告)号：CN101145505B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200710153720.1

申请日：2007-09-14

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫城雅宏 ,  佐藤雅伸 ,  荒木浩之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置(1)具有挡住从处理液供给部(3)供给而从基板(9)上飞溅出来的处理液的防溅罩(41)。防溅罩(41)由绝缘材料形成。对防溅罩(41)的外周面(411b)实施亲水化处理，在处理基板(9)时，将水保持在防溅罩(41)的外周面(411b)上。由此，不会因由特殊的导电材料形成防溅罩而大幅度地增加基板处理装置(1)的制造成本，能够利用保持在外周面(411b)上的水来抑制纯水飞溅时产生的防溅罩(41)的带电电位，其结果是，能够防止因基板(9)的感应带电而引起在向基板(9)供给处理液时在基板(9)上产生放电。

公开(公告)号：CN101097409B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200710112235.X

申请日：2007-06-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高桥弘明

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理方法中，加热基板的同时，向该基板表面供给赋予了超声波振动的抗蚀剂剥离液。另一方面，使基板围绕与其表面交叉的轴线旋转。由此，被供给到基板表面上的抗蚀剂剥离液受到因旋转产生的离心力，而在基板表面上向周边流动。其结果是，赋予了超声波振动的抗蚀剂剥离液均匀扩散到正被加热的基板表面的整个区域。当赋予了超声波振动的抗蚀剂剥离液供给到基板表面上时，在基板表面上的抗蚀剂上形成的固化层通过超声波振动的物理能而被破坏。

公开(公告)号：CN101045230B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200710091930.2

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC: B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。