半导体装置及制造该半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN101599477B

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN200910146024.7

    申请日:2009-06-05

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置及制造该半导体装置的方法。在该半导体装置中,贯通孔被形成在基板中,并且位于导电性图案下方。绝缘层位于贯通孔的底表面处。导电性图案位于基板的一个表面侧。位于贯通孔与导电性图案之间的绝缘层中形成开口图案,其中从开口图案的外周到贯通孔的中心轴的距离r3比贯通孔中的距离r1小。通过提供开口图案,在贯通孔的底表面处暴露导电性图案。凸块位于基板的背表面侧,并且与贯通电极一体地形成。

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