半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN103091007A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210207074.3

    申请日:2012-06-21

    CPC classification number: B81C1/00626 B81B2201/0264 G01L9/0048 G01L9/0051

    Abstract: 本发明涉及半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法。半导体压力传感器具备:第一基板(1),在主表面(1a)具有凹部(3)以及对准标记(4);第二基板(2),形成在第一基板(1)的主表面(1a)上,具有以覆盖第一基板(1)的凹部(3)内的空间(IS)上的方式设置的隔板(5)以及在隔板(5)上设置的应变计电阻(6)。对准标记(4)以从第二基板(2)露出的方式设置。由此,能够得到能够抑制制造成本并且能够使压力测定精度提高的半导体压力传感器及其制造方法。

    半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN103091007B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201210207074.3

    申请日:2012-06-21

    CPC classification number: B81C1/00626 B81B2201/0264 G01L9/0048 G01L9/0051

    Abstract: 本发明涉及半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法。半导体压力传感器具备:第一基板(1),在主表面(1a)具有凹部(3)以及对准标记(4);第二基板(2),形成在第一基板(1)的主表面(1a)上,具有以覆盖第一基板(1)的凹部(3)内的空间(IS)上的方式设置的隔板(5)以及在隔板(5)上设置的应变计电阻(6)。对准标记(4)以从第二基板(2)露出的方式设置。由此,能够得到能够抑制制造成本并且能够使压力测定精度提高的半导体压力传感器及其制造方法。

    半导体压力传感器

    公开(公告)号:CN102243125B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201110008491.0

    申请日:2011-01-06

    CPC classification number: G01L9/0042 B81B3/0078 B81B2201/0264 B81B2203/0127

    Abstract: 本发明的目的在于获得一种能够提高膜片的破坏耐压的半导体压力传感器。包括:第一半导体基板(3),该第一半导体基板(3)形成有在厚度方向上的一个表面开口的凹部(2);第二半导体基板(4),该第二半导体基板(4)配置为与第一半导体基板(3)的一个表面相对;以及第一氧化硅膜(6),该第一氧化硅膜(6)介于第一半导体基板(3)和第二半导体基板(4)之间,形成有连通凹部(2)与第二半导体基板(4)之间的贯通孔(5),若从与贯通孔(5)及凹部(2)的开口相对的一侧来看,贯通孔(5)的边缘部的至少一部分位于凹部(2)的开口边缘部的内侧。

    半导体压力传感器

    公开(公告)号:CN102243125A

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN201110008491.0

    申请日:2011-01-06

    CPC classification number: G01L9/0042 B81B3/0078 B81B2201/0264 B81B2203/0127

    Abstract: 本发明的目的在于获得一种能够提高膜片的破坏耐压的半导体压力传感器。包括:第一半导体基板(3),该第一半导体基板(3)形成有在厚度方向上的一个表面开口的凹部(2);第二半导体基板(4),该第二半导体基板(4)配置为与第一半导体基板(3)的一个表面相对;以及第一氧化硅膜(6),该第一氧化硅膜(6)介于第一半导体基板(3)和第二半导体基板(4)之间,形成有连通凹部(2)与第二半导体基板(4)之间的贯通孔(5),若从与贯通孔(5)及凹部(2)的开口相对的一侧来看,贯通孔(5)的边缘部的至少一部分位于凹部(2)的开口边缘部的内侧。

    半导体压力传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101273255B

    公开(公告)日:2010-05-19

    申请号:CN200680035358.1

    申请日:2006-08-30

    CPC classification number: G01L9/0047 G01L9/0048 G01L9/0054 G01L19/04

    Abstract: 一种半导体压力传感器,包括:硅支撑衬底(1)、在硅支撑衬底(1)上形成的绝缘层(2)和在绝缘层(2)上形成的硅薄板(3)。在硅支撑衬底(1)中形成沿硅支撑衬底(1)的厚度方向延伸的通孔(1a)。位于通孔(1a)的延长线上的硅薄板(3)用作通过外部压力变形的膜片(23)。绝缘层(2)残留在膜片(23)的整个下表面上。绝缘层(2)的厚度从膜片(23)的外缘部分向中心部分减小。这提供能够同时减小偏移电压和由温度变化导致的输出电压的变化量的半导体压力传感器及其制造方法。

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