半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1114949C

    公开(公告)日:2003-07-16

    申请号:CN97122476.5

    申请日:1997-11-10

    CPC classification number: H01L27/105 H01L27/10808

    Abstract: 提高pn结的耐压和缓和电场的同时,对场效应晶体管的特性不造成坏影响的杂质浓度分布,在硅衬底上形成n型源漏区域;在形成p阱形成用掺杂区域、p沟截止区域和p沟掺杂区域中具有峰值浓度;n源漏区域杂质浓度分布,以低浓度与p杂质浓度分布交叉,而且比p沟截止区域和p沟掺杂区域的杂质浓度高,在它们的深度近旁,有磷注入区域,出现了各自的峰值浓度;在磷注入区域的峰值浓度之间,n源漏区域的浓度分布具有极小点或拐点。

    旋转状态检测装置及旋转状态检测方法

    公开(公告)号:CN100356141C

    公开(公告)日:2007-12-19

    申请号:CN200510054795.5

    申请日:2005-03-16

    CPC classification number: G01D5/145 G01D5/2451

    Abstract: 本发明提供一种旋转状态检测装置及方法。包括:由磁阻效应元件组(11a,11b,12a,12b)构成的第1、第2电桥电路(11,12);分别检测第1、第2电桥电路(11,12)的中点电压的增减方向的第1、第2比较器(31,32);检测第1电桥电路与第2电桥电路的中点电压之差的第3比较器(33);以及逻辑信息导出装置(5),在第1比较器和第2比较器的输出的逻辑值均为“1”时输出“1”、均为“0”时输出“0”,而在除此以外时保持并输出前一值;通过第1、第2、第3比较器(31,32,33)及逻辑信息导出装置(5)的输出的组合来识别被检测对象的旋转方向。

    旋转状态检测装置及旋转状态检测方法

    公开(公告)号:CN1670484A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN200510054795.5

    申请日:2005-03-16

    CPC classification number: G01D5/145 G01D5/2451

    Abstract: 本发明提供一种旋转状态检测装置及方法。包括:由磁阻效应元件组(11a,11b,12a,12b)构成的第1、第2电桥电路(11,12);分别检测第1、第2电桥电路(11,12)的中点电压的增减方向的第1、第2比较器(31,32);检测第1电桥电路与第2电桥电路的中点电压之差的第3比较器(33);以及逻辑信息导出装置(5),在第1比较器和第2比较器的输出的逻辑值均为“1”时输出“1”、均为“0”时输出“0”,而在除此以外时保持并输出前一值;通过第1、第2、第3比较器(31,32,33)及逻辑信息导出装置(5)的输出的组合来识别被检测对象的旋转方向。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1194465A

    公开(公告)日:1998-09-30

    申请号:CN97122476.5

    申请日:1997-11-10

    CPC classification number: H01L27/105 H01L27/10808

    Abstract: 提高pn结的耐压和缓和电场的同时,对场效应晶体管的特性不造成坏影响的杂质浓度分布,在硅衬底上形成n型源漏区域;在形成p阱形成用掺杂区域、p沟截止区域和p沟掺杂区域中具有蜂值浓度;n源漏区域杂质浓度分布,以低浓度与p杂质浓度分布交叉,而且比p沟截止区域和p沟掺杂区域的杂质浓度高,在它们的深度近旁,有磷注入区域,出现了各自的峰值浓度;在磷注入区域的峰值浓度之间,n源漏区域的浓度分布具有极小点或拐点。

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