公开(公告)号：US08460985B2

公开(公告)日：2013-06-11

申请号：US12829977

申请日：2010-07-02

申请人： Bo-Kyoung Ahn ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

发明人： Bo-Kyoung Ahn ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

IPC分类号： H01L21/336

CPC分类号： H01L21/02628 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1225 ,  H01L29/7869

摘要： A method of manufacturing a semiconductor for a transistor that includes forming a precursor layer by coating a surface of an insulation substrate with a precursor solution for an oxide semiconductor, forming an oxide semiconductor by oxidizing a portion of the precursor layer, and removing a remaining precursor layer except for the oxide semiconductor.

摘要翻译： 一种制造用于晶体管的半导体的方法，其包括通过用氧化物半导体的前体溶液涂覆绝缘基板的表面来形成前体层，通过氧化前体层的一部分形成氧化物半导体，以及除去剩余的前体 除了氧化物半导体。

公开(公告)号：US09316923B2

公开(公告)日：2016-04-19

申请号：US13082081

申请日：2011-04-07

申请人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Bo-Kyoung Ahn

发明人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Bo-Kyoung Ahn

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7035 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/7015

摘要： Provided are an exposure apparatus and an exposure method using the same. The exposure apparatus includes: a light source unit configured to emit light; a substrate stage supporting a substrate, the substrate comprising an exposure area and a non-exposure area; and a prism unit disposed between the light source unit and the substrate stage, the prism unit movable so as to transmit the light to the exposure area and to block the light from the non-exposure area.

摘要翻译： 提供一种曝光装置和使用该装置的曝光方法。 曝光装置包括：配置为发光的光源单元; 支撑衬底的衬底台，所述衬底包括曝光区域和非曝光区域; 以及设置在所述光源单元和所述基板台之间的棱镜单元，所述棱镜单元可移动以将光透射到所述曝光区域并阻挡来自所述非曝光区域的光。

公开(公告)号：US08367281B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12778574

申请日：2010-05-12

申请人： Bo-Kyoung Ahn ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Joo-Han Bae

发明人： Bo-Kyoung Ahn ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Joo-Han Bae

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B5/20

CPC分类号： G03B27/72 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575

摘要： A photoresist layer exposed through first slits of a mask is exposed using first light. The photoresist layer exposed through second slits of the mask is exposed by using second light. The first light passes thorough a transflective shutter to generate the second light.

摘要翻译： 通过第一光照射通过掩模的第一狭缝曝光的光致抗蚀剂层。 通过使用第二光来曝光通过掩模的第二狭缝曝光的光致抗蚀剂层。 第一个光通过透反射快门以产生第二个光。

公开(公告)号：US20120013876A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13082081

申请日：2011-04-07

申请人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Bo-Kyoung Ahn

发明人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Bo-Kyoung Ahn

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/70

CPC分类号： G03F7/7035 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/7015

摘要： Provided are an exposure apparatus and an exposure method using the same. The exposure apparatus includes: a light source unit configured to emit light; a substrate stage supporting a substrate, the substrate comprising an exposure area and a non-exposure area; and a prism unit disposed between the light source unit and the substrate stage, the prism unit movable so as to transmit the light to the exposure area and to block the light from the non-exposure area.

摘要翻译： 提供一种曝光装置和使用其的曝光方法。 曝光装置包括：配置为发光的光源单元; 支撑衬底的衬底台，所述衬底包括曝光区域和非曝光区域; 以及设置在所述光源单元和所述基板台之间的棱镜单元，所述棱镜单元可移动以将光透射到所述曝光区域并阻挡来自所述非曝光区域的光。

公开(公告)号：US20110124152A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：US12829977

申请日：2010-07-02

申请人： Bo-Kyoung AHN ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

发明人： Bo-Kyoung AHN ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

IPC分类号： H01L21/36

CPC分类号： H01L21/02628 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1225 ,  H01L29/7869

摘要： A method of manufacturing a semiconductor for a transistor that includes forming a precursor layer by coating a surface of an insulation substrate with a precursor solution for an oxide semiconductor, forming an oxide semiconductor by oxidizing a portion of the precursor layer, and removing a remaining precursor layer except for the oxide semiconductor.

摘要翻译： 一种制造用于晶体管的半导体的方法，其包括通过用氧化物半导体的前体溶液涂覆绝缘基板的表面来形成前体层，通过氧化前体层的一部分形成氧化物半导体，以及除去剩余的前体 除了氧化物半导体。

公开(公告)号：US20100261105A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：US12778574

申请日：2010-05-12

申请人： Bo-Kyoung Ahn ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Joo-Han Bae

发明人： Bo-Kyoung Ahn ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Joo-Han Bae

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03F7/20 ,  H01J9/00

CPC分类号： G03B27/72 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575

摘要： A photoresist layer exposed through first slits of a mask is exposed using first light. The photoresist layer exposed through second slits of the mask is exposed by using second light. The first light passes thorough a transflective shutter to generate the second light.

摘要翻译： 通过第一光照射通过掩模的第一狭缝曝光的光致抗蚀剂层。 通过使用第二光来曝光通过掩模的第二狭缝曝光的光致抗蚀剂层。 第一个光通过透反射快门以产生第二个光。

公开(公告)号：US08576359B2

公开(公告)日：2013-11-05

申请号：US12579816

申请日：2009-10-15

申请人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Min-Uk Kim

发明人： Chang-Hoon Kim ,  Gug-Rae Jo ,  Min-Uk Kim

IPC分类号： G02F1/1335

CPC分类号： G02F1/133516 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2001/133567

摘要： A method of manufacturing a liquid crystal display includes forming a gate line, a data line and a switching element on a first substrate including a pixel area, the switching element including a source electrode and drain electrode, forming a color filter and a conductive contact element on the source electrode of the switching element by a gravure printing method, forming a pixel electrode on the conductive contact element and on the color filter, forming a second substrate including a common electrode, and interposing a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate.

摘要翻译： 一种制造液晶显示器的方法，包括在包括像素区域的第一基板上形成栅极线，数据线和开关元件，所述开关元件包括源电极和漏电极，形成滤色器和导电接触元件 通过凹版印刷法在开关元件的源电极上，在导电接触元件和滤色器上形成像素电极，形成包括公共电极的第二基板，并且在第一基板和第二基板之间插入液晶层 第二基板。

公开(公告)号：US20100149481A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12475083

申请日：2009-05-29

申请人： Byeong-Jin Lee ,  Bong-Kyun Kim ,  Hong-Sick Park ,  Gug-Rae Jo ,  Chang-Hoon Kim ,  Jong-Hyun Choung ,  Sun-Young Hong ,  Min-Uk Kim

发明人： Byeong-Jin Lee ,  Bong-Kyun Kim ,  Hong-Sick Park ,  Gug-Rae Jo ,  Chang-Hoon Kim ,  Jong-Hyun Choung ,  Sun-Young Hong ,  Min-Uk Kim

IPC分类号： G03F7/20 ,  C23F1/02 ,  G02F1/13

CPC分类号： G03F7/0017 ,  G02F1/1333

摘要： The present invention relates to a liquid crystal display (LDC) and in particular, a method of manufacturing a mold to be used in LCDs. The method includes the following steps: forming a first photosensitive film on a substrate; etching the substrate by using the first photosensitive film as a mask to form a first groove; removing the first photosensitive film; forming a second photosensitive film covering the first groove on the substrate; and etching the substrate by using the second photosensitive film as a mask to form a second groove. The method, according to embodiments of the invention, helps reduce the time and/or cost of manufacturing a liquid crystal display.

摘要翻译： 液晶显示器（LDC）技术领域本发明涉及一种液晶显示器（LDC），特别涉及制造用于LCD的模具的方法。 该方法包括以下步骤：在基板上形成第一感光膜; 通过使用第一感光膜作为掩模来蚀刻基板以形成第一凹槽; 去除第一感光膜; 形成覆盖所述基板上的所述第一槽的第二感光膜; 并且通过使用第二感光膜作为掩模来蚀刻基板以形成第二凹槽。 根据本发明的实施例的该方法有助于减少制造液晶显示器的时间和/或成本。

公开(公告)号：US08568823B2

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：US13010719

申请日：2011-01-20

申请人： Jae-Hyuk Chang ,  Seung-Jun Lee ,  Hyun-Seok Kim ,  Sung Hee Lee ,  Gug-Rae Jo ,  Sin Kwon

发明人： Jae-Hyuk Chang ,  Seung-Jun Lee ,  Hyun-Seok Kim ,  Sung Hee Lee ,  Gug-Rae Jo ,  Sin Kwon

IPC分类号： B05D5/12 ,  B05D3/00 ,  B05D5/00

CPC分类号： G02F1/1303 ,  B05D1/28 ,  B05D5/06 ,  G02F1/133377

摘要： A method of forming a pattern and a manufacturing method of a liquid crystal display includes forming the pattern with a thin thickness by coating a pattern material on a printing roll using a nozzle, removing a surplus portion of the pattern material from the printing roll by using a plate, and transferring the pattern material remaining on the printing roll to a substrate to form the pattern.

摘要翻译： 形成图案的方法和液晶显示器的制造方法包括通过使用喷嘴在印刷辊上涂布图案材料来形成厚度薄的图案，通过使用从印刷辊除去图案材料的剩余部分 将印刷辊上剩余的图案材料转印到基板上以形成图案。

公开(公告)号：US20130088669A1

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：US13605585

申请日：2012-09-06

申请人： DAE-YOUNG LEE ,  Gug-Rae Jo ,  Jae-Hyuk Chang ,  Youn-Gu Lee

发明人： DAE-YOUNG LEE ,  Gug-Rae Jo ,  Jae-Hyuk Chang ,  Youn-Gu Lee

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/1333

CPC分类号： G02F1/133528 ,  G02B27/22 ,  G02B27/2214 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13439 ,  G02F1/1347 ,  G02F2001/133541 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2001/133638 ,  H04N13/341

摘要： A display apparatus includes first, second and third substrates, first and second liquid crystal layers, first and second polarizing elements and a phase retarding element The first substrate includes a first electrode part. The first liquid crystal layer is disposed on the first substrate. The second substrate is disposed on the first liquid crystal layer and includes a color filter and a second electrode part on a first surface and a third electrode part on a second surface. The second liquid crystal layer is disposed on fee second substrate. The third substrate is disposed on the second liquid crystal layer and includes a fourth electrode part on a first surface. The first polarizing element is disposed under the first liquid crystal layer. The second polarizing element is disposed over the first liquid crystal layer. The phase retarding element is disposed over the second liquid crystal layer.

摘要翻译： 显示装置包括第一，第二和第三基板，第一和第二液晶层，第一和第二偏振元件和相位延迟元件。第一基板包括第一电极部分。 第一液晶层设置在第一基板上。 第二基板设置在第一液晶层上，并且在第一表面上包括滤色器和第二电极部分，在第二表面上包括第三电极部分。 第二液晶层设置在费用第二基板上。 第三基板设置在第二液晶层上，并且在第一表面上包括第四电极部。 第一偏振元件设置在第一液晶层的下方。 第二偏振元件设置在第一液晶层上。 相位延迟元件设置在第二液晶层上。