半导体激光器及其生产方法

    公开(公告)号:CN100452582C

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200410057538.2

    申请日:2004-08-17

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/2205 H01S5/2216 H01S5/2222

    Abstract: 本发明的半导体激光器包括:第一电导型包层,在谐振器延长方向上至少有一个脊型结构的第二电导型包层,位于两包层间的有源层和至少覆盖脊型结构一个侧面的电流阻挡层。电流阻挡层包括了氢化第一电介质膜。在这种由电介质生成电流阻挡层的结构中,光的限制效率被增强,激光器振荡阈值降低,且在高温和大功率振荡下的电流特性被改善。

    半导体器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105896310A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201510204789.7

    申请日:2015-04-27

    Abstract: 本发明涉及一种半导体器件。改善半导体激光器的特性。在具有n型包层、有源层以及p型包层的半导体激光器中,提供电流阻挡层。例如,电流阻挡层部分地布置在p型包层和有源层之间,以及在p型包层与有源层的重叠区中。因此,在p型包层与有源层的重叠区的电流狭窄区中,布置电流阻挡层,由此抑制注入有源层的一部分中的电流。这致使形成饱和吸收区,其致使半导体激光器的光输出的强度差异。这可实现自脉动。

    半导体激光器件
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1244973C

    公开(公告)日:2006-03-08

    申请号:CN03120052.4

    申请日:2003-02-06

    Abstract: 半导体激光器件,具有:第一电极;设置在所述第一电极上的第一导电类型的衬底;第一导电类型的第一包覆层;位于所述第一包覆层上的有源层;位于所述有源层上的与第一导电类型不同的第二导电类型的第二包覆层;绝缘体层;部分设置于所述绝缘体层上的与所述第二包覆层的第一部分电气连接的第二电极,其特征在于,第一和第二包覆层由AlGaInP制成,其中绝缘体层覆盖第二包覆层的第二部分但不覆盖第二包覆层的第一部分,第二包覆层的第一部分比第二部分厚,且位于两个所述第二包覆层的第二部分之间,所述绝缘体层具有导热率和厚度,所述绝缘体层的层厚倒数与导热率之积小于4×108W/(m2·K)。

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