半导体结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN107180861A

    公开(公告)日:2017-09-19

    申请号:CN201610133540.6

    申请日:2016-03-09

    发明人: 周飞

    IPC分类号: H01L29/70 H01L21/328

    CPC分类号: H01L29/66234 H01L29/70

    摘要: 一种半导体结构及其形成方法,所述方法包括:提供衬底,包括第一区域、环绕第一区域且与第一区域相邻的第二区域,以及环绕第二区域且与第二区域相邻的第三区域;刻蚀衬底,形成鳍部,第一区域的鳍部密度大于第二区域和第三区域的鳍部密度;在第一区域的鳍部内形成垂直于所述衬底表面方向的剖面形状为U形的第一开口;在第一开口中形成第一连接层。由于第一区域的鳍部密度较大,鳍部与鳍部之间的距离较小,本发明通过形成垂直于所述衬底表面方向的剖面形状为U形的第一连接层,避免所述第一连接层因侧壁具有凸出形貌而发生互相连接,从而避免所述第一连接层的形貌对双极结型晶体管的性能稳定性造成不良影响,进而提高半导体器件的电学性能。

    半导体器件
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204155935U

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201420139779.0

    申请日:2014-03-26

    IPC分类号: H01L29/739 H01L29/08

    摘要: 一种半导体器件。该半导体器件包括IGBT,IGBT具有包括在第一区中的晶体管单元阵列的半导体本体。结终端结构在包围在半导体本体的第一侧处的晶体管单元阵列的第二区中。第一导电类型的发射极区域在半导体本体的与第一侧相对的第二侧处。器件进一步包括二极管。二极管阳极和阴极中的一个包括本体区域。阳极和阴极中的另一个包括:在面对晶体管单元阵列的第二侧处的第二导电类型的多个不同的第一发射极短路区域;以及在面对结终端结构的第二侧处的第二导电类型的至少一个第二发射极短路区域。至少一个第二发射极短路区域与第一发射极短路区域不同。