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公开(公告)号：CN102449786A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080022451.5
申请日：2010-05-21
申请人： 奥罗拉控制技术有限公司
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32182 , G05B2219/32191 , G05B2219/32194 , G05B2219/32195 , G05B2219/32196 , G05B2219/32198 , G05B2219/32201 , G05B2219/32212 , G05B2219/32218 , H01L31/18 , Y02P90/22 , Y02P90/86
摘要： 用于制造光电产品的方法和设备，包括：评估生产线中每个产品的适合性，基于在此步骤中对产品的评估、或与先前产品在此步骤中评估结果的统计分析的比较、或以往步骤的先前评估结果与以往产品在这些步骤中的累积评估结果的统计分析的比较而指定一级别。产品可基于级别而关联到组中以作为组进行处理，下游设备可基于组的级别被调节以使所述组处于预定容差内。
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公开(公告)号：CN1388472A
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：CN02120477.2
申请日：2002-05-24
申请人： 吉第联合股份公司
IPC分类号： G06F17/60
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32187 , G05B2219/32191 , G05B2219/32196 , G05B2219/32201 , G05B2219/32212 , G05B2219/45048 , Y02P90/22 , Y02P90/86
摘要： 一种评价自动机器(1)的效率的方法,使用该方法,在一个给定生产批量完成时,计算该自动机器(1)在制造该生产批量期间达到的当前性能指标(I);该当前性能指标(I)和各种与所执行的加工有关的特征参数被一起存储在一个非易失性存储器中。为了评价该自动机器(1)的效率,对该当前性能指标(I)和历史性能指标(I)进行比较,该历史性能指标(I)是在该自动机器(1)工作期间预先存储的并且具有与该当前性能指标(I)的特征参数基本相似的特征参数。
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公开(公告)号：CN107229252A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710183254.5
申请日：2017-03-24
申请人： 发那科株式会社
发明人： 前田和臣
IPC分类号： G05B19/401
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32212 , G05B2219/32213 , G05B2219/32368 , G05B2219/34015 , Y02P90/22 , Y02P90/26 , G05B19/401
摘要： 本发明提供一种判定工件合格与否的加工机械系统。该加工机械系统具备：加工机械，其通过至少一个电动机驱动轴来加工工件；数值控制装置，其基于加工程序生成用于驱动加工机械的轴的指令；内部信息取得部，其取得数值控制装置的内部信息；临时判定部，其基于通过内部信息取得部取得的内部信息与阈值的比较结果来判定加工机械加工后的工件的合格与否；最终判定部，其针对至少包含了由临时判定部进行了合格与否判定的工件的精度检查对象的工件，基于与该工件的精度相关的实测结果来判定合格与否；以及阈值更新部，其基于临时判定部的判定结果以及最终判定部的判定结果来更新在临时判定部的判定处理中使用的阈值。
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公开(公告)号：CN1406844A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02143759.9
申请日：2002-08-09
申请人： 庄臣及庄臣视力保护公司
发明人： R·W·利维特 , W·I·达维斯三世 , G·S·敦坎 , M·J·斯特荣 , M·F·J·埃维尔斯
CPC分类号： G05B19/41875 , B65B5/04 , B65B25/008 , B65B57/14 , G05B19/4189 , G05B2219/31304 , G05B2219/31432 , G05B2219/32212 , G05B2219/50364 , Y02P80/40 , Y02P90/10 , Y02P90/22 , Y02P90/28
摘要： 一种处理设备，包括：多个处理站，每个处理站在产品的不同阶段自动传送产品以进行可控制的加工；一个智能的产品传送和传输系统，能够不间断的处理在上游处理站通过第一道检测工序的产品。该处理设备中的智能产品传送和传输系统，可确保多个好产品足以以高速从检测工序，连续地流到下一个工作站，进行随后的独立包装。该处理设备可包括生产球面或复曲面隐形镜片产品的隐形镜片生产流水线。
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公开(公告)号：CN106611727A
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201610196076.5
申请日：2016-03-31
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G05B19/418 , G05B19/41875 , G05B2219/32212 , G05B2219/45031 , G05B2219/50291 , H01L21/67167 , H01L21/6719 , Y02P90/22 , H01L21/67011
摘要： 本发明涉及在原位从半导体处理模块移除和更换消耗部件的系统。群集工具组件包括真空传送模块，具有连接到真空传送模块的第一侧的处理模块。隔离阀具有第一侧和第二侧，隔离阀的第一侧耦接到处理模块的第二侧。更换站耦接到隔离阀的第二侧。更换站包括更换操作器和部件缓冲区。部件缓冲区包括用于容纳新的或使用过的消耗部件的多个隔室。处理模块包括升降机构，以使安装在处理模块中的消耗部件放置到升高位置。升高位置使更换操作器能访问，以使消耗部件能从处理模块移除并存储在部件缓冲区的隔室。更换操作器被配置为使消耗部件的更换件从部件缓冲区回到处理模块。在处理模块和更换站被保持在真空状态下时，由更换操作器和处理模块进行更换。
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公开(公告)号：CN1299176C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN02143759.9
申请日：2002-08-09
申请人： 庄臣及庄臣视力保护公司
发明人： R·W·利维特 , W·I·达维斯三世 , G·S·敦坎 , M·J·斯特荣 , M·F·J·埃维尔斯
IPC分类号： G05B19/418 , B29D11/00 , G02C7/04 , B65G49/05
CPC分类号： G05B19/41875 , B65B5/04 , B65B25/008 , B65B57/14 , G05B19/4189 , G05B2219/31304 , G05B2219/31432 , G05B2219/32212 , G05B2219/50364 , Y02P80/40 , Y02P90/10 , Y02P90/22 , Y02P90/28
摘要： 一种处理设备，包括：多个处理站，每个处理站在产品的不同阶段自动传送产品以进行可控制的加工；一个智能的产品传送和传输系统，能够不间断的处理在上游处理站通过第一道检测工序的产品。该处理设备中的智能产品传送和传输系统，可确保多个好产品足以以高速从检测工序，连续地流到下一个工作站，进行随后的独立包装。该处理设备可包括生产球面或复曲面隐形镜片产品的隐形镜片生产流水线。
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公开(公告)号：CN102449786B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201080022451.5
申请日：2010-05-21
申请人： 奥罗拉控制技术有限公司
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32182 , G05B2219/32191 , G05B2219/32194 , G05B2219/32195 , G05B2219/32196 , G05B2219/32198 , G05B2219/32201 , G05B2219/32212 , G05B2219/32218 , H01L31/18 , Y02P90/22 , Y02P90/86
摘要： 用于制造光电产品的方法和设备，包括：评估生产线中每个产品的适合性，基于在此步骤中对产品的评估、或与先前产品在此步骤中评估结果的统计分析的比较、或以往步骤的先前评估结果与以往产品在这些步骤中的累积评估结果的统计分析的比较而指定一级别。产品可基于级别而关联到组中以作为组进行处理，下游设备可基于组的级别被调节以使所述组处于预定容差内。
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公开(公告)号：CN102569118B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201110384048.3
申请日：2011-11-28
申请人： 上海华力微电子有限公司
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G05B11/01 , G05B19/41875 , G05B2219/32212 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
摘要： 本发明公开了一种半导体制程中的偏移管理的良率提升系统，其中，包括电子数据收集记录模块和执行模块，所述执行模块含有数个顺序排列的子模块，每个所述子模块包括执行部分和检查部分；除排列在第一的所述子模块以外，每个所述子模块的执行部分与该子模块的前一个子模块的检查部分相连接；除排列在最后的子模块以外，每个所述子模块的检查部分与该子模块的后一个子模块的执行部分相连接，所述每个子模块的检查部分与所述电子数据收集记录模块连接。本发明的有益效果是：半导体制程中存在潜在风险的晶圆被记录、集中分析并被分配到相应的执行模块中，以使得风险得以最小化。
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公开(公告)号：CN102569118A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110384048.3
申请日：2011-11-28
申请人： 上海华力微电子有限公司
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G05B11/01 , G05B19/41875 , G05B2219/32212 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
摘要： 本发明公开了一种半导体制程中的偏移管理的良率提升系统，其中，包括电子数据收集记录模块和执行模块，所述执行模块含有数个顺序排列的子模块，每个所述子模块包括执行部分和检查部分；除排列在第一的所述子模块以外，每个所述子模块的执行部分与该子模块的前一个子模块的检查部分相连接；除排列在最后的子模块以外，每个所述子模块的检查部分与该子模块的后一个子模块的执行部分相连接，所述每个子模块的检查部分与所述电子数据收集记录模块连接。本发明的有益效果是：半导体制程中存在潜在风险的晶圆被记录、集中分析并被分配到相应的执行模块中，以使得风险得以最小化。
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