质量管理装置和质量管理方法

    公开(公告)号:CN105917756A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201580004699.1

    申请日:2015-01-27

    IPC分类号: H05K13/08 G05B19/418

    摘要: 在生产线上设置有生产设备和检查装置,生产设备具有为了探测本机的动作的异常而监视针对多个观测项目的观测值的功能,检查装置进行由所述生产设备处理后的制品的检査。质量管理装置具有:观测数据获取单元,其获取观测数据,该观测数据记录有在处理各制品时由所述生产设备观测到的各观测项目的观测值;以及不良原因估计单元,所述检査装置在制品中检测到不良的情况下,该不良原因估计单元使用所述观测数据将处理检测到所述不良的不良品时的观测值与处理未检测到所述不良的良品时的观测值进行比较,从而判断能成为所述不良的原因的所述生产设备的动作的异常是否已发生。

    一种适用于手啤机数据采集装置

    公开(公告)号:CN105867331A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201610270848.5

    申请日:2016-04-26

    发明人: 李小平 林奕宏

    IPC分类号: G05B19/418

    摘要: 本发明公开了一种适用于手啤机数据采集装置,包括中央服务器、ERP服务系统、数据查询平台、客户端服务平台、信息采集终端、PLC工控机和人机界面。本发明的有益效果是:通过PLC工控机进行计量后将数据通过信息采集终端上传至客户端服务平台,再由客户端服务平台上传至中央服务器,通过ERP服务系统对手啤机的当前产量自动读取,解决了人工计量容易出错的问题;通过信息采集终端将手啤机的产品料号、生产工单号、工厂订单号、原料投入、工单产量、订单数量、缺口数量、机器运行时间、停机时间进行信息采集,将数据通过客户端服务平台上传至中央服务器,通过ERP服务系统对手啤机的各种数据自动读取,实现对手啤机生产情况的及时监控。

    检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统

    公开(公告)号:CN103843124A

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN201280048731.2

    申请日:2012-08-30

    发明人: 崔东燮 戴维·天

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明可具体实施于一种用于监视并控制例如集成电路制作过程等制造过程中的反馈控制的系统及方法中。过程控制参数可包含通过在硅晶片上操作的光刻扫描仪或步进器所施加的平移、旋转、放大、剂量及焦距。使用覆盖误差来计算所述反馈控制过程中使用的测得参数。统计参数经计算、正规化并绘制在一组共同轴上以一目了然地比较测得参数与过程控制参数以促进疑难参数的检测。还以图表方式比较参数趋势与背景松弛情境。可确定例如EWMAλ等反馈控制参数并将其用作反馈参数以用于精炼基于所述测得参数计算对所述过程控制参数的调整的APC模型。

    检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统

    公开(公告)号:CN108469793A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810282070.9

    申请日:2012-08-30

    发明人: 崔东燮 戴维·天

    IPC分类号: G05B19/418 G05B13/04

    摘要: 本公开涉及一种检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统。本发明可具体实施于一种用于监视并控制例如集成电路制作过程等制造过程中的反馈控制的系统及方法中。过程控制参数可包含通过在硅晶片上操作的光刻扫描仪或步进器所施加的平移、旋转、放大、剂量及焦距。使用覆盖误差来计算所述反馈控制过程中使用的测得参数。统计参数经计算、正规化并绘制在一组共同轴上以一目了然地比较测得参数与过程控制参数以促进疑难参数的检测。还以图表方式比较参数趋势与背景松弛情境。可确定例如EWMAλ等反馈控制参数并将其用作反馈参数以用于精炼基于所述测得参数计算对所述过程控制参数的调整的APC模型。