公开(公告)号：CN107883880A

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201711037010.2

申请日：2017-10-30

Applicant: 曲阜师范大学

Inventor： 马任德 ,  夏云杰 ,  李晓平 ,  高德营

IPC: G01B11/02 ,  G01B9/02

CPC classification number: G01B11/02 ,  G01B9/0201 ,  G01B9/02034

Abstract: 本发明公开了检索正弦相位调制激光干涉数字信号波形拐点位置的方法，包括两个互补的拐点检索方案，分别为间断点检索方案、相邻零点间距检索方案。去除相邻零点间距检索方案中的错误点后，把两种方案检索的拐点位置合并，即可得到正弦相位调制激光干涉信号波形的所有拐点位置。本发明可以精确检索正弦相位调制激光干涉数字信号波形中拐点位置，在光干涉信号处理领域具有极高的应用价值。

公开(公告)号：CN106716112A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580052315.3

申请日：2015-09-29

Applicant: 统一半导体公司

Inventor： 马约·杜朗德热维涅 ,  菲利普·加斯塔尔多

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01B11/24

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02034 ,  G01B2210/56 ,  G01M11/331 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/9503 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明涉及一种用于检验用于电学、光学或光电学的晶片的方法，其包括：使晶片绕与所述晶片的主表面垂直的对称轴转动；从与干涉装置(30)耦接的光源(20)发射两条类准直入射光束，以在两条光束之间的交叉处形成包含干涉条纹的测量空间，所述干涉条纹横向于所述晶片的转动路径延伸并且在所述测量空间内具有可变的条纹间距，缺陷通过所述测量空间的时间特征取决于缺陷在所述测量空间中通过的位置处的条纹间距的值，所述晶片在光源的波长下至少部分透明，所述干涉装置(30)和所述晶片相对于彼此布置为使得所述测量空间在所述晶片的区域中延伸，所述区域的厚度小于所述晶片的厚度；收集由所述晶片的所述区域散射的光的至少一部分；捕获所收集的光并发射电信号，该电信号表示所收集的光的光强度随时间的变化；在所述信号中检测所述所收集的光的强度变化中的频率分量，所述频率是缺陷通过测量空间的时间特征；从所述缺陷通过的位置处的所述条纹间距的值，确定所述缺陷在所述径向方向和/或所述晶片的厚度中的位置。

公开(公告)号：CN106716112B

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201580052315.3

申请日：2015-09-29

Applicant: 统一半导体公司

Inventor： 马约·杜朗德热维涅 ,  菲利普·加斯塔尔多

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01B11/24

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02034 ,  G01B2210/56 ,  G01M11/331 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/9503 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明涉及一种用于检验用于电学、光学或光电学的晶片的方法，其包括：使晶片绕与所述晶片的主表面垂直的对称轴转动；从与干涉装置(30)耦接的光源(20)发射两条类准直入射光束，以在两条光束之间的交叉处形成包含干涉条纹的测量空间，缺陷通过所述测量空间的时间特征取决于缺陷在所述测量空间中通过的位置处的条纹间距的值，所述干涉装置(30)和所述晶片相对于彼此布置为使得所述测量空间在所述晶片的区域中延伸；收集由所述晶片的所述区域散射的光的至少一部分；捕获所收集的光并发射电信号；在所述信号中检测所述所收集的光的强度变化中的频率分量；从所述缺陷通过的位置处的所述条纹间距的值，确定所述缺陷在径向方向和/或所述晶片的厚度中的位置。

公开(公告)号：CN105190227A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201480015329.3

申请日：2014-03-17

Applicant: SNU精度株式会社

Inventor： 赵泰英 ,  黄映珉 ,  金星龙 ,  姜相秀 ,  朴喜载

IPC: G01B11/24 ,  G01B9/02 ,  G01N21/25

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02029 ,  G01B9/02034 ,  G01B9/02057 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/50 ,  G01J3/506 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/95 ,  G01N2021/8845 ,  G01N2021/9513

Abstract: 本发明涉及一种能够检测颜色信息的三维形状检测装置，该装置利用干涉光对检测对象的形状进行检测，其特征在于，包括：光源，用于发射光线；光线分割器，用于对从所述光源发射的光线进行反射或对通过检测对象反射的光线进行透射；透镜部，用于使通过所述光线分割器反射的光线聚集到所述检测对象；光线检测部，用于检测从所述检测对象反射的光线；及光线调节部，配置在所述光源和所述光线分割器之间的光路上，用于阻断从所述光源的中心区域发射的光线，从而减弱在所述透镜部中产生的光线的干涉。

公开(公告)号：CN105026879A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201480012734.X

申请日：2014-03-03

Applicant: 南洋理工大学

Inventor： 刘琳波

IPC: G01B9/02

CPC classification number: A61B3/102 ,  A61B3/0008 ,  A61B3/0025 ,  A61B5/0064 ,  A61B5/0066 ,  A61B5/7257 ,  G01B9/02001 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/02034 ,  G01B9/02044 ,  G01B9/02089 ,  G01B9/02091 ,  G01B2290/20

Abstract: 根据本发明的实施例，提供了光学成像设备。该光学成像设备包括光学装置，该光学装置被配置成产生包括多个分离光谱带的扩展源照射图案并照射样本的即将利用多个分离光谱带的相应光谱带成像的相应区段，其中光学装置进一步被配置成由样本光和参考光形成干涉信号，该样本光包括来自样本的扩展源照射图案的相应光谱带所照射的相应区段的相应返回光；以及被配置成接收用于产生与样本的区段相对应的图像的干涉信号的检测器。根据本发明的另外实施例，还提供了用于对样本成像的方法和用于产生图像的方法。

公开(公告)号：CN104507378A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201380027832.6

申请日：2013-03-27

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： V·A·巴加瓦图拉 ,  K·哈特科恩 ,  D·M·斯塔洛夫

IPC: A61B5/00 ,  G02B6/32

CPC classification number: G02B6/32 ,  A61B5/0066 ,  G01B9/02034 ,  G01B9/02035 ,  G01B9/0205 ,  G01B9/02091 ,  Y10T29/4978

Abstract: 公开了用于光学相干断层扫描(OCT)探针的单片光束成形光学系统以及方法，该光学相干断层扫描(OCT)探针包括具有不对称的光焦度的透明圆柱形外壳。该系统包括透明单片体(110)，该透明单片体(110)具有折叠的光轴以及至少一个对准特征，该至少一个对准特征支撑光纤的与有角度的平面端壁(160)相邻的末端。单片体还包括限定物面和像面的全内反射表面(170)和透镜表面(204)。来自光纤末端的光穿过包括驻留在透镜表面和像面之间的圆柱形外壳的光路。透镜表面自身或透镜表面和反射(例如，TIR)表面的结合被配置成基本上校正了圆柱形外壳的不对称的光焦度，从而在像面(IMP)处形成基本上旋转对称的图像斑点(380)。