MEMS器件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101426718A

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200780013818.5

    申请日:2007-02-23

    IPC分类号: B81C1/00

    摘要: 一种在衬底上制造微机电系统(MEMS)装置的方法,包括步骤:处理衬底(10)以便制作电子电路(11);沉积可操作地与所述电子电路(11)耦合的第一电极(15);沉积薄膜(16),使其机械耦合至所述第一电极(15);施加牺牲层(50);沉积结构层(18)以及可操作地与所述电子电路(11)耦合的第二电极(17),使得所述牺牲层(50)安置在所述薄膜(16)和所述结构层(18)之间从而形成初步结构;单元化所述衬底(10);以及去除所述牺牲层(50)从而形成MEMS结构,其中单元化所述衬底(10)的步骤在去除所述牺牲层(50)的步骤之前进行。