隧道磁阻效应元件、磁存储器及内置型存储器

    公开(公告)号:CN109937475A

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201780014410.3

    申请日:2017-10-16

    申请人: TDK株式会社

    摘要: TMR元件具备:设置于通路配线部的上表面上的基底层、设置于基底层的表面上的磁隧道接合部、以及覆盖通路配线部及基底层的侧面的层间绝缘层,基底层具有应力缓和部,磁隧道接合部具有磁化方向被固定的参照层、磁化自由层、以及设置于参照层与磁化自由层之间的隧道势垒层,层间绝缘层包含绝缘材料。

    氧氮化物薄膜及电容元件

    公开(公告)号:CN108695064A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810294183.0

    申请日:2018-03-30

    申请人: TDK株式会社

    IPC分类号: H01G4/10 H01G4/33

    摘要: 本发明提供一种介电特性优异的电介质薄膜及电容元件。所述电介质薄膜其特征在于,该电介质薄膜具有由以组成式AaBbOoNn(a+b+o+n=5)表示的氧氮化物构成的主组成,所述A为Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr、Nd、Na的任意一种以上,所述B为Ta、Nb、Ti、W的任意一种以上,构成所述电介质薄膜的晶粒为未向某特定的晶面方向取向的多晶,所述电介质薄膜所包含的晶粒的微晶的尺寸为100nm以下。

    隧道磁阻效应元件、磁存储器及内置型存储器

    公开(公告)号:CN116568121A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310765444.3

    申请日:2017-10-16

    申请人: TDK株式会社

    摘要: TMR元件具备:设置于通路配线部的上表面上的基底层、设置于基底层的表面上的磁隧道接合部、以及覆盖通路配线部及基底层的侧面的层间绝缘层,基底层具有应力缓和部,磁隧道接合部具有磁化方向被固定的参照层、磁化自由层、以及设置于参照层与磁化自由层之间的隧道势垒层,层间绝缘层包含绝缘材料。

    稀土类磁铁
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101083166B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200610064455.5

    申请日:2006-09-30

    申请人: TDK株式会社

    IPC分类号: H01F7/02 H01F1/053

    摘要: 本发明提供一种能够提高耐腐蚀性的稀土类磁铁。保护膜(20)是从邻近磁铁基体(10)的一侧开始依次含有具有结晶组织α(例如多晶组织)的保护层(20A)、具有结晶组织β(例如柱状结晶组织)的保护层(20B)、具有结晶组织α的保护层(20C)的三层膜。由于相邻的保护层(20A)、(20B)之间具有不同的结晶组织,同时同样相邻的保护层(20B)、(20C)之间具有不同的结晶组织,所以提高了保护膜(20)中的各层之间的致密性。由此抑制了针孔的产生,所以能够抑制保护膜(20)的腐蚀。