压电元件的制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101853917B

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN200910258044.3

    申请日:2009-12-16

    IPC分类号: H01L41/22

    CPC分类号: H01L41/332 H01L41/313

    摘要: 本发明的压电元件的制造方法包括:生长工序,使PZT膜外延生长于第1电极膜上;和加工工序,在生长工序之后,使用蚀刻液将PZT膜加工成所期望的形状,蚀刻液含有盐酸和硝酸中的至少一种酸,其中,在将相对于蚀刻液的重量的盐酸以及硝酸各自的重量浓度作为CHCl以及CHNO3的情况下,CHCl+3.3CHNO3为1wt%以上且10wt%以下,并且,所述蚀刻液还含有氟化铵和氟化氢中的至少一种氟化合物,其中,相对于蚀刻液的重量,来自于氟化铵以及氟化氢的氟的重量浓度为0.1wt%以上且1wt%以下。

    压电元件的制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101853917A

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200910258044.3

    申请日:2009-12-16

    IPC分类号: H01L41/22

    CPC分类号: H01L41/332 H01L41/313

    摘要: 本发明的压电元件的制造方法包括:生长工序,使PZT膜外延生长于第1电极膜上;和加工工序,在生长工序之后,使用蚀刻液将PZT膜加工成所期望的形状,蚀刻液含有盐酸和硝酸中的至少一种酸,其中,在将相对于蚀刻液的重量的盐酸以及硝酸各自的重量浓度作为CHCl以及CHNO3的情况下,CHCl+3.3CHNO3为1wt%以上且10wt%以下,并且,所述蚀刻液还含有氟化铵和氟化氢中的至少一种氟化合物,其中,相对于蚀刻液的重量,来自于氟化铵以及氟化氢的氟的重量浓度为0.1wt%以上且1wt%以下。