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公开(公告)号：CN117063131A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280023014.8
申请日：2022-03-04
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： W·M·J·M·柯恩 , V·T·滕纳 , H·A·J·克瑞姆 , A·J·登鲍埃夫 , W·库克 , S·索科洛夫 , J·J·M·范德维基德翁 , A·K·劳勃
IPC分类号： G03H1/00
摘要： 公开了一种校正全息图像的方法、一种处理装置、一种暗场数字全息显微镜、一种量测设备和一种检测设备。所述方法包括：获得所述全息图像；根据所述全息图像确定由于运动模糊而引起的至少一个衰减函数；以及使用所述至少一个衰减函数校正所述全息图像或所述全息图像的一部分。
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公开(公告)号：CN114667446A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202080065378.3
申请日：2020-09-03
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/956 , G03F7/20
摘要： 披露了一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法。所述方法包括：接收表示由所述区域所散射的辐射的一部分的辐射信息；以及在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分，以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息，其中所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。
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公开(公告)号：CN115004113A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180011634.5
申请日：2021-01-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·J·廷尼曼斯 , 帕特里克·华纳 , V·T·滕纳 , H·A·J·克瑞姆 , B·A·G·洛马士 , B·L·W·M·范德文 , A·B·昆布尔 , A·P·康宁贝格
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/95 , G01N21/956
摘要： 披露了一种利用具有至少一个波长的照射辐射来测量衬底上的周期性结构的方法，所述周期性结构具有至少一个间距。所述方法包括基于所述间距与所述波长的比率来配置成下各项中的一个或更多个：照射孔轮廓，所述照射孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个照射区；用于测量的所述周期性结构的取向；以及检测孔轮廓，所述检测孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个分离的检测区。这种配置使得：i)在所述检测孔轮廓内捕获至少一对互补衍射阶的衍射辐射，和ii)所述衍射辐射填充所述一个或更多个分离的检测区的至少80％。所述周期性结构被测量，而同时应用照射孔轮廓、检测孔轮廓和所述周期性结构的取向中的经配置的一个或更多个。
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公开(公告)号：CN111527373A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880079102.3
申请日：2018-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·J·蒂内曼斯 , A·J·登博夫 , A·E·A·科伦 , N·潘迪 , V·T·滕纳 , W·M·J·M·考恩 , 帕特里克·沃纳阿
摘要： 描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构的结果，所述散射辐射已经被所述至少一个结构反射或散射，所述处理器配置成使用被确定的相位和振幅来确定感兴趣的特性。
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公开(公告)号：CN112513742B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN201980051246.2
申请日：2019-07-01
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·J·廷尼曼斯 , 帕特里克·华纳 , V·T·滕纳 , M·范德斯卡
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 披露了一种用于获得对由一对结构散射辐射进行描述的按计算方式确定的干涉电场的方法，所述一对结构包括位于衬底上的第一结构和第二结构，所述方法包括：确定与由所述第一结构散射的第一辐射相关的第一电场；确定与由所述第二结构散射的第二辐射相关的第二电场；和按计算方式确定所述第一电场和所述第二电场的干涉，以获得按计算方式确定的干涉电场。
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公开(公告)号：CN113966488B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202080042960.8
申请日：2020-05-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·T·滕纳 , W·M·J·M·考恩
摘要： 披露了一种确定与结构有关的复值场的方法，包括：获得与所述结构的一系列图像相关的图像数据，对于所述结构，至少一个测量参数是所述系列中是变化的；以及获得可操作以将一系列图像映射到对应的复值场的经训练网络。所述方法包括：将所述图像数据输入到所述经训练网络中；和以非迭代的方式确定与所述结构相关的、作为所述经训练网络的输出的所述复值场。也披露了一种训练未经训练网络的方法。
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公开(公告)号：CN112204473B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201980036860.1
申请日：2019-03-19
申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会 , 荷兰科学研究机构基金会 , 阿姆斯特丹大学 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。
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公开(公告)号：CN117651913A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280050482.4
申请日：2022-06-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·T·滕纳 , H·A·J·克瑞姆 , T·W·图克尔 , B·L·W·M·范德文
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开一种可操作以利用测量辐射来测量样本的量测装置和相关联的方法。所述量测装置包括：照射分支，所述照射分支可操作以将测量辐射传送至样本；检测分支，所述检测分支可操作以传送由于通过所述测量辐射照射所述样本而从所述样本散射的散射辐射的一个或更多个分量；以及在所述照射分支或所述检测分支中的任一个中的色散布置。所述色散布置被布置成在所述测量辐射的波长值的范围内将所述散射辐射的一个或更多个分量维持在检测光瞳平面中的大致相同的对应的位置处。
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公开(公告)号：CN113966488A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202080042960.8
申请日：2020-05-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·T·滕纳 , W·M·J·M·考恩
摘要： 披露了一种确定与结构有关的复值场的方法，包括：获得与所述结构的一系列图像相关的图像数据，对于所述结构，至少一个测量参数是所述系列中是变化的；以及获得可操作以将一系列图像映射到对应的复值场的经训练网络。所述方法包括：将所述图像数据输入到所述经训练网络中；和以非迭代的方式确定与所述结构相关的、作为所述经训练网络的输出的所述复值场。也披露了一种训练未经训练网络的方法。
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公开(公告)号：CN112204473A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201980036860.1
申请日：2019-03-19
申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会 , 荷兰科学研究机构基金会 , 阿姆斯特丹大学 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。
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