公开(公告)号：CN112204473A

公开(公告)日：2021-01-08

申请号：CN201980036860.1

申请日：2019-03-19

申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会 ,  荷兰科学研究机构基金会 ,  阿姆斯特丹大学 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： J·F·德波尔 ,  V·T·滕纳 ,  C·弥赛西 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。

公开(公告)号：CN116113821A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202180051933.1

申请日：2021-08-19

申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会

发明人： 阿尔弗雷多·霍尔兹沃思 ,  雅科波·乌尔巴尼 ,  卢卡斯·贾斯蒙塔斯

IPC分类号： G01N21/63

摘要： 提供了一种用于测量来自光合对象的荧光信号的光谱学设备。所述光谱学设备包括：一个或多个光激发源(26、28)，所述一个或多个光激发源可操作以实行来自所述光合对象的所述荧光的时变激发；以及一个或多个荧光敏感检测通道(36、38、44、46)，所述一个或多个荧光敏感检测通道被配置成响应于由所述光激发源或每个光激发源(26、28)对来自所述光合对象的所述荧光的所述激发，以微秒至毫秒的时间分辨率同时记录作为时间的函数的所述荧光，并以10nm或更好的波长分辨率记录作为波长的函数的所述荧光。

公开(公告)号：CN107530699A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680020189.8

申请日：2016-02-04

申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会

发明人： A·S·比布里歇尔 ,  A·坎德里 ,  I·海勒 ,  N·劳伦斯 ,  E·J·G·彼得曼 ,  G·J·L·维特

IPC分类号： B01L3/00 ,  G02B21/32 ,  G21K1/00

摘要： 本公开涉及一种用于控制多个同时活动光阱(OT1、OT2、OT3)的装置(100)和方法。在一种方法中，提供并重新定向捕获光束(TB1、TB2、TB3)，以单独控制通过将重定向捕获光束聚焦在样本体积(SV)中形成的光阱(OT1、OT2、OT3)的相应位置(X、Y)。接收来自样本体积(SV)的与光阱相对应的光(L11、L20)。使检测器光束(AB)的路径与其中一个捕获光束(TB3)重叠，其中，所述检测器光束具有与重叠捕获光束(TB3)不同的波长(λA)。在一个通道中，根据波长过滤来自样本体积的光，并且仅测量具有检测器光束(AB)的波长(λA)的滤过光。

公开(公告)号：CN112204473B

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN201980036860.1

申请日：2019-03-19

申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会 ,  荷兰科学研究机构基金会 ,  阿姆斯特丹大学 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： J·F·德波尔 ,  V·T·滕纳 ,  C·弥赛西 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。

公开(公告)号：CN107530699B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201680020189.8

申请日：2016-02-04

申请人： 阿姆斯特丹自由大学基金会

发明人： A·S·比布里歇尔 ,  A·坎德里 ,  I·海勒 ,  N·劳伦斯 ,  E·J·G·彼得曼 ,  G·J·L·维特

IPC分类号： B01L3/00 ,  G02B21/32 ,  G21K1/00

摘要： 本公开涉及一种用于控制多个同时活动光阱(OT1、OT2、OT3)的装置(100)和方法。在一种方法中，提供并重新定向捕获光束(TB1、TB2、TB3)，以单独控制通过将重定向捕获光束聚焦在样本体积(SV)中形成的光阱(OT1、OT2、OT3)的相应位置(X、Y)。接收来自样本体积(SV)的与光阱相对应的光(L11、L20)。使检测器光束(AB)的路径与其中一个捕获光束(TB3)重叠，其中，所述检测器光束具有与重叠捕获光束(TB3)不同的波长(λA)。在一个通道中，根据波长过滤来自样本体积的光，并且仅测量具有检测器光束(AB)的波长(λA)的滤过光。

公开(公告)号：CN110088682A

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201780077241.8

申请日：2017-11-22

申请人： 阿姆斯特丹大学 ,  阿姆斯特丹自由大学基金会 ,  物资基础研究基金会 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： N·斯伯克 ,  P·C·M·普兰肯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

摘要： EUV辐射源(42，300)被用于例如光刻设备或检查设备中。为了产生EUV辐射(302)，将位于第二波段的激光辐射(304)引导到液体锡燃料(69)的靶上，以使得产生等离子体。在传递所述激光辐射(304)之前或期间将光栅辐射(328)引导到所述靶上，以产生具有空间分布的电磁场，所述空间分布包括跨过靶(406)的多个峰和谷。这使得所述靶的性质，诸如折射率，产生对应的空间变化。如果能量足够高，则它可以使得光栅图案中发生烧蚀或形成等离子体。通过一个或更多个机制，诸如表面等离子体激元，靶的光学性质的这种周期性变化提高了激光能量的吸收，从而提高了辐射源设备的转换效率。