Invention Publication
- Patent Title: 确定结构特性的方法和量测设备
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Application No.: CN201980036860.1Application Date: 2019-03-19
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Publication No.: CN112204473APublication Date: 2021-01-08
- Inventor: J·F·德波尔 , V·T·滕纳 , C·弥赛西 , A·J·登鲍埃夫
- Applicant: 阿姆斯特丹自由大学基金会 , 荷兰科学研究机构基金会 , 阿姆斯特丹大学 , ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰阿姆斯特丹
- Assignee: 阿姆斯特丹自由大学基金会,荷兰科学研究机构基金会,阿姆斯特丹大学,ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: 阿姆斯特丹自由大学基金会,荷兰科学研究机构基金会,阿姆斯特丹大学,ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰阿姆斯特丹
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 闫红
- Priority: 18166312.1 2018.04.09 EP
- International Application: PCT/EP2019/056776 2019.03.19
- International Announcement: WO2019/197117 EN 2019.10.17
- Date entered country: 2020-12-01
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20
Abstract:
公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。
Public/Granted literature
- CN112204473B 确定结构特性的方法和量测设备 Public/Granted day:2023-08-15
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IPC分类:
