半导体晶片
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100407403C

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200510081382.6

    申请日:2005-06-28

    Abstract: 本发明披露一种半导体晶片,其特征是,包括多个集成电路芯片区域,每一集成电路芯片区域周围是切割线围绕,经由切割线以及晶片机械切割步骤,可以将多个集成电路芯片区域分开,其中每一集成电路芯片具有四个转角;保护层,同时覆盖前述的集成电路芯片区域以及切割线;第一沟槽,是蚀刻穿过前述的保护层,然后至少蚀刻至介电层,并且仅被安排在每一集成电路芯片的四个转角处;第二沟槽,蚀刻穿过前述的保护层,并配置在靠近前述的第一沟槽的位置;以及保护封环结构,介于集成电路芯片区域与第一沟槽之间。

    半导体晶片
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1889249A

    公开(公告)日:2007-01-03

    申请号:CN200510081382.6

    申请日:2005-06-28

    Abstract: 本发明披露一种半导体晶片,其特征是,包括多个集成电路芯片区域,每一集成电路芯片区域周围是切割线围绕,经由切割线以及晶片机械切割步骤,可以将多个集成电路芯片区域分开,其中每一集成电路芯片具有四个转角;保护层,同时覆盖前述的集成电路芯片区域以及切割线;第一沟槽,是蚀刻穿过前述的保护层,然后至少蚀刻至介电层,并且仅被安排在每一集成电路芯片的四个转角处;第二沟槽,蚀刻穿过前述的保护层,并配置在靠近前述的第一沟槽的位置;以及保护封环结构,介于集成电路芯片区域与第一沟槽之间。

    一种凸点与存储器激光修补工艺

    公开(公告)号:CN1225778C

    公开(公告)日:2005-11-02

    申请号:CN02120649.X

    申请日:2002-05-27

    Inventor: 陈国明 刘洪民

    CPC classification number: H01L2224/11

    Abstract: 本发明先在一半导体芯片的凸点焊点上形成一第一介电层,接着蚀刻该第一介电层以形成一接触孔并暴露部分该凸点焊点,然后于该接触孔外的该半导体芯片表面形成一第二介电层,再进行一凸点底层金属化工艺,以于该接触孔表面形成一金属层,并在该金属层上形成一焊料凸点,最后完成存储器激光修补工艺。

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