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公开(公告)号：CN106272123B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610912534.0
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接件；安装板，所述安装板设置在所述连接件的下侧；调心轴承，所述调心轴承具有内圈和外圈，所述内圈和所述外圈中的一个与所述连接件相连且另一个与所述安装板相连；周向同步件，所述周向同步件设置成用于在周向方向上同步所述安装板和所述连接件。该抛光头的安装板相对连接件角度可调，从而安装板可以补偿其工件安装面和工件表面之间的角度误差，以及可以补偿工件安装面和抛光盘之间的角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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公开(公告)号：CN107717718B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201710911999.9
申请日：2017-09-29
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备及其操作方法，化学机械抛光设备包括夹片组件，夹片组件上安装有抛光件；保持环，保持环设在夹片组件上，抛光件位于保持环内；抛光盘，抛光盘设在保持环和抛光件的下方；其特征在于，还包括：保持环调节装置，保持环调整装置包括：调节装置，调节装置包括向上调节保持环的拉杆和向下调节保持环的压杆；压力分布检测装置，压力分布检测装置设在抛光盘上以用于检测保持环与抛光盘以及抛光件与抛光盘之间的压力分布，调节装置根据压力分布检测装置的检测信息调节保持环。根据本发明的化学机械抛光设备，能够保证抛光件抛光后的面形精度，提高抛光效果。
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公开(公告)号：CN109037101A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810770023.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67092 , H01L21/67023
Abstract: 本发明公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。
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公开(公告)号：CN106272123A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610912534.0
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接件；安装板，所述安装板设置在所述连接件的下侧；调心轴承，所述调心轴承具有内圈和外圈，所述内圈和所述外圈中的一个与所述连接件相连且另一个与所述安装板相连；周向同步件，所述周向同步件设置成用于在周向方向上同步所述安装板和所述连接件。该抛光头的安装板相对连接件角度可调，从而安装板可以补偿其工件安装面和工件表面之间的角度误差，以及可以补偿工件安装面和抛光盘之间的角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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公开(公告)号：CN106891244A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710117233.3
申请日：2017-03-01
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B37/11 , B24B41/002
Abstract: 本发明提出一种抛光头，该抛光头包括基板、驱动件、上浮动件、下浮动件、传动件，以及吸附件，其中，驱动件包括：第一连接端，和第一传动端；上浮动件包括：第二连接端和上浮动端，第二连接端与第一连接端同轴心固定相连，上浮动端为凹球面或者凹圆锥面；下浮动件包括：下浮动端和第三连接端，下浮动端为凸球面；下浮动端的凸球面与上浮动端的凹球面或者凹圆锥面相适配，且可拆卸地相连，且上浮动件与下浮动件之间进行浮动的转动中心不高于工件的抛光表面。通过本发明能够减小接触点变形，减少工件与抛光盘间的偏摆，弥补抛光头与抛光盘之间的平行度误差，使工件贴合在抛光盘表面，且提升抛光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106449510A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610855022.5
申请日：2016-09-26
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了一种晶圆传输装置，晶圆传输装置包括：晶圆夹持组件；竖直移动组件，所述竖直移动组件设置成驱动所述晶圆夹持组件竖直移动；水平移动组件，所述水平移动组件设置成驱动所述竖直移动组件水平移动。通过设置竖直移动组件和水平移动组件，可以在上下方向上输送和输出晶圆，可以避免在工艺腔室的侧面开设窗口，从而一方面可以避免泄露以及液体溅射，可以降低工艺腔室的密封要求，另一方面可以减小晶圆传输装置的占地面积，降低晶圆传输装置的生产成本。
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公开(公告)号：CN106334997A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610912181.4
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B41/002 , B24B29/00
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接板，所述连接板具有第一球面；安装板，所述安装板具有第二球面，所述第一球面与所述第二球面相配合；变形连接件，所述变形连接件连接在所述连接板和所述安装板之间以使所述连接板和所述安装板同步转动并适于变形以允许所述第一球面和所述第二球面相互滚动。该抛光头的安装板可以相对连接板转动，从而可以便于工件安装面相对工件表面和抛光盘进行角度调节以补偿角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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公开(公告)号：CN107717718A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710911999.9
申请日：2017-09-29
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备及其操作方法，化学机械抛光设备包括夹片组件，夹片组件上安装有抛光件；保持环，保持环设在夹片组件上，抛光件位于保持环内；抛光盘，抛光盘设在保持环和抛光件的下方；其特征在于，还包括：保持环调节装置，保持环调整装置包括：调节装置，调节装置包括向上调节保持环的拉杆和向下调节保持环的压杆；压力分布检测装置，压力分布检测装置设在抛光盘上以用于检测保持环与抛光盘以及抛光件与抛光盘之间的压力分布，调节装置根据压力分布检测装置的检测信息调节保持环。根据本发明的化学机械抛光设备，能够保证抛光件抛光后的面形精度，提高抛光效果。
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公开(公告)号：CN208368479U
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201821120550.7
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN109037101B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201810770023.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。
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