发明授权
- 专利标题: 化学机械抛光设备及其操作方法
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申请号: CN201710911999.9申请日: 2017-09-29
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公开(公告)号: CN107717718B公开(公告)日: 2019-05-31
- 发明人: 姜博成 , 赵德文 , 赵慧佳 , 郑家旺 , 路新春 , 沈攀
- 申请人: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区清华园
- 专利权人: 清华大学,天津华海清科机电科技有限公司
- 当前专利权人: 清华大学,华海清科股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华园
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 黄德海
- 主分类号: B24B37/10
- IPC分类号: B24B37/10 ; B24B37/30 ; B24B37/32 ; B24B37/04 ; B24B37/005 ; B24B49/00 ; B24B7/22
摘要:
本发明公开了一种化学机械抛光设备及其操作方法,化学机械抛光设备包括夹片组件,夹片组件上安装有抛光件;保持环,保持环设在夹片组件上,抛光件位于保持环内;抛光盘,抛光盘设在保持环和抛光件的下方;其特征在于,还包括:保持环调节装置,保持环调整装置包括:调节装置,调节装置包括向上调节保持环的拉杆和向下调节保持环的压杆;压力分布检测装置,压力分布检测装置设在抛光盘上以用于检测保持环与抛光盘以及抛光件与抛光盘之间的压力分布,调节装置根据压力分布检测装置的检测信息调节保持环。根据本发明的化学机械抛光设备,能够保证抛光件抛光后的面形精度,提高抛光效果。
公开/授权文献
- CN107717718A 化学机械抛光设备及其操作方法 公开/授权日:2018-02-23