用于涂覆多孔基底的表面的设备和方法

    公开(公告)号:CN110770366A

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201880040649.2

    申请日:2018-06-22

    Abstract: 本发明涉及用于涂覆多孔基底的表面的设备和方法,根据本发明的一个方面,提供了用于涂覆具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的多孔基底的表面的设备,所述设备包括:用于将源气体供应至多孔基底的第一表面的第一供应部;用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第一表面朝向第二表面的方向上的流动流的第一泵送部;用于将源气体供应至多孔基底的第二表面的第二供应部;用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第二表面朝向第一表面的方向上的流动流的第二泵送部;和用于输送基底的基底载体。

    基板
    5.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN109155371B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201780013232.2

    申请日:2017-05-23

    Abstract: 本申请提供了基板、有机电子器件及其用途。本申请的基板具有包括直接形成在光学功能层的凹凸表面上的电极层的结构,并且在形成有机电子器件时,可以确保优异的功能性例如光提取效率等,以及元件的长时间稳定驱动。

    基板
    6.
    发明公开
    基板 有权

    公开(公告)号:CN109155371A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780013232.2

    申请日:2017-05-23

    Abstract: 本申请提供了基板、有机电子器件及其用途。本申请的基板具有包括直接形成在光学功能层的凹凸表面上的电极层的结构,并且在形成有机电子器件时,可以确保优异的功能性例如光提取效率等,以及元件的长时间稳定驱动。

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