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发明公开
用于涂覆多孔基底的表面的设备和方法审中-实审

公开(公告)号：CN110770366A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201880040649.2

申请日：2018-06-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴相俊 , 金钟硕 , 李恩政 , 金圣洙 , 李在仁 , 赵安部

IPC: C23C16/455 , C23C16/54 , C03C17/00 , C03B35/20

Abstract: 本发明涉及用于涂覆多孔基底的表面的设备和方法，根据本发明的一个方面，提供了用于涂覆具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的多孔基底的表面的设备，所述设备包括：用于将源气体供应至多孔基底的第一表面的第一供应部；用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第一表面朝向第二表面的方向上的流动流的第一泵送部；用于将源气体供应至多孔基底的第二表面的第二供应部；用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第二表面朝向第一表面的方向上的流动流的第二泵送部；和用于输送基底的基底载体。

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