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公开(公告)号：CN1254848C
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200310115276.6
申请日：2003-11-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , H01L21/00 , G03F1/00
Abstract: 本发明提供一种能够适当选取判定光掩模好坏时所用管理部位的光掩模制造方法。该方法具备：准备应在掩模基板上形成的掩模图形数据的工序；根据所述数据，分别对所述掩模图形中包括的多个图形，计算边缘移动灵敏度的工序，其中，该边缘移动灵敏度对应于，从图形边缘变动时应设定的适宜曝光量偏移的偏移量；根据所述计算出的边缘移动灵敏度，决定所述掩模基板上应形成的掩模图形的管理部位的工序；在所述掩模基板上形成掩模图形的工序；取得与所述掩模基板上形成的掩模图形的所述管理部位对应的区域中所包括的图形的尺寸的工序；以及根据所述取得的尺寸，判定所述掩模基板上形成的掩模图形的曝光裕度是否满足预定条件的工序。
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公开(公告)号：CN1505102A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：CN200310115276.6
申请日：2003-11-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , H01L21/00 , G03F1/00
Abstract: 本发明提供一种能够适当选取判定光掩模好坏时所用管理部位的光掩模制造方法。该方法具备：准备在掩模基板上应形成的掩模图形的数据的工序；按照数据，分别对所述掩模图形中包括的多个图形变动图形边缘时，计算与应该设定曝光量的适宜曝光量的偏移量对应的边缘移动灵敏度的工序；按照计算的边缘移动灵敏度，特定在掩模基板上应形成的掩模图形的管理部位的工序；在掩模基板上实际形成掩模图形的工序；取得与掩模基板上形成掩模图形的管理部位对应的区域中包括的图形尺寸的工序；以及按照取得的尺寸，判定掩模基板上形成的掩模图形是否满足规定条件的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1248048C
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN01145446.6
申请日：2001-08-29
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F1/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/32 , G03F7/70558 , G03F7/70591 , G03F7/70625
Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。
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公开(公告)号：CN1223898C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03105272.X
申请日：2003-02-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F1/84 , G03F7/705 , G03F7/70625
Abstract: 本发明的课题是提供能进行精度更高的是否合格的判断的光掩模的制造方法。本发明的光掩模的制造方法包含下述步骤：在光掩模上作成掩模图案(ST.1)；测定作成的掩模图案的尺寸(ST.2、ST.3)；根据尺寸测定的结果，求出在被曝光体上曝光掩模图案时的曝光余量；判断求出的曝光余量是否满足规定的曝光余量；根据是否满足曝光余量的判断结果，判断光掩模是否合格；该制造方法的特征在于：尺寸测定包含掩模图案中在被曝光体上曝光该掩模图案时曝光余量小的临界图案部的尺寸测定。
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公开(公告)号：CN1441316A
公开(公告)日：2003-09-10
申请号：CN03105272.X
申请日：2003-02-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F1/84 , G03F7/705 , G03F7/70625
Abstract: 本发明的课题是提供能进行精度更高的是否合格的判断的光掩模的制造方法。本发明的光掩模的制造方法包含下述步骤：在光掩模上作成掩模图案(ST.1)；测定作成的掩模图案的尺寸(ST.2、ST.3)；根据尺寸测定的结果，求出在被曝光体上曝光掩模图案时的曝光余量；判断求出的曝光余量是否满足规定的曝光余量；根据是否满足曝光余量的判断结果，判断光掩模是否合格；该制造方法的特征在于：尺寸测定包含掩模图案中在被曝光体上曝光该掩模图案时曝光余量小的临界图案部的尺寸测定。
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公开(公告)号：CN1410927A
公开(公告)日：2003-04-16
申请号：CN02142752.6
申请日：2002-09-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G06F17/60
CPC classification number: G06Q30/06 , G06Q30/0633
Abstract: 本发明的掩模交易系统及方法，根据掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换，可以订购制作更符合掩模购买者意愿的掩模。掩模交易系统的主机装置20，具有通过网络与购买者进行信息交换的购买代理22和与销售者进行信息交换的销售代理24。形成存储虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果，但掩模的缴纳期限及价格的好否相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息的流水线信息文件48。计算部28计算出分别使用多种处理方式时掩模制品的预定缴纳期限及预定价格。通过处理方式选择部30并借助购买代理22将计算出的结果提供给掩模购买者。
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公开(公告)号：CN1356592A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01145446.6
申请日：2001-08-29
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F1/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/32 , G03F7/70558 , G03F7/70591 , G03F7/70625
Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后,测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件,来判断上述光掩模是否合格。
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