公开(公告)号：CN1782871A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200510133813.9

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。

公开(公告)号：CN100562802C

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200510133813.9

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。

公开(公告)号：CN1248048C

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN01145446.6

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70625

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。

公开(公告)号：CN1356592A

公开(公告)日：2002-07-03

申请号：CN01145446.6

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70625

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后,测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件,来判断上述光掩模是否合格。