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公开(公告)号:CN102281751B
公开(公告)日:2014-04-16
申请号:CN201110138310.6
申请日:2011-05-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05K1/111 , H05K3/3442 , H05K3/3484 , H05K2201/09381 , H05K2201/0939 , H05K2201/09663 , H05K2201/09745 , H05K2201/10636 , Y02P70/611 , Y02P70/613
Abstract: 本发明公开的安装结构体在利用SMT方式制作安装结构体时,抑制助焊剂的过热所引起的焊料流动,抑制焊球的产生。安装结构体(18)包括具有至少设置了一个电极缺口部(12)的基板电极(11)和抗蚀层(13)的绝缘基板(10)、具有与基板电极进行电接合的电子元器件电极(16)的电子元器件(15)、以及配置在基板电极的表面上以用于基板电极和电子元器件电极的焊料接合的焊料糊料(17),在设电极缺口部的宽度为h、深度为x时,电极缺口部(12)具有0<h(μm)≤x(μm)+75(μm)的关系,电极缺口部(12)形成为从位于电子元器件电极的下方的、基板电极的区域(100)的端部或基板电极的区域(100)的内侧到基板电极的外周侧面,电极缺口部(12)未到达位于电子元器件的下方的、基板电极的外周侧面。
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公开(公告)号:CN101454114B
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN200780019111.5
申请日:2007-05-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: Y02P70/613
Abstract: 本发明廉价地提供一种具有270℃以上的熔化温度、且不含铅的接合材料。该接合材料含有以Bi为主成分的合金,所述合金含有0.2~0.8重量%Cu和0.02~0.2重量%Ge,所述接合材料用于接合电子部件的电子元件和电极。
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公开(公告)号:CN102066044A
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN201080001875.3
申请日:2010-04-19
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05K3/3463 , B23K35/262 , B23K2101/36 , B32B15/01 , C22C13/00 , H05K3/3442 , H05K2201/10992 , Y02P70/613
Abstract: 本发明提供一种显示高耐热疲劳性,能有效地降低导致制品功能停止的连接不良发生的无铅焊锡材料。一种焊锡材料,其含有1.0~4.0重量%Ag、4.0~6.0重量%In、0.1~1.0重量%Bi、总计1重量%以下(其中不包括0重量%)的选自Cu、Ni、Co、Fe及Sb中的1种以上元素,余量为Sn。使用该焊锡材料在基板(1)的含铜的电极焊盘(1a)上接合电子部件(3)的含铜的电极部(3a)时,可以在焊锡接合部形成应力缓和性优异的部分(5b),使Cu-Sn金属间化合物(5a)从电极焊盘(1a)与电极部(3a)迅速地生长,可以形成牢固的封闭结构。由此,即使在严酷的温度环境下,也可以防止龟裂的发生及伸长,可以实现高耐热疲劳特性,从而可以降低连接不良的发生。
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公开(公告)号:CN101790780A
公开(公告)日:2010-07-28
申请号:CN200980100250.X
申请日:2009-06-12
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C22C1/002 , H01L23/49513 , H01L23/49562 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/73 , H01L24/743 , H01L24/83 , H01L2224/04026 , H01L2224/05554 , H01L2224/0558 , H01L2224/05639 , H01L2224/29101 , H01L2224/29111 , H01L2224/29113 , H01L2224/32057 , H01L2224/32245 , H01L2224/45124 , H01L2224/48247 , H01L2224/48739 , H01L2224/73265 , H01L2224/743 , H01L2224/83101 , H01L2224/83192 , H01L2224/83385 , H01L2224/83801 , H01L2224/85439 , H01L2224/92247 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01024 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01032 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01075 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/0132 , H01L2924/0133 , H01L2924/014 , H01L2924/10253 , H01L2924/15747 , H01L2924/181 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/01022 , H01L2924/00012
Abstract: 一种半导体装置,具有:模焊盘(3),由在表面形成第1焊锡接合层的金属构成;和半导体元件(5),在该模焊盘(3)的第1焊锡接合层(11)上,由以铋为主成分的焊锡材料(9)固接而成。第1焊锡接合层(11),由比焊锡材料(9)更软的材料构成;在第1焊锡接合层(11)的一部分中,形成由焊锡材料(9)被按压而成的凹陷部分(11a),焊锡材料(9)的一部分,填充至凹陷部分(11a)。
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公开(公告)号:CN101454114A
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:CN200780019111.5
申请日:2007-05-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: Y02P70/613
Abstract: 本发明廉价地提供一种具有270℃以上的熔化温度、且不含铅的接合材料。该接合材料含有以Bi为主成分的合金,所述合金含有0.2~0.8重量%Cu和0.02~0.2重量%Ge,所述接合材料用于接合电子部件的电子元件和电极。
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公开(公告)号:CN102066044B
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN201080001875.3
申请日:2010-04-19
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05K3/3463 , B23K35/262 , B23K2101/36 , B32B15/01 , C22C13/00 , H05K3/3442 , H05K2201/10992 , Y02P70/613
Abstract: 本发明提供一种显示高耐热疲劳性,能有效地降低导致制品功能停止的连接不良发生的无铅焊锡材料。一种焊锡材料,其含有1.0~4.0重量%Ag、4.0~6.0重量%In、0.1~1.0重量%Bi、总计1重量%以下(其中不包括0重量%)的选自Cu、Ni、Co、Fe及Sb中的1种以上元素,余量为Sn。使用该焊锡材料在基板(1)的含铜的电极焊盘(1a)上接合电子部件(3)的含铜的电极部(3a)时,可以在焊锡接合部形成应力缓和性优异的部分(5b),使Cu-Sn金属间化合物(5a)从电极焊盘(1a)与电极部(3a)迅速地生长,可以形成牢固的封闭结构。由此,即使在严酷的温度环境下,也可以防止龟裂的发生及伸长,可以实现高耐热疲劳特性,从而可以降低连接不良的发生。
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公开(公告)号:CN102281751A
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN201110138310.6
申请日:2011-05-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05K1/111 , H05K3/3442 , H05K3/3484 , H05K2201/09381 , H05K2201/0939 , H05K2201/09663 , H05K2201/09745 , H05K2201/10636 , Y02P70/611 , Y02P70/613
Abstract: 本发明公开的安装结构体在利用SMT方式制作安装结构体时,抑制助焊剂的过热所引起的焊料流动,抑制焊球的产生。安装结构体(18)包括具有至少设置了一个电极缺口部(12)的基板电极(11)和抗蚀层(13)的绝缘基板(10)、具有与基板电极进行电接合的电子元器件电极(16)的电子元器件(15)、以及配置在基板电极的表面上以用于基板电极和电子元器件电极的焊料接合的焊料糊料(17),在设电极缺口部的宽度为h、深度为x时,电极缺口部(12)具有0<h(μm)≤x(μm)+75(μm)的关系,电极缺口部(12)形成为从位于电子元器件电极的下方的、基板电极的区域(100)的端部或基板电极的区域(100)的内侧到基板电极的外周侧面,电极缺口部(12)未到达位于电子元器件的下方的、基板电极的外周侧面。
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公开(公告)号:CN102047398A
公开(公告)日:2011-05-04
申请号:CN201080001751.5
申请日:2010-04-27
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/52 , C22C12/00 , H01L21/3205 , H01L23/52
CPC classification number: H01L23/49513 , B23K1/0016 , B23K35/0233 , B23K35/0238 , B23K35/264 , B23K35/325 , B32B15/01 , C22C12/00 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/48 , H01L24/73 , H01L24/83 , H01L2224/2908 , H01L2224/29084 , H01L2224/29101 , H01L2224/29111 , H01L2224/29113 , H01L2224/32245 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/73265 , H01L2224/83801 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01019 , H01L2924/01024 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01032 , H01L2924/01033 , H01L2924/01046 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/0132 , H01L2924/01322 , H01L2924/0133 , H01L2924/014 , H01L2924/04953 , H01L2924/10329 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H01L2924/181 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2924/01083 , H01L2924/00015 , H01L2224/45099 , H01L2224/45015 , H01L2924/207
Abstract: 在半导体元件(102)的表面(102b)配置晶格与以Bi为主要成分的接合材料(106)不同的金属的层(105),并且在晶格与接合材料(106)不同的金属的所述层(105)和半导体元件(102)的表面(102b)之间配置与接合材料(106)的化合物生成热为正值的元素的层(104),藉此防止晶格与接合材料(106)不同的金属的所述层(105)的成分向半导体元件(102)扩散。
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公开(公告)号:CN1617656B
公开(公告)日:2010-09-22
申请号:CN200410085941.6
申请日:2004-10-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H05K3/34
CPC classification number: H05K3/3489 , H05K3/288 , H05K3/3447 , H05K2201/10287 , H05K2203/095
Abstract: 本发明提供一种电子部件的处理方法,其是将具有端子部的电子部件的树脂包覆剥离的电子部件的处理方法,其特征在于,包含将等离子照射到以铜为主要成分且表面由树脂包覆的包覆线上的步骤。
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公开(公告)号:CN1080616C
公开(公告)日:2002-03-13
申请号:CN96194876.0
申请日:1996-06-19
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05K3/244 , B23K35/0227 , B23K35/0244 , B23K35/025 , B23K35/26 , H01L23/49582 , H01L2924/0002 , H05K3/3421 , H05K3/3463 , H05K3/3484 , H05K2201/0218 , H05K2201/10636 , H05K2203/0425 , Y02P70/611 , Y10T428/24917 , Y10T428/2938 , Y10T428/294 , Y10T428/2951 , Y10T428/2991 , H01L2924/00
Abstract: 通过改善浸润性增加粘接强度和使焊料逐渐熔化,可减少局部芯片脱离的发生。提供高性能和高可靠性的焊接材料、电子元件和电路板。用金属元素铟(In)或铋(Bi)涂敷焊料芯表面、电子元件的引线框架表面和电极表面、以及电路板的铜(Cu)焊区表面。
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