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公开(公告)号：CN102160150A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200980137280.8
申请日：2009-07-13
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 卡特里娜·米哈利钦科 , 伊扎克·萨巴 , 德拉甘·波德莱斯尼克
IPC: H01L21/302 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/02071 , H01L21/6704 , H01L21/67075 , H01L21/67253 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 一种用于在蚀刻后清洁操作过程中从衬底表面上形成的金属栅极结构周围除去聚合物残留的系统和方法，包括确定与该金属栅极结构和要除去的该聚合物残留相关联的多个工艺参数。多个制造层限定该金属栅极结构而该工艺参数限定该制造层和该聚合物残留的性质。确定第一清洁化学物质和第二清洁化学物质并根据该工艺参数确定与该第一和第二清洁化学物质相关联的多个施加参数。使用施加参数以受控方式顺序施加该第一和第二施加化学物质以基本上除去该聚合物残留，同时保留该栅极结构的结构完整性。
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公开(公告)号：CN102473589B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201080027273.5
申请日：2010-07-22
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 钟河·黄 , 维甲压库马尔·C·凡尼高泊 , 康妮·兰姆 , 德拉甘·波德莱斯尼克
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G06F9/5027 , G05B19/4184 , G05B2219/31202 , G05B2219/31293 , G05B2219/31318 , G05B2219/31481 , G05B2219/32209 , G05B2219/45031 , G06F11/2035 , G06F11/2043 , Y02P90/14 , Y02P90/18
Abstract: 本发明提供了配置为方便等离子处理系统中的基底加工的工艺级故障排除体系结构(PLTA)。所述体系结构包括工艺模块控制器。所述体系结构还包括多个传感器，其中多个传感器中的每个传感器与工艺模块控制器通信以收集关于一种或多种工艺参数的检测数据。所述体系结构还包括工艺模块级分析服务器，其中工艺模块级分析服务器与多个传感器和工艺模块控制器直接通信。所述工艺模块级分析服务器配置为接收数据，其中所述数据包括来自多个传感器的检测数据和来自工艺模块控制器的工艺模块和室数据的至少一种。所述工艺模块级分析服务器还配置用于分析数据并且当在基底加工期间识别出问题时将禁止数据直接发送给工艺模块控制器。
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公开(公告)号：CN101903987B
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN200880122187.5
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施例提供用于清洁具有精细特征的图案化的基片的方法。该用于清洁图案化基片的方法的优点在于通过使用所描述的清洁材料来清洁具有精细特征的图案化的基片而基本上不损伤该特征。该清洁材料是流体，或者是液相，或着液/气相，并在器件特征附近变形；所以，该清洁材料基本上不损伤该器件特征或降低总共的损伤。包含由大分子量的聚合化合物组成的聚合物的该清洁材料捕获该基片上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物和不会将该污染物返回到该基片表面上。一种或多种大分子量的聚合化合物组成的该聚合物形成长聚合链，其还可以交联以形成网状物(或聚合网状物)。该长聚合物链和/或聚合网状物相比传统的清洁材料表现出更好的捕获和截留污染物能力。
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公开(公告)号：CN101903985B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880122180.3
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施例提供改进的材料，用以清洁具有精细特征的图案化的基片。该清洁材料的优点在于清洁具有精细特征的图案化的基片而基本上不损伤该特征。该清洁材料是流体，或者是液相，或着液/气相，并在器件特征附近变形；所以，该清洁材料基本上不损伤该器件特征或降低总共的损伤。包含由大分子量的聚合化合物组成的聚合物的该清洁材料捕获该基片上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物和不会将该污染物返回到该基片表面上。一种或多种大分子量的聚合化合物组成的该聚合物形成长聚合物链，其还可以交联以形成网状物(或聚合网状物)。该长聚合物链和/或聚合物网状物相比传统的清洁材料表现出更好的捕获和截留污染物能力。
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公开(公告)号：CN101903985A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880122180.3
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施例提供改进的材料，用以清洁具有精细特征的图案化的基片。该清洁材料的优点在于清洁具有精细特征的图案化的基片而基本上不损伤该特征。该清洁材料是流体，或者是液相，或着液/气相，并在器件特征附近变形；所以，该清洁材料基本上不损伤该器件特征或降低总共的损伤。包含由大分子量的聚合化合物组成的聚合物的该清洁材料捕获该基片上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物和不会将该污染物返回到该基片表面上。一种或多种大分子量的聚合化合物组成的该聚合物形成长聚合物链，其还可以交联以形成网状物(或聚合网状物)。该长聚合物链和/或聚合物网状物相比传统的清洁材料表现出更好的捕获和截留污染物能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101903987A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880122187.5
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施例提供用于清洁具有精细特征的图案化的基片的方法。该用于清洁图案化基片的方法的优点在于通过使用所描述的清洁材料来清洁具有精细特征的图案化的基片而基本上不损伤该特征。该清洁材料是流体，或者是液相，或着液/气相，并在器件特征附近变形；所以，该清洁材料基本上不损伤该器件特征或降低总共的损伤。包含由大分子量的聚合化合物组成的聚合物的该清洁材料捕获该基片上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物和不会将该污染物返回到该基片表面上。一种或多种大分子量的聚合化合物组成的该聚合物形成长聚合链，其还可以交联以形成网状物(或聚合网状物)。该长聚合物链和/或聚合网状物相比传统的清洁材料表现出更好的捕获和截留污染物能力。
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公开(公告)号：CN101903986A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880122186.0
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施方式提供使用清洁材料清洁具有细微特征的图案化衬底的装置。使用该清洁材料的该装置有清洁具有细微特征的图案化衬底，同时又基本上不损害该特征的优点。该清洁材料是流体，是液相或液/气相的；并围绕器件特征变形；因此，该清洁材料基本上不损害该器件特征或减小全部的损害。包含具有大分子量的聚合化合物的聚合物的该清洁材料捕获该衬底上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物并且不使该污染物返回该衬底表面。具有大分子量的一个或多个聚合化合物的聚合物形成长聚合物链，长聚合物链也可以交叉链接已形成网络(或聚合网络)。与传统清洁材料相比，该长聚合物链和/或聚合物网络显示出更好的捕获和截留污染物的能力。
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公开(公告)号：CN102349135B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080011332.X
申请日：2010-02-26
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 伊扎克·萨巴 , 尹秀敏 , 马克·卡瓦古奇 , 马克·威尔考克森 , 德拉甘·波德莱斯尼克
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67051
Abstract: 用于从衬底表面移除颗粒污染物的装置和方法，包括在所述表面涂覆粘弹性材料层。所述粘弹性材料涂覆为薄膜并显示实质的液体状特征。施加外力到涂覆有所述粘弹性材料的第一区域，以便涂覆有所述粘弹性材料的第二区域基本不受所施加力的作用。施加力的持续时间短于所述粘弹性材料的本征时间以便达到粘弹性材料的固体特征。显示固体状特征的所述粘弹性材料至少部分地与所述表面上存在的所述颗粒污染物中的至少一些相互作用。当所述粘弹性材料显示固体状特征时，所述粘弹性材料和所述颗粒污染物中至少一些一起从所述表面的所述第一区域被移除。
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公开(公告)号：CN102160150B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN200980137280.8
申请日：2009-07-13
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 卡特里娜·米哈利钦科 , 伊扎克·萨巴 , 德拉甘·波德莱斯尼克
IPC: H01L21/302 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/02071 , H01L21/6704 , H01L21/67075 , H01L21/67253 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 一种用于在蚀刻后清洁操作过程中从衬底表面上形成的金属栅极结构周围除去聚合物残留的系统和方法，包括确定与该金属栅极结构和要除去的该聚合物残留相关联的多个工艺参数。多个制造层限定该金属栅极结构而该工艺参数限定该制造层和该聚合物残留的性质。确定第一清洁化学物质和第二清洁化学物质并根据该工艺参数确定与该第一和第二清洁化学物质相关联的多个施加参数。使用施加参数以受控方式顺序施加该第一和第二施加化学物质以基本上除去该聚合物残留，同时保留该栅极结构的结构完整性。
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公开(公告)号：CN101903986B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200880122186.0
申请日：2008-12-12
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/5009 , C11D3/3723 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D7/261 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明的实施方式提供使用清洁材料清洁具有细微特征的图案化衬底的装置。使用该清洁材料的该装置有清洁具有细微特征的图案化衬底，同时又基本上不损害该特征的优点。该清洁材料是流体，是液相或液/气相的；并围绕器件特征变形；因此，该清洁材料基本上不损害该器件特征或减小全部的损害。包含具有大分子量的聚合化合物的聚合物的该清洁材料捕获该衬底上的污染物。另外，该清洁材料截留该污染物并且不使该污染物返回该衬底表面。具有大分子量的一个或多个聚合化合物的聚合物形成长聚合物链，长聚合物链也可以交叉链接已形成网络(或聚合网络)。与传统清洁材料相比，该长聚合物链和/或聚合物网络显示出更好的捕获和截留污染物的能力。
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