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公开(公告)号：CN105122431A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480012183.7
申请日：2014-03-07
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32146 , H01J37/32091 , H01J37/32706 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01L21/31116 , H01L21/32136 , H01L21/67069 , H01L21/68742 , H01L21/6875
Abstract: 在一个方面，揭示了一种等离子体蚀刻设备，该等离子体蚀刻设备包括具有处理腔室的腔室主体，该处理腔室适用于接收基板；耦接至射频(RF)电极的射频(RF)源；位于该处理腔室中并适用于支撑基板的基座；数个导电销，适用于在处理过程中接触及支撑该基板；以及电耦接至该数个导电销的直流(DC)偏压源。亦提供了蚀刻方法及许多其他的方面。
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公开(公告)号：CN103314130B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201180065117.2
申请日：2011-10-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32532 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/3455
Abstract: 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。
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公开(公告)号：CN104350173A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201280073588.2
申请日：2012-05-29
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3473 , C23C14/35 , C23C14/352 , H01J37/32568 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3323
Abstract: 本发明公开了一种通过一阴极配置来涂布一基板的方法，所述阴极配置包括至少二个可转动阴极。此方法包括于一第一方向中转动所述至少二个可转动阴极的至少一者，且同时于一第二方向中转动所述至少二个可转动阴极的至少一者。第一方向是相反于第二方向。再者，公开了一种用于控制一涂布工艺的控制器。此外，公开了一种用于涂布一基板的涂布机。此涂布机包括一阴极配置及一控制器。阴极配置具有至少二个可转动阴极。此控制器是如此处所公开的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103890226A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201180072999.5
申请日：2011-08-09
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C16/042
Abstract: 说明了一种用以形成沉积材料层于基板上的沉积设备。沉积设备包括：基板支撑件，用以支撑基板；以及边缘（660）排除遮罩（640），用以在层沉积期间覆盖基板（610）的周边。遮罩具有至少一框部，该至少一框部定义一孔洞。遮罩的该至少一框部用以根据在遮罩的该至少一框部上沉积的沉积材料的数量来相对于基板移动（670，680）。进一步来说，说明了一种利用边缘排除遮罩来沉积沉积材料层于基板上的方法。
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公开(公告)号：CN103314130A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201180065117.2
申请日：2011-10-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32532 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/3455
Abstract: 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件（130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料（210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标（270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。
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公开(公告)号：CN104704603B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201280075041.6
申请日：2012-07-02
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/345
Abstract: 本发明描述了一种用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的装置(10；166；224)。所述装置(10；166；224)包括至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)，其中每个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)具有外磁极性及内磁极性。所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的一者的外磁极性不同于所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相邻的外磁极性。并且，本发明描述了一种沉积系统(14)，所述沉积系统包括所述装置(10；166；224)。
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公开(公告)号：CN104704603A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201280075041.6
申请日：2012-07-02
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/345
Abstract: 本发明描述了一种用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的装置(10；166；224)。所述装置(10；166；224)包括至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)，其中每个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)具有外磁极性及内磁极性。所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的一者的外磁极性不同于所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相邻的外磁极性。并且，本发明描述了一种沉积系统(14)，所述沉积系统包括所述装置(10；166；224)。
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公开(公告)号：CN102356450A
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：CN201080013558.3
申请日：2010-03-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/203
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/3421 , C23C14/35 , C23C14/541 , H01J37/32724 , H01J37/34 , H01J37/3405
Abstract: 本发明提供一种在基板上溅射材料的沉积设备(100)及方法，该沉积设备具有基板固持件(110)，用以固持该基板；可旋转靶(120)，适于受溅射；以及加热系统，该加热系统包含用以从背侧加热该基板的背侧加热(130)以及用以从前侧加热该基板的前侧加热。该可旋转靶作为该前侧加热，并适于将该基板加热到至少100℃的温度。
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