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公开(公告)号：CN119856269A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380065007.9
申请日：2023-09-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/18 , H01L21/52 , H01L21/677
Abstract: 本文提供了用于清洁基板处理工具中的工具零件的方法和装置。在一些实施例中，一种清洁基板处理工具中的工具零件的方法包括：将一个或多个脏工具放置在多腔室处理工具的接合腔室中的保持件上；将保持件从接合腔室转移至多腔室处理工具的清洁腔室；在清洁腔室中清洁一个或多个脏工具以产生一个或多个经清洁工具；在多腔室处理工具的检验腔室中检验一个或多个经清洁工具；以及将一个或多个经清洁工具转移至接合腔室。
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公开(公告)号：CN114342038B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202080060675.9
申请日：2020-08-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 此处提供在工艺腔室中使用的工艺套件的实施例。在一些实施例中，一种用于在工艺腔室中使用的工艺套件，包括管状主体，所述管状主体具有配置成围绕基板支撑件的中心开口，其中管状主体的侧壁不包括任何通孔；以及顶板，所述顶板耦合至管状主体的上端，且实质上覆盖中心开口，其中顶板具有气体入口，且具有比管状主体的外直径要大的直径，且其中管状主体从顶板直向下延伸。
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公开(公告)号：CN112088227B
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN201980029806.4
申请日：2019-05-07
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开提供具有整合遮件库的基板处理腔室。在一些实施例中，预清洁基板处理腔室可包括腔室主体、基板支撑件、遮盘库及遮盘组件机构，其中腔室主体包括第一侧和第二侧，第一侧被配置成附接于主框架基板处理工具，第二侧与第一侧相对设置，基板支撑件被配置成当基板安置在基板支撑件上时支撑基板，遮盘库设置在处理腔室的第二侧上，遮盘组件机构包括可旋转的轴及耦接到该轴的机器人遮件臂，其中机器人遮件臂包括遮盘组件支撑部分，遮盘组件支撑部分被配置成支撑遮盘组件，且其中遮盘组件机构被配置成将该机器人遮件臂在储存位置与处理位置之间移动，该储存位置在该遮件库内，该处理位置在该处理腔室内且在该基板支撑件上方。
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公开(公告)号：CN114208392A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053846.5
申请日：2020-05-04
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文中提供了用于处理基板的方法和设备。所述设备可包含，例如，微波能量源，所述微波能量源被配置成从设置在处理腔室的内部空间中的基板支撑件的下方提供微波能量；第一微波反射器，所述第一微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑件的基板支撑位置上方；以及第二微波反射器，所述第二微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑位置下方，其中第一微波反射器和第二微波反射器的被定位和配置成使得在操作期间，微波能量穿过第二微波反射器，并且微波能量中的一些从第一微波反射器的底表面反射回到基板。
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公开(公告)号：CN111919287A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980023255.0
申请日：2019-04-08
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 用于使用多个传感器检测处理腔室中的光闸碟盘组件的方法和设备。在用于光闸碟盘组件的光闸壳体中的第一、第二与第三传感器提供对光闸碟盘组件的状态的指示。所述指示部分地用于与来自处理控制器的处理信息一起确定光闸碟盘组件的操作状态。随后，在需要时使用操作状态来改变处理腔室的处理。
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公开(公告)号：CN113994461B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202080044325.3
申请日：2020-05-18
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文提供用于基板处理腔室的方法和设备。在一些实施例中，基板处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体具有侧壁，所述侧壁限定具有多边形形状的内部体积；设置在腔室主体的上部中的可选择性密封的细长开口以用于将一个或多个基板转移进入或离开腔室主体；设置在腔室主体的第一端处的漏斗，其中漏斗的尺寸沿着从腔室主体的外表面到内部体积的方向增大；以及设置在与漏斗相对的腔室主体的第二端处的泵端口。
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公开(公告)号：CN114208392B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202080053846.5
申请日：2020-05-04
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文中提供了用于处理基板的方法和设备。所述设备可包含，例如，微波能量源，所述微波能量源被配置成从设置在处理腔室的内部空间中的基板支撑件的下方提供微波能量；第一微波反射器，所述第一微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑件的基板支撑位置上方；以及第二微波反射器，所述第二微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑位置下方，其中第一微波反射器和第二微波反射器的被定位和配置成使得在操作期间，微波能量穿过第二微波反射器，并且微波能量中的一些从第一微波反射器的底表面反射回到基板。
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公开(公告)号：CN116438640A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180074326.7
申请日：2021-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本文公开了一种用于使用微波压力窗口组件将微波传输到处理腔室中的设备。该微波压力窗组件可包括第一板，该第一板具有第一孔隙，该第一孔隙由用于第一压力密封件的第一凹部围绕；第二板，该第二板具有第二孔隙，该第二孔隙由用于第二压力密封件的第二凹部围绕；介电板，该介电板被配置为传输微波并且插置在该第一板与该第二板之间以及在该第一压力密封件与该第二压力密封件之间。该孔隙包括在该孔隙的第一竖直侧上的第一竖直台阶区域和在该等孔隙的与第一竖直侧相对的第二竖直侧上的第二竖直台阶区域。该第一竖直台阶区域和该第二竖直台阶区域的厚度可为包括介电板凹部的板的厚度的约50％。
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公开(公告)号：CN114258478A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202080058346.0
申请日：2020-04-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01J5/00 , H01L21/324 , H01L21/66 , H01L21/67
Abstract: 提供了用于处理基板的方法和设备。例如，设备可包括：处理腔室，包含腔室主体并具有观察端口，腔室主体界定处理容积，观察端口耦接到腔室主体；基板支撑件，设置在处理容积内并具有支撑基板的支撑表面；及红外温度传感器(IRTS)，设置在腔室主体外侧、邻近观察端口，以测量该基板正在处理容积中被处理时的温度，IRTS可相对于观察端口移动以通过观察端口扫描基板。
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