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公开(公告)号：CN116438640A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180074326.7
申请日：2021-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本文公开了一种用于使用微波压力窗口组件将微波传输到处理腔室中的设备。该微波压力窗组件可包括第一板，该第一板具有第一孔隙，该第一孔隙由用于第一压力密封件的第一凹部围绕；第二板，该第二板具有第二孔隙，该第二孔隙由用于第二压力密封件的第二凹部围绕；介电板，该介电板被配置为传输微波并且插置在该第一板与该第二板之间以及在该第一压力密封件与该第二压力密封件之间。该孔隙包括在该孔隙的第一竖直侧上的第一竖直台阶区域和在该等孔隙的与第一竖直侧相对的第二竖直侧上的第二竖直台阶区域。该第一竖直台阶区域和该第二竖直台阶区域的厚度可为包括介电板凹部的板的厚度的约50％。
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公开(公告)号：CN114258478A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202080058346.0
申请日：2020-04-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01J5/00 , H01L21/324 , H01L21/66 , H01L21/67
Abstract: 提供了用于处理基板的方法和设备。例如，设备可包括：处理腔室，包含腔室主体并具有观察端口，腔室主体界定处理容积，观察端口耦接到腔室主体；基板支撑件，设置在处理容积内并具有支撑基板的支撑表面；及红外温度传感器(IRTS)，设置在腔室主体外侧、邻近观察端口，以测量该基板正在处理容积中被处理时的温度，IRTS可相对于观察端口移动以通过观察端口扫描基板。
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公开(公告)号：CN117461121A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202280041651.8
申请日：2022-06-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H05B6/64 , H01L21/687
Abstract: 本文提供了用于在微波脱气腔室中使用的基板支撑件的实施例。在一些实施例中，一种用于在微波脱气腔室中使用的基板支撑件包括：支撑板，所述支撑板具有用于支撑基板的一个或多个支撑特征；基座，所述基座包含设置在支撑板上的板，其中基座包括一个或多个开口，其中一个或多个支撑特征延伸穿过一个或多个开口中的对应开口；以及金属箔，所述金属箔设置在基座的面向支撑板的一侧的下方。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114846594A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080085544.6
申请日：2020-10-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·朱普迪 , S·K·科杜穆里 , V·拉马钱德兰 , P·阿加瓦尔 , H·B·A·穆哈马德
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , G01K1/14 , G01K13/00
Abstract: 一种用于确定微波和/或真空环境中基板温度的设备。具有多个支撑销的基板保持器包括温度传感器组件，该温度传感器组件的至少一部分表面具有磷涂层，该温度传感器组件经配置为从基板保持器的内部区域插入至少一个销支撑位置中，并从基板保持器的外部区域插入至少一个销支撑位置中。温度传感器组件包括温度传感器销，其具有对微波透明的弹簧。温度传感器销由导热系数大于约200W/mK且具有对微波透明的低的热质量的材料制成。光学传输组件嵌入到基板保持器的至少一部分中，以接收来自温度传感器销表面的光发射。
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公开(公告)号：CN106575612A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580039163.3
申请日：2015-06-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
Abstract: 本文中公开了用于使用固体二氧化碳(CO2)颗粒流清洁陶瓷制品的系统和方法。方法包括使液体CO2流入喷嘴，以及从喷嘴向陶瓷制品引导第一固体CO2颗粒流达第一历时时长，以清洁陶瓷制品。液体CO2在离开喷嘴时转变为第一固体CO2颗粒流。第一固体CO2颗粒流使得在陶瓷制品上形成固体CO2层。在固体CO2层已升华之后，从喷嘴向陶瓷制品引导第二固体CO2颗粒流达第一历时时长或第二历时时长中的至少一个时长，以进一步清洁陶瓷制品。
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公开(公告)号：CN119213541A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380040912.9
申请日：2023-04-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 用于基板脱气的系统在脱气腔室中提供降低的红外源。在一些实施例中，所述系统包括：脱气腔室，所述脱气腔室具有微波源和定位在脱气腔室的底部中的红外温度传感器；具有环形形状的至少一个箍，所述至少一个箍被配置为支撑或升高基板且由至少一个第一材料形成，所述至少一个第一材料对微波不透明且具有0.1或更低的发射率；以及具有可移动垂直轴件的至少一个致动器。至少一个致动器中的每一者在箍的外周边处附接于箍中的一者的下方。暴露于来自脱气腔室中的微波源的微波的可移动垂直轴件的部分由至少一个第二材料形成，所述至少一个第二材料对微波不透明且具有0.1或更低的发射率。
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公开(公告)号：CN117897598A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280057829.8
申请日：2022-07-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文提供用于处理基板的方法和装置。例如，用于处理基板的方法包括以下步骤：对基板执行第一真空处理程序；从真空热电耦获得所述基板的温度测量；从非接触红外传感器获得所述基板的温度测量；基于来自所述真空热电耦的所述温度测量和来自所述非接触红外传感器的所述温度测量来校正所述非接触红外传感器；以及使用经校正的所述非接触红外传感器来对所述基板执行第二真空处理程序。
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公开(公告)号：CN114258478B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202080058346.0
申请日：2020-04-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01J5/00 , H01L21/324 , H01L21/66 , H01L21/67
Abstract: 提供了用于处理基板的方法和设备。例如，设备可包括：处理腔室，包含腔室主体并具有观察端口，腔室主体界定处理容积，观察端口耦接到腔室主体；基板支撑件，设置在处理容积内并具有支撑基板的支撑表面；及红外温度传感器(IRTS)，设置在腔室主体外侧、邻近观察端口，以测量该基板正在处理容积中被处理时的温度，IRTS可相对于观察端口移动以通过观察端口扫描基板。
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