-
-
-
公开(公告)号：CN114830312A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080086799.4
申请日：2020-12-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 大卫·W·格罗歇尔 , 迈克尔·R·赖斯 , 刚·格兰特·彭 , 程睿 , 黄祖滨 , 王涵 , 卡希克·贾纳基拉曼 , 迪瓦卡尔·科德拉雅 , 保罗·L·布里尔哈特 , 阿卜杜勒·阿齐兹·卡哈
Abstract: 本文提供用于腔室部件(腔室部件用于在工艺腔室中使用，腔室部件诸如表面成形的或纹理化的腔室部件)的表面成形和纹理化的方法和装置，和使用所述腔室部件的方法。在某些实施方式中，方法包括使用一个或多个传感器测量参考基板或被加热的基座的参数；和基于所测量的参数物理地修改腔室部件的表面。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111902917A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980019088.2
申请日：2019-03-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/3105 , H01L21/027 , H01L21/56 , H01J37/32 , B23K26/352 , H01L21/304 , H01L21/321
Abstract: 本公开内容的实施方式提供了对陶瓷基板或陶瓷涂布的基板进行激光辅助改性(亦即，激光抛光)以期望地降低其表面粗糙度及孔隙度的方法。在一个实施方式中，一种激光抛光工件表面的方法包括用脉冲激光光束扫描工件表面的至少一部分。激光光束具有约50kHz或更大的脉冲频率以及约10mm2或更小的光斑大小，并且工件表面包含陶瓷材料。
-
公开(公告)号：CN116711058A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202280009876.5
申请日：2022-01-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 理查德·威尔斯·普拉维达 , 斯科特·奥斯特曼 , 大卫·W·格罗歇尔 , 刚·格兰特·彭 , 约翰·Z·史密斯
IPC: H01L21/67
Abstract: 本文提供用于清洁在基板处理装备中使用的部件的方法及清洁系统的实施方式。在某些实施方式中，一种清洁系统包括锅炉，该锅炉具有被配置成加热流体的加热器；清洁腔室，该清洁腔室经由气体管线及液体管线的至少一者流体耦接至锅炉，其中清洁腔室包括在其内部空间中的一个或多个夹具，用于保持待清洁的至少一个部件，且其中清洁腔室包括用于加热内部空间的加热器；及扩充腔室，该扩充腔室经由释放管线流体耦接至清洁腔室，用于排空清洁腔室，其中释放管线包括释放阀，以选择性开启或关闭在扩充腔室及清洁腔室之间的流动路径，且其中扩充腔室包括冷却器及真空端口。
-
-
公开(公告)号：CN111801624A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201980016675.6
申请日：2019-03-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 提供一种为部件表面提供纹理的系统，所述部件使用在半导体处理腔室中。所述系统包含：外壳，所述外壳包含处理区域；设置在处理区域中的支撑件；用于产生光子流的光子光源；被可操作地耦合至光子光源的光学模块；以及透镜。所述光学模块包含光束调制器与光束扫描器，光束调制器用于从由光子光源产生的光子流产生光子束，光束扫描器用于使光子束跨部件表面进行扫描。透镜用于接收来自光束扫描器的光子束，并跨部件的表面分布光子束，以在部件上形成多个特征，所述光子束的波长在约345nm与约1100nm之间的范围内。
-
公开(公告)号：CN110291617A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201880011302.5
申请日：2018-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/285 , H01L21/02
Abstract: 本公开内容一般地涉及将纯铝结晶层电沉积至铝合金制品的表面上的数种方法。所述方法可包括，将该制品与电极定位在电沉积溶液中。该电沉积溶液包括下述物质中的一或多种：铝卤化物、有机氯化物盐、铝还原剂、诸如腈化合物之类的溶剂、及碱金属卤化物。用惰性气体毯覆该溶液，搅拌该溶液，且通过施加偏压电压至该制品及该电极，而使铝结晶层沉积在该制品上。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.018 seconds)
