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公开(公告)号:CN111801624A
公开(公告)日:2020-10-20
申请号:CN201980016675.6
申请日:2019-03-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 提供一种为部件表面提供纹理的系统,所述部件使用在半导体处理腔室中。所述系统包含:外壳,所述外壳包含处理区域;设置在处理区域中的支撑件;用于产生光子流的光子光源;被可操作地耦合至光子光源的光学模块;以及透镜。所述光学模块包含光束调制器与光束扫描器,光束调制器用于从由光子光源产生的光子流产生光子束,光束扫描器用于使光子束跨部件表面进行扫描。透镜用于接收来自光束扫描器的光子束,并跨部件的表面分布光子束,以在部件上形成多个特征,所述光子束的波长在约345nm与约1100nm之间的范围内。
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公开(公告)号:CN110291617A
公开(公告)日:2019-09-27
申请号:CN201880011302.5
申请日:2018-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/285 , H01L21/02
Abstract: 本公开内容一般地涉及将纯铝结晶层电沉积至铝合金制品的表面上的数种方法。所述方法可包括,将该制品与电极定位在电沉积溶液中。该电沉积溶液包括下述物质中的一或多种:铝卤化物、有机氯化物盐、铝还原剂、诸如腈化合物之类的溶剂、及碱金属卤化物。用惰性气体毯覆该溶液,搅拌该溶液,且通过施加偏压电压至该制品及该电极,而使铝结晶层沉积在该制品上。
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