公开(公告)号：CN113383405B

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202080012490.0

申请日：2020-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刚·格兰特·彭 ,  大卫·W·格罗歇尔 ,  王涵

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/3065

Abstract: 本揭示内容的一个示例提供一种制造具有涂层且具有所需的膜性质的腔室元件的方法，所述涂层包括含钇材料。在一个示例中，制造涂层材料的方法包括提供包含含铝材料的基础结构。所述方法进一步包括在基础结构上形成包括含钇材料的涂层。所述方法亦包括热处理涂层，以形成经处理的涂层。

公开(公告)号：CN114830312A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202080086799.4

申请日：2020-12-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 大卫·W·格罗歇尔 ,  迈克尔·R·赖斯 ,  刚·格兰特·彭 ,  程睿 ,  黄祖滨 ,  王涵 ,  卡希克·贾纳基拉曼 ,  迪瓦卡尔·科德拉雅 ,  保罗·L·布里尔哈特 ,  阿卜杜勒·阿齐兹·卡哈

IPC: H01L21/67 ,  C23C16/44 ,  H01J37/32

Abstract: 本文提供用于腔室部件(腔室部件用于在工艺腔室中使用，腔室部件诸如表面成形的或纹理化的腔室部件)的表面成形和纹理化的方法和装置，和使用所述腔室部件的方法。在某些实施方式中，方法包括使用一个或多个传感器测量参考基板或被加热的基座的参数；和基于所测量的参数物理地修改腔室部件的表面。

公开(公告)号：CN111902917A

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201980019088.2

申请日：2019-03-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刚·格兰特·彭 ,  大卫·W·格罗歇尔 ,  黄拓川

IPC: H01L21/3105 ,  H01L21/027 ,  H01L21/56 ,  H01J37/32 ,  B23K26/352 ,  H01L21/304 ,  H01L21/321

Abstract: 本公开内容的实施方式提供了对陶瓷基板或陶瓷涂布的基板进行激光辅助改性(亦即，激光抛光)以期望地降低其表面粗糙度及孔隙度的方法。在一个实施方式中，一种激光抛光工件表面的方法包括用脉冲激光光束扫描工件表面的至少一部分。激光光束具有约50kHz或更大的脉冲频率以及约10mm2或更小的光斑大小，并且工件表面包含陶瓷材料。

公开(公告)号：CN116711058A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202280009876.5

申请日：2022-01-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 理查德·威尔斯·普拉维达 ,  斯科特·奥斯特曼 ,  大卫·W·格罗歇尔 ,  刚·格兰特·彭 ,  约翰·Z·史密斯

IPC: H01L21/67

Abstract: 本文提供用于清洁在基板处理装备中使用的部件的方法及清洁系统的实施方式。在某些实施方式中，一种清洁系统包括锅炉，该锅炉具有被配置成加热流体的加热器；清洁腔室，该清洁腔室经由气体管线及液体管线的至少一者流体耦接至锅炉，其中清洁腔室包括在其内部空间中的一个或多个夹具，用于保持待清洁的至少一个部件，且其中清洁腔室包括用于加热内部空间的加热器；及扩充腔室，该扩充腔室经由释放管线流体耦接至清洁腔室，用于排空清洁腔室，其中释放管线包括释放阀，以选择性开启或关闭在扩充腔室及清洁腔室之间的流动路径，且其中扩充腔室包括冷却器及真空端口。

公开(公告)号：CN113383405A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202080012490.0

申请日：2020-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刚·格兰特·彭 ,  大卫·W·格罗歇尔 ,  王涵

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/3065

Abstract: 本揭示内容的一个示例提供一种制造具有涂层且具有所需的膜性质的腔室元件的方法，所述涂层包括含钇材料。在一个示例中，制造涂层材料的方法包括提供包含含铝材料的基础结构。所述方法进一步包括在基础结构上形成包括含钇材料的涂层。所述方法亦包括热处理涂层，以形成经处理的涂层。