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公开(公告)号:CN114318518B
公开(公告)日:2023-05-05
申请号:CN202111665014.1
申请日:2021-12-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及外延炉技术领域,具体提供了一种外延炉氢气吸收系统、方法、电子设备及存储介质,该系统包括:传送腔;存片腔,与所述传送腔连接;氢气吸收装置,设置在所述传送腔内,用于吸收所述传送腔内的氢气;氢气浓度检测装置,设置在所述传送腔内,用于采集所述传送腔内的氢气浓度信息;控制器,用于在对存片腔进行晶片上料或下料前,获取所述氢气浓度信息,还用于当所述氢气浓度信息大于或等于第一阈值时,控制所述氢气吸收装置吸收所述氢气直至所述氢气浓度信息小于第二阈值;通过氢气吸收装置吸收传送腔内的氢气,无需对反应腔执行抽真空和通入惰性气体的操作,从而有效地减少降低传送腔内的氢气浓度所需要的时间,提高外延炉的运行效率。
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公开(公告)号:CN114775045A
公开(公告)日:2022-07-22
申请号:CN202210438710.7
申请日:2022-04-21
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明属于外延生长技术领域,特别涉及一种外延炉的阀门隔热装置及外延炉,其中,外延炉的阀门隔热装置包括:法兰,用于连接外延炉的反应室和外延炉的传输阀,法兰上设有用于进行衬底上下料的传输口;装置还包括:隔热挡板,活动安装在法兰靠近反应室的一侧;驱动机构,安装在法兰上,且与隔热挡板连接,用于根据反应室的运行状态驱动隔热挡板运动以遮挡或打开传输口;该装置能根据反应室的运行状态利用驱动机构驱动隔热挡板运动以遮挡或打开传输阀与反应室之间的法兰上的传输口,从而减少了传输阀的温升,有效避免了传输阀的阀板因高温而损耗使用寿命,并有效减少反应室内高温对传输室内温度的影响。
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公开(公告)号:CN114318518A
公开(公告)日:2022-04-12
申请号:CN202111665014.1
申请日:2021-12-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及外延炉技术领域,具体提供了一种外延炉氢气吸收系统、方法、电子设备及存储介质,该系统包括:传送腔;存片腔,与所述传送腔连接;氢气吸收装置,设置在所述传送腔内,用于吸收所述传送腔内的氢气;氢气浓度检测装置,设置在所述传送腔内,用于采集所述传送腔内的氢气浓度信息;控制器,用于在对存片腔进行晶片上料或下料前,获取所述氢气浓度信息,还用于当所述氢气浓度信息大于或等于第一阈值时,控制所述氢气吸收装置吸收所述氢气直至所述氢气浓度信息小于第二阈值;通过氢气吸收装置吸收传送腔内的氢气,无需对反应腔执行抽真空和通入惰性气体的操作,从而有效地减少降低传送腔内的氢气浓度所需要的时间,提高外延炉的运行效率。
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公开(公告)号:CN116539230A
公开(公告)日:2023-08-04
申请号:CN202310635028.1
申请日:2023-05-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种传片漏气检测装置及方法、传片装置及方法,其中传片漏气检测装置,应用在外延设备中,外延设备包括传送腔和反应腔,传片漏气检测装置包括过渡腔和用于向过渡腔和传送腔充入惰性气体的充气装置,传送腔通过过渡腔与反应腔连通,传送腔与过渡腔之间设置有第一插板阀,过渡腔和反应腔之间设置有第二插板阀,传送腔内有第一真空计,过渡腔内有氧气传感器和第二真空计,通过该方式可实时检测传送腔内是否存在漏气点,从而防止空气进入反应腔中与反应腔中的氢气结合产生爆炸。
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公开(公告)号:CN114753001B
公开(公告)日:2023-07-04
申请号:CN202210481219.2
申请日:2022-05-05
Applicant: 季华实验室
IPC: C30B25/08 , C30B25/16 , C30B25/14 , C30B25/12 , C23C16/52 , C23C16/458 , C23C16/455
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域,具体提供了一种外延沉积反应室、沉积系统及沉积方法,其包括:所述反应室包括上半月石墨腔体和下半月石墨腔体,所述上半月石墨腔体两侧通过侧壁支撑石墨件与所述下半月石墨腔体连接,以围合构成气体反应腔,所述上半月石墨腔体的底壁具有多条平行设置的冷却流道,所述上半月石墨腔体一侧设有与所述冷却流道连接的冷却气体提供组件,所述冷却气体提供组件用于在所述反应室进行外延生长时为所述冷却流道提供所述冷却气体;该外延沉积反应室能够有效地减少由于反应气体在上半月石墨腔体的底壁发生化学反应而形成晶体的情况。
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公开(公告)号:CN113652745A
公开(公告)日:2021-11-16
申请号:CN202110942705.5
申请日:2021-08-17
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域,具体公开了一种外延设备清洗提醒方法、装置、电子设备及存储介质,所述方法包括以下步骤:获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息;根据所述颗粒物直径信息和预设的颗粒物直径阈值的比较结果发出清洗提醒信息;该方法通过获取外延设备运行过程中产生的反应尾气中的颗粒物直径信息,以间接获知外延设备反应室内杂质的生长情况,基于颗粒物直径信息和颗粒物直径阈值的比较结果可确定外延设备的反应室是否需要进行清洗,能及时提醒用户清洗外延设备,避免产生过多的劣质产品,实现智能化清洗提醒功能,以确定外延设备的最优维护时间。
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公开(公告)号:CN115537780B
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202211286779.9
申请日:2022-10-20
Applicant: 季华实验室
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域,具体提供了一种用于反应室的气浮驱动装置、系统及方法,该装置包括:气浮气体供应组件,用于供应包括氢气和惰性气体的气浮气体;第一气浮气路,通过第一质量流量控制器与所述气浮气体供应组件连接;第二气浮气路,通过第二质量流量控制器与所述气浮气体供应组件连接;压差测量组件,与所述第一气浮气路和所述第二气浮气路连接,用于生成所述第一气浮气路和所述第二气浮气路之间的压差信息;该装置能够有效地延长底座的使用寿命和降低更换底座的频率。
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公开(公告)号:CN114775045B
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN202210438710.7
申请日:2022-04-21
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明属于外延生长技术领域,特别涉及一种外延炉的阀门隔热装置及外延炉,其中,外延炉的阀门隔热装置包括:法兰,用于连接外延炉的反应室和外延炉的传输阀,法兰上设有用于进行衬底上下料的传输口;装置还包括:隔热挡板,活动安装在法兰靠近反应室的一侧;驱动机构,安装在法兰上,且与隔热挡板连接,用于根据反应室的运行状态驱动隔热挡板运动以遮挡或打开传输口;该装置能根据反应室的运行状态利用驱动机构驱动隔热挡板运动以遮挡或打开传输阀与反应室之间的法兰上的传输口,从而减少了传输阀的温升,有效避免了传输阀的阀板因高温而损耗使用寿命,并有效减少反应室内高温对传输室内温度的影响。
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公开(公告)号:CN115326222A
公开(公告)日:2022-11-11
申请号:CN202211005536.3
申请日:2022-08-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及半导体制造技术领域,具体公开了一种反应腔内外延片测温方法、装置、电子设备及存储介质;该方法包括:将热电偶温度计充当外延片放置于反应腔内的衬底托盘上,也将钨铼热电偶放在反应腔内,在预设的第一加热温度范围内获取钨铼热电偶与热电偶温度计之间的温度变换关系,即是获得钨铼热电偶与外延片实际温度之间的变换关系;在外延反应过程中,根据钨铼热电偶和测温探头测取的温度、以及钨铼热电偶与热电偶温度计之间的温度变换关系,换算得到关于外延片实际温度与测温设备所测取的温度之间的变换关系;在实际反应中,只需根据测温探头测得的温度,即可获得外延片的实际温度;该方法简单,实用,可直接获取到外延片的实际温度。
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公开(公告)号:CN113670448B
公开(公告)日:2022-08-02
申请号:CN202110938495.2
申请日:2021-08-16
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及温度测量技术领域,具体公开了一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法,系统用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况,包括:反应室,其外壁设有一测温口;测温器,用于测量反应室内温度情况,与测温口摆动连接;摆动驱动器,用于驱动测温器在测温口内摆动;控制器,用于控制摆动驱动器运行使测温器在测温口中摆动以获取反应室内不同位置的温度信息,控制器根据不同位置的温度信息绘制热场曲线。该系统仅需在反应室外壁设置一测温口安装测温器便可进行区域化测温,避免反应室开设过多测温孔导致反应室中热量散失,并能基于温度信息绘制热场曲线,为反应室内温度工况分析、调节提供数据基础。
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