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公开(公告)号：CN116381827A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310306427.3
申请日：2023-03-27
IPC分类号： G02B1/115 , G02B1/14 , G02B1/18 , C23C14/35 , C23C14/20 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/58 , C23C14/02
摘要： 本发明公开了一种多孔高透AR膜，包括由下至上依次层叠设置的：透明基材层、防眩硬涂层、界面过渡层、AR层和防污层；其中，所述AR层包括由下至上依次层叠设置的第一高折射率层、低折射率层、第二高折射率层和多孔结构SiO2层。本发明提供了一种多层膜结合表层多孔结构的AR膜，不同于传统多层减AR膜，本发明可通过控制多孔结构SiO2层的孔隙率来调控其折射率，使多层AR膜不再受限于材料折射率和镀膜精度的苛刻要求；与传统多层AR膜相比，还具有视觉效果好、反射率低、透射率高等特点，在广入射角度下也具有稳定的光学性能。
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公开(公告)号：CN116299813A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310115946.1
申请日：2023-02-15
IPC分类号： G02B5/18 , C23C14/20 , C23C14/30 , C23C14/35 , C23C14/58 , C23C16/04 , C23C16/06 , C23C16/20 , C23C16/455 , C23C16/56 , G02B5/30 , G03F7/00 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/42
摘要： 本发明公开了一种高深宽比、窄周期的反射式偏振光栅及其制备方法，该方法包括以下步骤：S1、在柔性基底表面均匀涂布光刻胶；S2、将宽周期光栅模板的图案通过纳米压印转移到所述光刻胶上；S3、利用UV光固化；S4、物理或者化学气相沉积方法镀金属膜；S5、利用等离子体刻蚀减薄；S6、去除剩余的光刻胶光栅结构。本发明提供了一种利用宽周期光栅纳米压印模板制作窄周期偏振光栅的方法，由于宽周期光栅模板制备工艺及难度要远远小于窄周期光栅模板，因此本发明的工艺在大批量生产中能显著提高效率、节约成本；本发明能够为可大面积制备、重复性较好、尺寸可控、偏振特性优异的反射式偏振光栅制备工艺及实际应用奠定基础。
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公开(公告)号：CN116224480A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310115954.6
申请日：2023-02-15
IPC分类号： G02B5/18 , B29C59/02 , G02B5/30 , G03F7/00 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/42 , C23C14/22 , C23C14/30 , C23C14/35 , C23C14/46
摘要： 本发明公开了一种倾斜沉积制备反射式偏振光栅的方法，包括以下步骤：1)在基底上涂覆压印胶；2)将宽周期光栅模板图案压印转移到基底的压印胶上，脱模、固化；3)利用倾斜沉积工艺在压印胶层的侧壁和顶部沉积金属线栅层；4)采用干法刻蚀工艺对金属线栅层的光栅顶部进行刻蚀；5)通过显影工艺去除光刻胶层，得到反射式偏振光栅。本发明提供的倾斜沉积制备反射式偏振光栅的方法，采用倾斜沉积技术，可通过宽周期光栅纳米压印母版制备窄周期、高深宽比的反射式偏振光栅，能降低成本，提高效率，可解决纳米压印技术中窄周期、高深宽比母版制备的难点。
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公开(公告)号：CN118377071A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410663659.9
申请日：2024-05-27
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/18 , G02B1/14 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/58 , C23C14/35 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜及其制备方法，该减反射膜依次层叠设置的透明基材、界面过渡层、纳米多孔二氧化硅广角减反射层和防污层；其中，纳米多孔二氧化硅广角减反射层具有均匀且孔隙率可控的纳米网状孔隙结构。本发明使用不同比例的SiAl旋转靶材通过卷对卷磁控溅射调控膜层厚度以及结合湿法刻蚀、有机蒸镀技术，可制备超疏水纳米多孔二氧化硅广角AR膜。不同于传统的多层AR膜，超疏水纳米多孔二氧化硅广角AR膜可通过调节SiAl比例控制孔隙率，使其不再受限于材料折射率、镀膜精度以及多层结构膜的苛刻要求。本发明的制备工艺简单、稳定性高、适用于大面积、批量化卷对卷式生产，具有广阔的市场应用前景。
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公开(公告)号：CN116815126A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310793346.0
申请日：2023-06-30
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司 , 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于卷绕真空镀膜的防指纹膜原料连续供应与沉积系统，包括：放料单元、媒介单元、蒸发单元以及收料单元；内部吸附有防指纹涂膜液的所述媒介单元卷绕在所述放料单元和收料单元之间，通过所述放料单元和收料单元的作用将所述媒介单元连续提供至所述蒸发单元处，使媒介单元内部的防指纹涂膜液被加热而蒸镀到目标膜材上。本发明提供的用于卷绕真空镀膜的防指纹膜原料连续供应与沉积系统，采用蒸镀有机媒介方式代替传统药丸蒸发进料方式，可实现不间断防指纹膜原液供应，不仅保障了连续性工业化生产，也避免了传统阻蒸方式频繁更换AF药丸导致镀膜腔室被污染的现象发生，极大提高了企业生产效率，提升了产品经济效益。
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公开(公告)号：CN117169996A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310866554.9
申请日：2023-07-14
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于柔性衬底的反式蛾眼结构增透、耐刮疏水减反膜及其制备方法，该方法包括以下步骤：S1、采用磁控溅射镀膜工艺在柔性衬底上制备形成AR膜层；S2、采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺在所述AR膜层的表面形成减反蛾眼结构层；S3、制备含纳米SiO2的氟硅烷涂膜液：S4、将氟硅烷涂膜液涂布在减反蛾眼结构层上，形成氟硅烷涂膜层，固化，得到耐刮疏水减反膜。本发明耐刮疏水减反膜具备高光学透过率、较强机械稳定性、优异的耐刮性、疏水性和长效防潮抗污特性；其中的减反蛾眼结构层能够进一步降低光学反射率，同时通过减反蛾眼结构层与氟硅烷涂膜层形成Si‑O化学键，能够提高减反蛾眼结构层与氟硅烷涂膜层之间的连接强度。
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公开(公告)号：CN116755184A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310546309.X
申请日：2023-05-16
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司 , 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种光栅型反射式广角增亮膜及其制备方法，涉及增亮膜技术领域；该膜其由光学膜层和线栅层按顺序堆叠而成，所述线栅层位于最外层，所述光学膜层包括基底和基底一侧设置的折射膜层构成，所述折射膜层由多层交替层叠的第一折射膜层和第二折叠率膜层构成；该方法包括取用基底，并在基底上卷对卷磁控溅射折射膜层，在折射膜层上卷对卷涂布光刻胶，采用卷对卷纳米压印技术将具有纳米光栅图形的压印模板压入压印胶，转移纳米图形，将压印模板和具有折射膜层的基底分离。本发明通过设置高TM透过率、高TE反射率亚波长光栅等效为介质膜，随后结合其他多层光学膜层进行膜层结构设计出AR膜的形式，可显著提高整体透射率。
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公开(公告)号：CN117007626A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310473911.5
申请日：2023-04-28
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司 , 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
IPC分类号： G01N23/2273
摘要： 本发明公开了一种基于功函数校准表面不定碳峰结合能标度的方法，包括如下步骤：通过XPS全谱扫描，得到样品表面所有元素结合能标度分布谱；进一步对样品表面元素进行窄谱扫描，其中样品表面不定碳C 1s的C‑C/C‑H峰结合能标记为E1BE；使用UPS测试样品功函数，得到校准后样品表面不定碳C‑C/C‑H峰值结合能标度峰值。本发明采用XPS+UPS表征结合的方法对样品表面不定碳的C 1s结合能进行校准。本发明方法十分适用于未知结构或标准带隙未知的材料，并可以进一步拓展到所有不定碳/衬底界面电荷转移可以忽略不计的系统。
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公开(公告)号：CN116679361A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202310660508.3
申请日：2023-06-06
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种微结构3A光学膜及其制备方法，包括光学基膜、蛾眼膜和结构支撑层，结构支撑层位于最外层，其中蛾眼膜位于光学基膜和结构支撑层内部，微结构3A光学膜的基膜厚度为0.006mm~2mm，基底材料为聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素、环烯烃共聚物、环烯烃聚合物、聚碳酸酯中的一种或多种组成的混合物构成的卷材。该微结构3A光学膜及其制备方法，结合纳米压印和物理/化学气相沉积优势制备的微结构光学膜，具有优良的光学增透减反、超疏水、防眩光功能，与传统光学增亮膜相比，在广入射角度下也具有稳定的光学功能，可用于高热、高湿、高亮环境。
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公开(公告)号：CN118068461A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410229676.1
申请日：2024-02-29
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于微纳结构的增透、疏水、防眩、耐磨光学膜及其制备方法，该光学膜包括基底以及阵列设置在所述基底上的若干第一微结构和第二微结构；若干第二微结构在基底上围绕形成若干在平面内为封闭结构的网格框架，若干网格框架阵列布置，每个网格框架内均阵列设置若干所述第一微结构，所述第一微结构的横截面尺寸由上至下逐渐减小。本发明首先通过光学设计软件仿真模拟出在380‑780nm波段具有超低反射率的第一微结构，随后在第一微结构的基础上再设置第二微结构，得到兼具耐磨、疏水、防眩的微纳米级网格框架结构，再将该微纳米级网格框架结构通过纳米压印技术转印到光学基底上便可获得兼顾耐磨性的3A光学膜。
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