本发明公开了一种倾斜沉积制备反射式偏振光栅的方法，包括以下步骤：1)在基底上涂覆压印胶；2)将宽周期光栅模板图案压印转移到基底的压印胶上，脱模、固化；3)利用倾斜沉积工艺在压印胶层的侧壁和顶部沉积金属线栅层；4)采用干法刻蚀工艺对金属线栅层的光栅顶部进行刻蚀；5)通过显影工艺去除光刻胶层，得到反射式偏振光栅。本发明提供的倾斜沉积制备反射式偏振光栅的方法，采用倾斜沉积技术，可通过宽周期光栅纳米压印母版制备窄周期、高深宽比的反射式偏振光栅，能降低成本，提高效率，可解决纳米压印技术中窄周期、高深宽比母版制备的难点。