本发明公开了一种基于微纳结构的增透、疏水、防眩、耐磨光学膜及其制备方法，该光学膜包括基底以及阵列设置在所述基底上的若干第一微结构和第二微结构；若干第二微结构在基底上围绕形成若干在平面内为封闭结构的网格框架，若干网格框架阵列布置，每个网格框架内均阵列设置若干所述第一微结构，所述第一微结构的横截面尺寸由上至下逐渐减小。本发明首先通过光学设计软件仿真模拟出在380‑780nm波段具有超低反射率的第一微结构，随后在第一微结构的基础上再设置第二微结构，得到兼具耐磨、疏水、防眩的微纳米级网格框架结构，再将该微纳米级网格框架结构通过纳米压印技术转印到光学基底上便可获得兼顾耐磨性的3A光学膜。